Onderzoeksoutput zoeken

Zoek in alle inhoud

Filters voor Onderzoeksoutput

Concepten zoeken
Geselecteerde filters

Publicatiejaar

  • 2019
  • 2018
  • 2017
  • 2016
  • 2015
  • 2014
  • 2013
  • 2012
  • 2011

Auteur

  • W.M.M. (Erwin) Kessels
2013

History of atomic layer deposition and its relationship with the American Vacuum Society

Parsons, G. N., Elam, J. W., George, S. M., Haukka, S., Jeon, H., Kessels, W. M. M., Leskelä, M., Poodt, P., Ritala, M. & Rossnagel, S. M., 2013, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 31, 5, blz. 050818-1/11 11 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
56 Citaten (Scopus)
897 Downloads (Pure)

Hydrogen-argon plasma pre-treatment for improving the anti-corrosion properties of thin Al2O3 films deposited using atomic layer deposition on steel

Härkönen, E., Potts, S. E., Kessels, W. M. M., Díaz, B., Seyeux, A., Swiatowska, J., Maurice, V., Marcus, P., Radnóczi, G., Tóth, L., Kariniemi, M., Niinistö, J. & Ritala, M., 2013, In : Thin Solid Films. 534, blz. 384-393 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

19 Citaten (Scopus)
9 Downloads (Pure)
79 Citaten (Scopus)
2 Downloads (Pure)

Nanofabricage van koolstofnanobuistransistors met atoomlaagdepositie

Thissen, N. F. W., Mackus, A. J. M., Kessels, W. M. M. & Bol, A. A., 2013, In : Nevac Blad. 51, 3, blz. 10-

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

2 Downloads (Pure)

Passivated tunneling contacts for c-Si solar cells

Garcia - Alonso, D., Smit, S., Bordihn, S. & Kessels, W. M. M., 2013, In : Europhysics News. 44, 5, blz. 10-10 1 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftMeeting AbstractAcademic

Open Access
Bestand
31 Citaten (Scopus)
44 Downloads (Pure)

Passivation of n+-type Si surfaces by low temperature processed SiO2/Al2O3 stack

Bordihn, S., Dingemans, G., Mertens, V., Müller, J. W. & Kessels, W. M. M., 2013, In : IEEE Journal of Photovoltaics. 3, 3, blz. 925-929 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

6 Citaten (Scopus)
3 Downloads (Pure)

Plasma-assisted atomic layer deposition of SrTiO3 : stoichiometry and crystallinity studied by spectroscopic ellipsometry

Longo, V., Leick, N., Roozeboom, F. & Kessels, W. M. M., 2013, In : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 2, 1, blz. N15-N22

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
24 Citaten (Scopus)
209 Downloads (Pure)

Plasma- en materiaal-onderzoek in Eindhoven

Brunner, E., Boer, de, M. & Kessels, W. M. M., 2013, In : Nederlands Tijdschrift voor Natuurkunde. 79, 10, blz. 388-390 3 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

1 Downloads (Pure)

Room-temperature ALD of metal oxide thin films by energy-enhanced ALD

Potts, S. E., Profijt, H. B., Roelofs, R. & Kessels, W. M. M., 2013, In : Chemical Vapor Deposition. 19, 4-6, blz. 125-133 9 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

40 Citaten (Scopus)
7 Downloads (Pure)

Room-temperature atomic layer deposition of platinum

Mackus, A. J. M., Garcia-Alonso Garcia, D., Knoops, H. C. M., Bol, A. A. & Kessels, W. M. M., 2013, In : Chemistry of Materials. 25, 9, blz. 1769-1774 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

50 Citaten (Scopus)
4 Downloads (Pure)

Room Temperature Sensing of O2 and CO by Atomic Layer Deposition Prepared ZnO Films Coated with Pt Nanoparticles

Erkens, I. J. M., Blauw, M. A., Verheijen, M. A., Roozeboom, F. & Kessels, W. M. M., 2013, Proceedings of the 224th ECS Meeting, October 27 – November 1, 2013, San Francisco, California. Roozeboom, F. & Delabie, A. (redactie). ECS, blz. 203- (ECS Transactions; vol. 58).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

3 Citaten (Scopus)

Silicon passivation and tunneling contact formation by atomic layer deposited Al2O3/ZnO stacks

Garcia-Alonso Garcia, D., Smit, S., Bordihn, S. & Kessels, W. M. M., 2013, In : Semiconductor Science and Technology. 28, 8, blz. 082002- 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

27 Citaten (Scopus)
3 Downloads (Pure)

Silicon surface passivation by aluminium oxide studied with electron energy loss spectroscopy

Hoex, B., Bosman, M., Nandakumar, N. & Kessels, W. M. M., 2013, In : Physica Status Solidi : Rapid Research Letters. 7, 11, blz. 937-941 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

18 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Substrate-biasing during plasma-assisted atomic layer deposition to tailor metal-oxide thin film growth

