Onderzoeksoutput zoeken

Zoek in alle inhoud

Filters voor Onderzoeksoutput

Concepten zoeken
Geselecteerde filters

Publicatiejaar

  • 2020
  • 2019
  • 2018
  • 2017
  • 2016
  • 2015
  • 2014
  • 2012
  • 2011

Auteur

  • W.M.M. (Erwin) Kessels
2020

ALD – a truly enabling nanotechnology: And how the Netherlands contributed to its wide spread application

Kessels, W. M. M., 2 jun 2020, In : Nevac Blad. 58, special, blz. 6-9 2.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

Area-Selective Atomic Layer Deposition of Two-Dimensional WS2 Nanolayers

Balasubramanyam, S., Merkx, M. J. M., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M., Mackus, A. J. M. & Bol, A. A., 4 mei 2020, In : ACS Materials Letters. 2, 5, blz. 511-518 8 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
1 Citaat (Scopus)

Atomic Layer Deposition of Al doped MoS2: Synthesizing a p-type 2D semiconductor with tunable carrier density

Vandalon, V., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M. & Bol, A. A., 25 sep 2020, (Geaccepteerd/In druk) In : ACS Applied Nano Materials. 13 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Atomic layer deposition of aluminum phosphate using AlMe3, PO(OMe)3 and O2 plasma: film growth and surface reactions

Hornsveld, N., Kessels, W. M. M. E. & Creatore, M. A., 5 mrt 2020, In : Journal of Physical Chemistry C. 124, 9, blz. 5495-5505 11 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
24 Downloads (Pure)
1 Downloads (Pure)
1 Citaat (Scopus)

Atomic layer deposition of ruthenium using an ABC-type process: Role of oxygen exposure during nucleation

Chopra, S. N., Vos, M. F. J., Verheijen, E., Ekerdt, J. G., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M., 18 sep 2020, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 38, 6, 9 blz., 062402.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Effect of an electric field during the deposition of silicon dioxide thin films by plasma enhanced atomic layer deposition: an experimental and computational study

Beladiya, V., Becker, M., Faraz, T., Kessels, W. M. M., Schenk, P., Otto, F., Fritz, T., Gruenewald, M., Helbing, C., Jandt, K. D., Tünnermann, A., Sierka, M. & Szeghalmi, A., 21 jan 2020, In : Nanoscale. 12, 3, blz. 2089-2102 14 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

3 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Erratum: History of atomic layer deposition and its relationship with the American Vacuum Society (Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films (2013)31 (050818) DOI: 10.1116/1.4816548)

Parsons, G. N., Elam, J. W., George, S. M., Haukka, S., Jeon, H., Kessels, W. M. M., Leskelä, M., Poodt, P., Ritala, M. & Rossnagel, S. M., 1 mei 2020, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 38, 3, 1 blz., 037001.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftCommentaar/Brief aan de redacteurAcademicpeer review

Open Access

Evidence for low-energy ions influencing plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2: Impact on the growth per cycle and wet etch rate

Arts, K., Deijkers, J. H., Faraz, T., Puurunen, R. L., Kessels, W. M. M. & Knoops, H. C. M., 20 jul 2020, In : Applied Physics Letters. 117, 3, 5 blz., 031602.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Evidence for Low-energy Ions Influencing Plasma-assisted Atomic Layer Deposition of SiO2: Impact on the Growth per Cycle and Wet Etch Rate

Kessels, W. M. M., 1 sep 2020, In : ILTPC Newsletter. 6, 1 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
3 Downloads (Pure)

Improved Passivation of n-Type Poly-Si Based Passivating Contacts by the Application of Hydrogen-Rich Transparent Conductive Oxides

Tutsch, L., Feldmann, F., Macco, B., Bivour, M., Kessels, W. M. M. E. & Hermle, M., jul 2020, In : IEEE Journal of Photovoltaics. 10, 4, blz. 986-991 6 blz., 9093196.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
2 Citaten (Scopus)
Open Access
Bestand
62 Downloads (Pure)

Mechanism of precursor blocking by acetylacetone inhibitor molecules during area-selective atomic layer deposition of SiO2

