Depositie van polykristallijn silicium voor dunne-film zonnecellen

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

125 Downloads (Pure)

Samenvatting

In dit artikel beschrijven we de succesvolle depositie door middel van een expanderend thermisch plasma (ETP) van polykristallijn silicium (poly-Si), een aantrekkkelijk materiaal voor dunne-film zonnencellen.
Originele taal-2Nederlands
Pagina's (van-tot)6-11
TijdschriftNevac Blad
Volume51
Nummer van het tijdschrift1
StatusGepubliceerd - 2013

Citeer dit