Doorgaan naar hoofdnavigatie Doorgaan naar zoeken Ga verder naar hoofdinhoud

Analysis of blister formation in spatial ALD Al2O3 for silicon surface passivation

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Samenvatting

Aluminum oxide (Al2O3) thin films yield excellent surface passivation of silicon solar cells. However, unwanted delamination, known as blisters, can occur upon annealing. In this research, blistering is linked to hydrogen diffusion in the bulk. Results reveal competition between diffusion lateral and perpendicular to the interface. Therefore, large blister densities coincide with small blister diameters and vice versa. The total blister volume, however, is independent of blister size distribution, but linked to hydrogen diffusion from the Al2O3 bulk. The blister volume was determined using AFM measurements, which show identical blister shapes for different blister sizes. Additionally, no direct relationship between blister formation and minority carrier was found.

Originele taal-2Engels
TitelProgram - 38th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, PVSC 2012
Pagina's1049-1054
Aantal pagina's6
DOI's
StatusGepubliceerd - 26 nov 2012
Evenement38th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC 2012) - Austin Convention Center, Austin, Verenigde Staten van Amerika
Duur: 3 jun 20128 jun 2012
Congresnummer: 38
https://www.ieee-pvsc.org/PVSC38/

Congres

Congres38th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC 2012)
Verkorte titelPVSC 2012
Land/RegioVerenigde Staten van Amerika
StadAustin
Periode3/06/128/06/12
AnderPVSC
Internet adres

Duurzame ontwikkelingsdoelstellingen van de VN

Deze output draagt bij aan de volgende duurzame ontwikkelingsdoelstelling(en)

  1. SDG 7 – Betaalbare en schone energie
    SDG 7 – Betaalbare en schone energie

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'Analysis of blister formation in spatial ALD Al2O3 for silicon surface passivation'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit