An expanding thermal plasma for deposition of surface textured ZnO:Al with focus on thin film solar cell applications

R. Groenen, J.L. Linden, H.R.M. Lierop, van, D.C. Schram, A.D. Kuypers, M.C.M. Sanden, van de

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

59 Citaten (Scopus)
2 Downloads (Pure)

Samenvatting

A new method for low temperature deposition of surface textured ZnO:Al is presented utilizing an expanding thermal plasma created by a cascaded arc. Films are deposited at 200 degrees C at the rate of 0.65-0.75 nm s/sup -1/ exhibiting low resistivity (10/sup -3/ ncm), high visible transmittance (>80%) and a rough surface texture. First application in p-i-n a-Si:H solar cells indicates promising light trapping properties
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)40-43
Aantal pagina's4
TijdschriftApplied Surface Science
Volume173
Nummer van het tijdschrift1-2
DOI's
StatusGepubliceerd - 2001

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's van 'An expanding thermal plasma for deposition of surface textured ZnO:Al with focus on thin film solar cell applications'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit