ALD for 3D-integrated batteries : TiN AS Li-diffusion barrier

H.C.M. Knoops, M.E. Donders, L. Baggetto, M.C.M. Sanden, van de, R.A.H. Niessen, P.H.L. Notten, W.M.M. Kessels

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

1 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
TitelProceedings of the 8th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2008), June 29 - July 2008, Bruges, Belgium (Book of Abstracts)
RedacteurenW.M.M. Kessels, A. Delabie
Plaats van productieS.n.
Uitgeverijs.n.
Pagina'sWedA2b-4-
StatusGepubliceerd - 2008

Citeer dit

Knoops, H. C. M., Donders, M. E., Baggetto, L., Sanden, van de, M. C. M., Niessen, R. A. H., Notten, P. H. L., & Kessels, W. M. M. (2008). ALD for 3D-integrated batteries : TiN AS Li-diffusion barrier. In W. M. M. Kessels, & A. Delabie (editors), Proceedings of the 8th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2008), June 29 - July 2008, Bruges, Belgium (Book of Abstracts) (blz. WedA2b-4-). s.n..