Merkx, M. J. M., Sandoval, T. E., Hausmann, D. M., Kessels, W. M. M. E. & Mackus, A. J. M., 28 apr 2020, In : Chemistry of Materials. 32, 8, blz. 3335-3345

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Metastable refractive index manipulation in hydrogenated amorphous silicon for reconfigurable photonics

Mohammed, M. A., Melskens, J., Stabile, R., Pagliano, F., Li, C., Kessels, W. M. M. & Raz, O., 1 mrt 2020, In : Advanced Optical Materials. 8, 6, 11 blz., 1901680.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
1 Citaat (Scopus)
20 Downloads (Pure)

On the hydrogenation of Poly-Si passivating contacts by Al2O3 and SiNx thin films

van de Loo, B. W. H., Macco, B., Schnabel, M., Stodolny, M. K., Mewe, A. A., Young, D. L., Nemeth, W., Stradins, P. & Kessels, W. M. M., 15 sep 2020, In : Solar Energy Materials and Solar Cells. 215, 6 blz., 110592.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
1 Citaat (Scopus)

Plasma-Assisted ALD of Highly Conductive HfNx: On the Effect of Energetic Ions on Film Microstructure

Karwal, S., Verheijen, M. A., Arts, K., Faraz, T., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 1 mei 2020, In : Plasma Chemistry and Plasma Processing. 40, 3, blz. 697-712 16 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
2 Citaten (Scopus)
8 Downloads (Pure)

Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Cobalt and Cobalt Nitride: What Controls the Incorporation of Nitrogen?

van Straaten, G., Deckers, R., Vos, M. F. J., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 2 sep 2020, In : Journal of Physical Chemistry C. 9 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Probing the origin and suppression of vertically oriented nanostructures of 2D WS2 layers

Balasubramanyam, S., Bloodgood, M., van Ommeren, M., Faraz, T., Vandalon, V., Kessels, W. M. M. E., Verheijen, M. A. & Bol, A. A., 22 jan 2020, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 12, 3, blz. 3873-3885 13 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
1 Citaat (Scopus)
26 Downloads (Pure)

Self-aligned local contact opening and n+ diffusion by single-step laser doping from POx/Al2O3 passivation stacks

Black, L. E., Ernst, M., Theeuwes, R. J., Melskens, J., Macdonald, D. & Kessels, W. M. M., 1 nov 2020, In : Solar Energy Materials and Solar Cells. 217, 7 blz., 110717.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

2019

Area-selective atomic layer deposition of ZnO by area activation using electron beam-induced deposition

Mameli, A., Karasulu, B., Verheijen, M., Barcones Campo, B., Macco, B., Mackus, A., Kessels, E. & Roozeboom, F., 26 feb 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 4, blz. 1250-1257 8 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
12 Citaten (Scopus)
55 Downloads (Pure)

Area-selective deposition of Ruthenium by combining atomic layer deposition and selective etching

Vos, M. F. J., Chopra, S. N., Verheijen, M. A., Ekerdt, J. G., Agarwal, S., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M., 22 mei 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 11, blz. 3878-3882 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
10 Citaten (Scopus)
128 Downloads (Pure)

Atomic layer deposition of cobalt phosphate thin films for the oxygen evolution reaction

Di Palma, V., Zafeiropoulos, G., Goldsweer, T., Kessels, W. M. M., van de Sanden, M. C. M., Creatore, M. & Tsampas, M. N., 1 jan 2019, In : Electrochemistry Communications. 98, blz. 73-77 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
8 Citaten (Scopus)
103 Downloads (Pure)

Chemical analysis of the interface between hybrid organic−inorganic perovskite and atomic layer deposited Al2O3

Koushik, D., Hazendonk, L., Zardetto, V., Vandalon, V., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 6 feb 2019, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 11, 5, blz. 5526-5535 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
8 Citaten (Scopus)
158 Downloads (Pure)

Data on dopant characteristics and band alignment of CdTe cells with and without a ZnO highly-resistive-transparent buffer layer

