A new concept for spatially divided deep reactive ion etching with ALD based passivation

F. Roozeboom, B.J. Kniknie, A.M. Lankhorst, G.J.J. Winands, R. Knaapen, M. Smets, P. Poodt, G. Dingemans, W. Keuning, W.M.M. Kessels

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

3 Citaten (Scopus)
2 Downloads (Pure)

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'A new concept for spatially divided deep reactive ion etching with ALD based passivation'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Engineering

Earth and Planetary Sciences

Chemical Engineering

Material Science