Profijt, H. B., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2013, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 31, blz. 01A106-1/10

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
59 Citaten (Scopus)
413 Downloads (Pure)

Surface passivation and simulated performance of solar cells with Al2O3/SiNx rear dielectric stacks

Bordihn, S., van Delft, J. A., Mandoc, M. M., Müller, J. W. & Kessels, W. M. M., 2013, In : IEEE Journal of Photovoltaics. 3, 3, blz. 970-975 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

9 Citaten (Scopus)
5 Downloads (Pure)
2012

Analysis of blister formation in spatial ALD Al2O3 for silicon surface passivation

Hennen, L., Granneman, E. H. A. & Kessels, W. M. M., 26 nov 2012, Program - 38th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, PVSC 2012. blz. 1049-1054 6 blz. 6317783

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

20 Citaten (Scopus)

A new concept for spatially divided Deep Reactive Ion Etching with ALD-based passivation

Roozeboom, F., Kniknie, B. J., Lankhorst, A. M., Winands, G. J. J., Knaapen, R., Smets, M., Poodt, P., Dingemans, G., Keuning, W. & Kessels, W. M. M., 2012, Proceedings of the E-MRS 2012 Spring meeting, symposium M : more than Moore : novel materials approaches for functionalised silicon based microelectronics, 14-18 May 2012, Strassbourg, France. Institute of Physics, blz. 012001- (IOP Conference Series: Material Science and Engineering; vol. 41).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Open Access
Bestand
8 Citaten (Scopus)
187 Downloads (Pure)

Atomic layer deposition for nanostructured Li-ion batteries

Knoops, H. C. M., Donders, M. E., Sanden, van de, M. C. M., Notten, P. H. L. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 30, 1, blz. 010801-1/10 10 blz., 010801.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
81 Citaten (Scopus)
186 Downloads (Pure)

Atomic layer deposition for photovoltaics : applications and prospects for solar cell manufacturing

van Delft, J. A., Garcia-Alonso Garcia, D. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Semiconductor Science and Technology. 27, 7, blz. 1-13 074002.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

139 Citaten (Scopus)
5 Downloads (Pure)

Catalytic combustion and dehydrogenation reactions during atomic layer deposition of platinum

Mackus, A. J. M., Leick, N., Baker, L. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Chemistry of Materials. 24, 10, blz. 1752-1761

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

83 Citaten (Scopus)
7 Downloads (Pure)

Cathode encapsulation of organic light emitting diodes by atomic layer deposited Al2O3 films and Al2O3/a-SiNx: H stacks

Keuning, W., Weijer, van de, P., Lifka, H., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 2012, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 30, 1, blz. 01A131-1/6 6 blz., 01A131.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
40 Citaten (Scopus)
213 Downloads (Pure)

CO3O4 as anode material for thin film micro-batteries prepared by remote plasma atomic layer deposition

Donders, M. E., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M. & Notten, P. H. L., 2012, In : Journal of Power Sources. 203, blz. 72-77 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

41 Citaten (Scopus)
2 Downloads (Pure)

Concept of spatially-divided deep reactive ion etching of si using oxide atomic layer deposition in the passivation cycle

Roozeboom, F., Kniknie, B., Knaapen, R., Smets, M., Illiberi, A., Poodt, P., Dingemans, G., Keuning, W. & Kessels, W. M. M., 1 jan 2012, 2012 4th Electronic System-Integration Technology Conference, ESTC 2012. IEEE Computer Society, 6542052

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Crystallization study by transmission electron microscopy of SrTiO3 thin films prepared by plasma-assisted ALD

Longo, V., Roozeboom, F., Kessels, W. M. M. & Verheijen, M. A., 2012, Pacific RIM meeting on electrochemical and solid-state science, (PRIME), October 7-12 2012, Honolulu Hawaii. blz. 69-77 (ECS Transactions; vol. 50).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

2 Citaten (Scopus)

Dehydrogenation reactions during atomic layer deposition of Ru using O2

Leick, N., Agarwal, S., Mackus, A. J. M. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Chemistry of Materials. 24, blz. 3696-3700

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

19 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

De invloed van ionen tijdens plasma-geassisteerde atoomlaagdepositie

Profijt, H. B., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Nevac Blad. 50, 3, blz. 21-27

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

De kunst van het maken

Kessels, W. M. M., 2012, Eindhoven: Technische Universiteit Eindhoven. 32 blz.