Kartopu, G., Williams, B. L., Zardetto, V., Gürlek, A. K., Clayton, A. J., Jones, S., Kessels, W. M. M., Creatore, M. & Irvine, S. J. C., 1 feb 2019, In : Data in Brief. 22, blz. 218-221 4 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
39 Downloads (Pure)
Open Access
Bestand
8 Citaten (Scopus)
120 Downloads (Pure)

Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties

Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

21 Citaten (Scopus)
3 Downloads (Pure)

Enhancement of the photocurrent and efficiency of CdTe solar cells suppressing the front contact reflection using a highly-resistive ZnO buffer layer

Kartopu, G., Williams, B. L., Zardetto, V., Gürlek, A. K., Clayton, A. J., Jones, S., Kessels, W. M. M., Creatore, M. & Irvine, S. J. C., mrt 2019, In : Solar Energy Materials and Solar Cells. 191, blz. 78-82 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
18 Citaten (Scopus)
47 Downloads (Pure)

Film conformality and extracted recombination probabilities of O atoms during plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2, TiO2, Al2O3, and HfO2

Arts, K., Utriainen, M., Puurunen, R. L., Kessels, E. & Knoops, H., 7 nov 2019, In : Journal of Physical Chemistry C. 123, 44, blz. 27030-27035 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
6 Citaten (Scopus)
31 Downloads (Pure)

From the bottom-up: toward area-selective atomic layer deposition with high selectivity

Mackus, A. J. M., Merkx, M. J. M. & Kessels, W. M. M., 8 jan 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 1, blz. 2-12 11 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
38 Citaten (Scopus)
357 Downloads (Pure)

Infrared and optical emission spectroscopy study of atmospheric pressure plasma-enhanced spatial ALD of Al2O3

Mione, M., Engeln, R., Vandalon, V., Kessels, E. & Roozeboom, F., 19 aug 2019, In : Applied Physics Letters. 115, 8, 5 blz., 083101.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
1 Downloads (Pure)

Infrared and optical emission spectroscopy study of the surface chemistry in atmospheric-pressure plasma-enhanced spatial ALD of Al2O3

Mione, M., Engeln, R., Vandalon, V., Kessels, E. & Roozeboom, F., 2019, In : ECS Transactions. 92, 3, blz. 35-44 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Initial growth study of atomic-layer deposition of Al2O3 by vibrational sum-frequency generation

Vandalon, V. & Kessels, E., 13 aug 2019, In : Langmuir. 35, 32, blz. 10374-10382 9 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
1 Citaat (Scopus)
22 Downloads (Pure)

Ion energy control during plasma-enhanced atomic layer deposition: enabling materials control and selective processing in the third dimension

Faraz, T., Knoops, H. & Kessels, E., 11 apr 2019, In : Nevac Blad. 57, 1, blz. 6-10 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

Open Access
Bestand
50 Downloads (Pure)

Low temperature phase-controlled synthesis of titanium di- and tri-sulfide by atomic layer deposition

Basuvalingam, S., Zhang, Y., Bloodgood, M., Godiksen, R. H., González Curto, A., Hofmann, J. P., Verheijen, M., Kessels, E. & Bol, A., 26 nov 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 22, blz. 9354-9362 9 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
93 Downloads (Pure)

Mass spectrometry study of Li2CO3 film growth by thermal and plasma-assisted atomic layer deposition

Hornsveld, N., Kessels, E. & Creatore, A., 21 feb 2019, In : Journal of Physical Chemistry C. 123, 7, blz. 4109-4115 7 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
1 Citaat (Scopus)
6 Downloads (Pure)

On the effect of atomic layer deposited Al2O3 on the environmental degradation of hybrid perovskite probed by positron annihilation spectroscopy

Koushik, D., Naziris, F., Melskens, J., Nusteling, A., Zardetto, V., Schut, H., Kessels, W. M. M., Eijt, S. W. H. & Creatore, M., 14 mei 2019, In : Journal of Materials Chemistry C. 7, 18, blz. 5275-5284 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

