A model for the deposition of a-C: H using an expanding thermal arc

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

16 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Samenvatting

Amorphous hydrogenated carbon films have been deposited at high growth rates (10-70 nm/s) by seeding acetylene in an expanding thermal argon plasma. The influence of the substrate temperature in the range of -50-300°C on the film properties, e.g. refractive index, hydrogen content and the growth rate, has been investigated. From this, in combination with earlier results, a first attempt at a qualitative deposition model is given.

Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)1584-1589
Aantal pagina's6
TijdschriftSurface and Coatings Technology
Volume98
Nummer van het tijdschrift1-3
DOI's
StatusGepubliceerd - 1998

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'A model for the deposition of a-C: H using an expanding thermal arc'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit