Samenvatting
In dit artikel beschrijven we de succesvolle depositie door middel van een expanderend thermisch plasma (ETP) van polykristallijn silicium (poly-Si), een aantrekkkelijk materiaal voor dunne-film zonnencellen.
| Originele taal-2 | Nederlands |
|---|---|
| Pagina's (van-tot) | 6-11 |
| Tijdschrift | Nevac Blad |
| Volume | 51 |
| Nummer van het tijdschrift | 1 |
| Status | Gepubliceerd - 2013 |