Atomic layer deposition and selective etching of ruthenium for area-selective deposition: Temperature dependence and supercycle design

Martijn F.J. Vos, Sonali N. Chopra, John G. Ekerdt, Sumit Agarwal, Wilhelmus M.M. Kessels, Adriaan J.M. Mackus (Corresponding author)

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

1 Downloads (Pure)

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'Atomic layer deposition and selective etching of ruthenium for area-selective deposition: Temperature dependence and supercycle design'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Engineering en materiaalwetenschappen

Fysica en Astronomie

Chemische stoffen