A growth model for the fast deposition of a-Si:H

R.J. Severens, J. Bastiaanssen, M.C.M. Sanden, van de, D.C. Schram

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

28 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
TitelAVS, American Vacuum Society : 43rd national symposium, Philapdelphia, October 14-18, 1996 : Abstracts
StatusGepubliceerd - 1996

Citeer dit