Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS 4 : new materials, processes and equipment

P.J. Timans (Redacteur), E.P. Gusev (Redacteur), H. Iwai (Redacteur), D.-L. Kwong (Redacteur), M. Öztürk (Redacteur), F. Roozeboom (Redacteur)

Onderzoeksoutput: Boek/rapport › Boekredactie › Academic

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS 4 : new materials, processes and equipment'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Material Science