Characterization of thermal and electrical stability of MOCVD HfO 2-HfSiO4 dielectric layers with polysilicon electrodes for advanced CMOS technologies

Z.M. Rittersma, J.J.G.P. Loo, Y.V. Ponomarev, M.A. Verheijen, M. Kaiser, F. Roozeboom, S. van Elshocht, M. Caymax

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftArtikel recenserenAcademicpeer review

11 Citaten (Scopus)

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'Characterization of thermal and electrical stability of MOCVD HfO <sub>2</sub>-HfSiO<sub>4</sub> dielectric layers with polysilicon electrodes for advanced CMOS technologies'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Engineering en materiaalwetenschappen

Chemische stoffen

Fysica en Astronomie