Doorgaan naar hoofdnavigatie Doorgaan naar zoeken Ga verder naar hoofdinhoud

Computing aberration coefficients for plane-symmetric reflective systems: A Lie algebraic approach

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

70 Downloads (Pure)

Samenvatting

We apply the Lie algebraic method to reflecting optical systems with plane-symmetric freeform mirrors. Using analytical ray-tracing equations, we construct an optical map. The expansion of this map gives us the aberration coefficients in terms of initial ray coordinates. The Lie algebraic method is applied to treat aberrations up to arbitrary order. The presented method provides a systematic and rigorous approach to the derivation, treatment, and composition of aberrations in plane-symmetric systems. We give the results for second- and third-order aberrations and apply them to three single-mirror examples.

Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)1215-1224
Aantal pagina's10
TijdschriftJournal of the Optical Society of America A, Optics, Image Science and Vision
Volume40
Nummer van het tijdschrift6
DOI's
StatusGepubliceerd - 1 jun. 2023

Financiering

Topconsortium voor Kennis en Innovatie (\u201CPhotolitho MCS\u201D (TKI-HTSM 19.0162)). The authors thank Teus Tukker (ASML) for his fruitful remarks.

FinanciersFinanciernummer
Topconsortium voor Kennis en InnovatieTKI-HTSM 19.0162

    Vingerafdruk

    Duik in de onderzoeksthema's van 'Computing aberration coefficients for plane-symmetric reflective systems: A Lie algebraic approach'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

    Citeer dit