Atom lithography without laser cooling

B. Smeets, P. Straten, van der, T. Meijer, C.G.C.H.M. Fabrie, K.A.H. Leeuwen, van

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

11 Citaten (Scopus)
111 Downloads (Pure)


Using direct-write atom lithography, Fe nanolines are deposited with a pitch of 186 nm, a full width at half maximum (FWHM) of 50 nm, and a height of up to 6 nm. These values are achieved by relying on geometrical collimation of the atomic beam, thus without using laser collimation techniques. This opens the way for applying direct-write atom lithography to a wide variety of elements.
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)697-705
Aantal pagina's9
TijdschriftApplied Physics B: Lasers and Optics
Nummer van het tijdschrift4
StatusGepubliceerd - 2010


Duik in de onderzoeksthema's van 'Atom lithography without laser cooling'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit