Deposition of silicon oxide films by means of a remote thermal plasma

M.F.A.M. Hest, van, M.C.M. Sanden, van de, D.C. Schram

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

1 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
TitelProceedings of the CIP '99, 12th International Colloquium on Plasma Processes : June 6 - 10, 1999, Antibes - Juan-les-Pins, France
Plaats van productieParis
UitgeverijSociété Française du Vide
Pagina's259-261
StatusGepubliceerd - 1999
EvenementCIP '99 : International Colloquium on Plasma Processes ; 12 - Juan-les-Pins
Duur: 6 jun. 199910 jun. 1999

Publicatie series

NaamVide: Science, Technique et Applications
Volume291
ISSN van geprinte versie1266-0167

Congres

CongresCIP '99 : International Colloquium on Plasma Processes ; 12
StadJuan-les-Pins
Periode6/06/9910/06/99
Ander

Citeer dit