Onderzoeksoutput zoeken

Zoek in alle inhoud

Filters voor Onderzoeksoutput

Concepten zoeken
Geselecteerde filters

Publicatiejaar

  • 2019
  • 2018
  • 2017
  • 2016
  • 2015
  • 2014
  • 2013
  • 2012
  • 2011

Auteur

  • W.M.M. (Erwin) Kessels
2011

Atomic layer deposition of Ru from CpRu(CO2)Et using O2 gas and O2 plasma

Leick, N., Verkuijlen, R. O. F., Lamagna, L., Langereis, E., Rushworth, S. A., Roozeboom, F., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 29, 2, blz. 021016-1/7 7 blz., 021016.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
40 Citaten (Scopus)
112 Downloads (Pure)

Controlling the fixed charge and passivation properties of Si(100)Al2O3 interfaces using ultrathin SiO2 interlayers synthesized by atomic layer deposition

Dingemans, G., Terlinden, N. M., Verheijen, M. A., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of Applied Physics. 110, 9, blz. 093715-1/6 6 blz., 093715.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

107 Citaten (Scopus)
4 Downloads (Pure)

Dielectric properties of thermal and plasma-assisted atomic layer deposition Al2O3 thin films

Jinesh, K. B., Hemmen, van, J. L., Sanden, van de, M. C. M., Roozeboom, F., Klootwijk, J. H., Besling, W. F. A. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 2, blz. G21-G26

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
35 Citaten (Scopus)
348 Downloads (Pure)

Effective passivation of Si surfaces by plasma deposited SiOx/a-SiNx:H stacks

Dingemans, G., Mandoc, M. M., Bordhin, S., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Applied Physics Letters. 98, 22, blz. 222102-1/3 3 blz., 222102.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
48 Citaten (Scopus)
231 Downloads (Pure)

Enhancing the wettability of high aspect-ratio through-silicon vias lined with LPCVD silicon nitride or PE-ALD titanium nitride for void-free bottom-up copper electroplating

Saadaoui, M., Zeijl, Van, H., Wien, W. H. A., Pham, H. T. M., Kwakernaak, C., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M., Sanden, van de, M. C. M., Voogt, F. C., Roozeboom, F. & Sarro, P. M., 2011, In : IEEE Transactions on Components and Packaging Technologies. 1, 11, blz. 1728-1738 11 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

7 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Er3+ and Si luminescence of atomic layer deposited Er-doped Al2O3 thin films on Si(100)

Dingemans, G., Clark, A., van Delft, J. A., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of Applied Physics. 109, 11, blz. 113107-1/9 9 blz., 113107.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
18 Citaten (Scopus)
122 Downloads (Pure)

Excellent Si surface passivation by low temperature SiO2 using an ultrathin Al2O3 capping film

Dingemans, G., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Physica Status Solidi : Rapid Research Letters. 1, blz. 22-24

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

59 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

High surface passivation quality and thermal stability of ALD Al2O3 on wet chemical grown ultra-thin SiO2 on silicon

Bordihn, S., Engelhart, P., Mertens, V., Kesser, G., Köhn, D., Dingemans, G., Mandoc, M. M., Müller, J. W. & Kessels, W. M. M., 2011, Proceedings of the SiliconPV 2011 Conference (1st International Conference on Crystalline Silicon Photovoltaics), 17-20 April 2011, Freiburg, Germany. Elsevier, blz. 654-659 (Energy Procedia; vol. 8).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

28 Citaten (Scopus)

Influence of the oxidant on the chemical and field-effect passivation of Si by ALD Al2O3

Dingemans, G., Terlinden, N. M., Pierreux, D., Profijt, H. B., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Electrochemical and Solid-State Letters. 14, 1, blz. H1-H4

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
114 Citaten (Scopus)
284 Downloads (Pure)

Ion and photon surface interaction during remote plasma ALD of metal oxides

Profijt, H. B., Kudlacek, P., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 4, blz. G88-G91

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
54 Citaten (Scopus)
147 Downloads (Pure)

Nanotechnologie is evolutie, geen revolutie

Kessels, W. M. M., 2011, In : Metaal en Techniek. 56, 99, blz. 32-33

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

Open Access
Bestand
46 Downloads (Pure)

Nucleation and growth of Pt atomic layer deposition on Al2O3 substrates using (methylcyclopentadienyl)-trimethyl platinum and O2 plasma

