ALD for 3D-integrated batteries : TiN AS Li-diffusion barrier

H.C.M. Knoops, M.E. Donders, L. Baggetto, M.C.M. Sanden, van de, R.A.H. Niessen, P.H.L. Notten, W.M.M. Kessels

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

4 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
TitelProceedings of the 8th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2008), June 29 - July 2008, Bruges, Belgium (Book of Abstracts)
RedacteurenW.M.M. Kessels, A. Delabie
Plaats van productieS.n.
Uitgeverijs.n.
Pagina'sWedA2b-4-
StatusGepubliceerd - 2008

Citeer dit