Originele taal-2 | Engels |
---|---|
Pagina's (van-tot) | 5507 |
Aantal pagina's | 1 |
Tijdschrift | Journal of Applied Physics |
Volume | 91 |
Nummer van het tijdschrift | 8 |
DOI's |
|
Status | Gepubliceerd - 15 apr. 2002 |
Erratum: Ion-channeling analysis of boron clusters in silicon (Journal of Applied Physics (2001) 90 (4741))
L.J.M. Selen, F.J.J. Janssen, L.J. Van Ijzendoorn, M.J.A. De Voigt, M.J.J. Theunissen, P.J.M. Smulders, T.J. Eijkemans
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Commentaar/Brief aan de redacteur › Academic › peer review
1
Citaat
(Scopus)
115
Downloads
(Pure)