4 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

On the role of micro-porosity in affecting the environmental stability of atomic/molecular layer deposited (ZnO) : A (Zn-O-C 6 H 4 -O) b films

Aghaee, M., Niemelä, J. P., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 14 feb 2019, In : Dalton Transactions. 48, 10, blz. 3496-3505 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

8 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Performance and thermal stability of an a-Si:H/TiOx/Yb stack as an electron-selective contact in silicon heterojunction solar cells

Cho, J., Melskens, J., Payo, M. R., Debucquoy, M., Radhakrishnan, H. S., Gordon, I., Szlufcik, J., Kessels, W. M. M. & Poortmans, J., 25 feb 2019, In : ACS Applied Energy Materials. 2, 2, blz. 1393-1404 12 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

8 Citaten (Scopus)

Photovoltaic cell and a method for manufacturing the same

Kessels, E. & Black, L., 12 sep 2019, Octrooi Nr. WO2019172770, Prioriteitsdatum 9 mrt 2018, Prioriteitsnummer NL20182020560 20180309

Onderzoeksoutput: OctrooiOctrooi-publicatie

Open Access
Bestand
9 Downloads (Pure)

Plasma-assisted ALD of LiPO(N) for solid state batteries

Put, B., Mees, M. J., Hornsveld, N., Hollevoet, S., Sepúlveda, A., Vereecken, P. M., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 12 apr 2019, In : Journal of the Electrochemical Society. 166, 6, blz. A1239-A1242 4 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

5 Citaten (Scopus)
3 Downloads (Pure)

Plasma-assisted atomic layer deposition of nickel oxide as hole transport layer for hybrid perovskite solar cells

Koushik, D., Jošt, M., Dučinskas, A., Burgess, C., Zardetto, V., Weijtens, C., Verheijen, M., Kessels, E., Albrecht, S. & Creatore, A., 17 sep 2019, In : Journal of Materials Chemistry C. 7, 40, blz. 12532-12543 12 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
4 Citaten (Scopus)
56 Downloads (Pure)

Rear-emitter silicon heterojunction solar cells with atomic layer deposited ZnO:Al serving as an alternative transparent conducting oxide to In2O3:Sn

Niemelä, J., Macco, B., Barraud, L., Descoeudres, A., Badel, N., Despeisse, M., Christmann, G., Nicolay, S., Ballif, C., Kessels, E. & Creatore, A., 15 sep 2019, In : Solar Energy Materials and Solar Cells. 200, 109953, 5 blz., 109953.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
8 Citaten (Scopus)
42 Downloads (Pure)

Silicon surface passivation by transparent conductive zinc oxide

van de Loo, B. W. H., Macco, B., Melskens, J., Beyer, W. & Kessels, E., 14 mrt 2019, In : Journal of Applied Physics. 125, 10, 9 blz., 105305.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
5 Citaten (Scopus)
27 Downloads (Pure)

Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition

Knoops, H., Faraz, T., Arts, K. & Kessels, E., 1 mei 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 26 blz., 030902.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
26 Citaten (Scopus)
325 Downloads (Pure)

Sticking probabilities of H2O and Al(CH3)3 during atomic layer deposition of Al2O3 extracted from their impact on film conformality

Arts, K., Vandalon, V., Puurunen, R. L., Utriainen, M., Gao, F., Kessels, E. & Knoops, H., 24 apr 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 5 blz., 030908.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
6 Citaten (Scopus)
5 Downloads (Pure)

TiO2 thin film patterns prepared by chemical vapor deposition and atomic layer deposition using an atmospheric pressure microplasma printer

Aghaee, M., Verheijen, J., Stevens, A. A. E., Kessels, E. & Creatore, A., dec 2019, In : Plasma Processes and Polymers. 16, 12, 14 blz., 1900127.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
3 Citaten (Scopus)
32 Downloads (Pure)

Transition in layer structure of atomic/molecular layer deposited ZnO-zincone multilayers

Niemelä, J., Aghaee, M., Kessels, E., Creatore, A. & Verheijen, M., 1 jul 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 4, 4 blz., 040602.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
1 Citaat (Scopus)
4 Downloads (Pure)