Erratum: Remote plasma deposited silicon dioxide-like film densification by means of RF substrate biasing: Film chemistry and morphology (Plasma Processes and Polymers (2007) vol. 4 doi: 10.1002/ppap.200700007 (621-628))

Antonella Milella, Mariadriana Creatore, Michiel A. Blauw, Mauritius C.M. van de Sanden

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftCommentaar/Brief aan de redacteurAcademicpeer review

Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)848-848
Aantal pagina's1
TijdschriftPlasma Processes and Polymers
Volume4
Nummer van het tijdschrift9
DOI's
StatusGepubliceerd - 22 nov. 2007

Citeer dit