Erratum: Ion-channeling analysis of boron clusters in silicon (Journal of Applied Physics (2001) 90 (4741))

L.J.M. Selen, F.J.J. Janssen, L.J. Van Ijzendoorn, M.J.A. De Voigt, M.J.J. Theunissen, P.J.M. Smulders, T.J. Eijkemans

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftCommentaar/Brief aan de redacteurAcademicpeer review

1 Citaat (Scopus)
73 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)5507
Aantal pagina's1
TijdschriftJournal of Applied Physics
Volume91
Nummer van het tijdschrift8
DOI's
StatusGepubliceerd - 15 apr 2002

Citeer dit