Area-selective deposition of Ruthenium by combining atomic layer deposition and selective etching

Martijn F.J. Vos, Sonali N. Chopra, Marcel A. Verheijen, John G. Ekerdt, Sumit Agarwal, Wilhelmus M.M. Kessels, Adriaan J.M. Mackus (Corresponding author)

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

21 Citaten (Scopus)
164 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)3878-3882
Aantal pagina's5
TijdschriftChemistry of Materials
Volume31
Nummer van het tijdschrift11
DOI's
StatusGepubliceerd - 22 mei 2019

Citeer dit