Originele taal-2 | Engels |
---|---|
Pagina's (van-tot) | 848-848 |
Aantal pagina's | 1 |
Tijdschrift | Plasma Processes and Polymers |
Volume | 4 |
Nummer van het tijdschrift | 9 |
DOI's |
|
Status | Gepubliceerd - 22 nov. 2007 |
Erratum: Remote plasma deposited silicon dioxide-like film densification by means of RF substrate biasing: Film chemistry and morphology (Plasma Processes and Polymers (2007) vol. 4 doi: 10.1002/ppap.200700007 (621-628))
Antonella Milella, Mariadriana Creatore, Michiel A. Blauw, Mauritius C.M. van de Sanden
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Commentaar/Brief aan de redacteur › Academic › peer review