Baker, L., Cavanagh, A. S., Seghete, D., George, S. M., Mackus, A. J. M., Kessels, W. M. M., Liu, Z. Y. & Wagner, F. T., 2011, In : Journal of Applied Physics. 109, 8, blz. 084333-1/10 10 blz., 084333.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
81 Citaten (Scopus)
398 Downloads (Pure)

Plasma-assisted atomic layer deposition: basics, opportunities and challenges

Profijt, H. B., Potts, S. E., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 29, 5, blz. 050801-1/26 26 blz., 050801.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
498 Citaten (Scopus)
706 Downloads (Pure)

Plasma-assisted atomic layer deposition of low temperature SiO2

Dingemans, G., Helvoirt, van, C. A. A., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, Silicon Nitride, Silicon Dioxide, and Emerging Dielectrics 11. Sah, R. (redactie). blz. 191-204 (ECS Transactions; vol. 35).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

41 Citaten (Scopus)

Plasma-assisted atomic layer deposition of SrTiO3 : stoichiometry and crystallization study by spectroscopic ellipsometry

Longo, V., Leick, N., Roozeboom, F. & Kessels, W. M. M., 2011, Proceedings of the 220th ECS meeting and Electrochemical Energy Summit, October 9-14, 2011, Boston, Massachusetts. Gendt, de, A., Londergan, A., Bent, S., Straten, van der, O., Delabie, A. & Roozeboom, F. (redactie). Pennington: ECS, blz. 63-72 (ECS Transactions; vol. 41).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

7 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Plasma atomic layer deposition

Kessels, W. M. M., Profijt, H. B., Potts, S. E. & Sanden, van de, M. C. M., 2011, Atomic layer deposition of nanostructured materials. Pinna, N. & Knez, M. (redactie). Weinheim: Wiley-VCH Verlag, blz. 131-158

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureHoofdstukAcademic

6 Citaten (Scopus)

Plasma-enhanced atomic layer deposition of titania of alumina for its potential use as a hydrogen-selective membrane

Tran, T. H. Y., Haije, W. G., Longo, V., Kessels, W. M. M. & Schoonman, J., 2011, In : Journal of Membrane Science. 378, 1-2, blz. 438-443

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

10 Citaten (Scopus)
2 Downloads (Pure)

Remote plasma ALD of electrochemically active LiCoO2 for application in all-solid-state μbatteries

Donders, M. E., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M. & Notten, P. H. L., 2011, Proceedings of the Electrochemical Society Meeting (220th ECS Meeting), October 9 - 14, 2011, Boston.

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

1 Downloads (Pure)

Remote plasma ALD of SrTiO3 using cyclopentadienlyl-based Ti and Sr precursors

Langereis, E., Roijmans, R. F. H., Roozeboom, F., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 2, blz. G34-G38

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
30 Citaten (Scopus)
93 Downloads (Pure)

Remote plasma atomic layer deposition of Co3O4 thin films

Donders, M. E., Knoops, H. C. M., Sanden, van de, M. C. M., Kessels, W. M. M. & Notten, P. H. L., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 4, blz. G92-G96 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
59 Citaten (Scopus)
307 Downloads (Pure)

Remote plasma atomic layer deposition of thin films of electrochemically active LiCoO2

Donders, M. E., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M. & Notten, P. H. L., 2011, In : ECS Transactions. 41, 2, blz. 321-330 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
18 Citaten (Scopus)
112 Downloads (Pure)

Selective in-situ atomic layer deposition on structures created with EBID

Mackus, A. J. M., Kessels, W. M. M. & Mulders, J. J. L., 2011, In : Microscopy and Analysis. 25, 4, blz. 5-8

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

4 Downloads (Pure)

Surface loss in ozone-based atomic layer deposition processes

Knoops, H. C. M., Elam, J. W., Libera, J. A. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Chemistry of Materials. 23, 9, blz. 2381-2387

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

51 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Ultra-thin aluminium oxide films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition for corrosion protection

Potts, S. E., Schmalz, L., Fenker, M., Díaz, B., Swiatowska, J., Maurice, V., Seyeux, A., Marcus, P., Radnóczi, G., Tóth, L. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 5, blz. C132-C138 7 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
72 Citaten (Scopus)
535 Downloads (Pure)