Onderzoeksoutput: Boek/rapportInaugurale redeAcademic

Open Access
Bestand
100 Downloads (Pure)

Impact of the deposition and annealing temperature on the silicon surface passivation of ALD Al2O3 films

Bordihn, S., Kiesow, I., Mertens, V., Engelhart, P., Müller, J. W. & Kessels, W. M. M., 1 jan 2012, In : Energy Procedia. 27, blz. 396-401 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftCongresartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
4 Citaten (Scopus)
42 Downloads (Pure)

Influence of annealing and Al2O3 properties on the hydrogen-induced passivation of the Si/SiO2 interface

Dingemans, G., Einsele, F., Beyer, W., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Journal of Applied Physics. 111, 9, blz. 1-9 093713.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

93 Citaten (Scopus)
4 Downloads (Pure)

Ion bombardment during plasma-assisted atomic layer deposition

Profijt, H. B. & Kessels, W. M. M., 2012, Pacific RIM meeting on electrochemical and solid-state science, (PRIME), October 7-12 2012, Honolulu Hawaii. blz. 23-34 (ECS Transactions; vol. 50).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

12 Citaten (Scopus)
3 Downloads (Pure)

Jaarringen

Mackus, A. J. M., Garcia-Alonso Garcia, D. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Nederlands Tijdschrift voor Natuurkunde. 78, 8, blz. 379-379

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

Latest advances in plasma techniques used for atomic layer deposition

Kessels, W. M. M., 2012

Onderzoeksoutput: Niet-tekstuele vormWeb publicatie / siteProfessioneel

Mass spectrometry study of the temperature dependence of Pt film growth by atomic layer deposition

Erkens, I. J. M., Mackus, A. J. M., Knoops, H. C. M., Smits, P., Ven, van de, T. H. M., Roozeboom, F. & Kessels, W. M. M., 2012, In : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 1, 6, blz. 255-262 8 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
26 Citaten (Scopus)
142 Downloads (Pure)

Nanocontacten schrijven met atoomlaagdepositie

Mackus, A. J. M., Dielissen, S. A. F., Mulders, J. J. L. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Nederlands Tijdschrift voor Natuurkunde. 78, 7, blz. 290-293 4 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

1 Downloads (Pure)

Nanopattering by direct-write atomic layer deposition

Mackus, A. J. M., Dielissen, S. A. F., Mulders, J. J. L. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Special Publication - Royal Society of Chemistry. 4, 15, blz. 4477-4480 4 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

47 Citaten (Scopus)
5 Downloads (Pure)

Plaatsopgeloste depositie van Pt nanostructuren door het combineren van elektronenbundel geïnduceerde depositie en atoomlaagdepositie

Dielissen, S. A. F., Mackus, A. J. M., Mulders, J. J. L. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Nevac Blad. 50, 2, blz. 7-9

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

Plasma-assisted ALD for the conformal deposition of SiO2 : process, material and electronic properties

Dingemans, G., Helvoirt, van, C. A. A., Pierreux, D., Keuning, W. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Journal of the Electrochemical Society. 159, 3, blz. H277-H285 9 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
88 Citaten (Scopus)
537 Downloads (Pure)

Plasma-enhanced and thermal atomic layer deposition of Al2O3 using dimethylaluminum isopropoxide , [Al(CH3)2(µ-OiPr)]2, as an alternative aluminum precursor

Potts, S. E., Dingemans, G., Lachaud, C. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 30, 2, blz. 021505-1/15 15 blz., 021505.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
42 Citaten (Scopus)
263 Downloads (Pure)

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of aluminum oxide using ultrashort precursor injection pulses

Dingemans, G., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Plasma Processes and Polymers. 9, 8, blz. 761-771

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

12 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Plasma pre-treatment

Potts, S. E. & Kessels, W. M. M., 13 dec 2012, Octrooi Nr. WO2012168248, Prioriteitsdatum 6 jun 2011, Prioriteitsnummer US201161520175P

Onderzoeksoutput: OctrooiOctrooi-publicatie

Open Access
Bestand
52 Downloads (Pure)
Open Access
Bestand
15 Citaten (Scopus)
120 Downloads (Pure)

Room-Temperature ALD of Metal Oxide Thin Films by Energy-Enhanced ALD

Potts, S. E., Profijt, H. B., Roelofs, R. & Kessels, W. M. M., 2012, Pacific RIM meeting on electrochemical and solid-state science, (PRIME), October 7-12 2012, Honolulu Hawaii. blz. 93-103 (ECS Transactions; vol. 50).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

1 Citaat (Scopus)
3 Downloads (Pure)

Status and prospects of Al2O3 –based surface passivation schemes for silicon solar cells

Dingemans, G. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 30, 4, blz. 040802-1/27 27 blz., 040802.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
485 Citaten (Scopus)
609 Downloads (Pure)

Substrate biasing during plasma-assisted ALD for crystalline phase-control of TiO2 thin films

Profijt, H. B., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Electrochemical and Solid-State Letters. 15, 2, blz. G1-G3

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
33 Citaten (Scopus)
222 Downloads (Pure)

Supported core/shell bimetallic nanoparticles synthesis by atomic layer deposition

Weber, M. J., Mackus, A. J. M., Verheijen, M. A., Marel, van der, C. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Chemistry of Materials. 24, 15, blz. 2973-2977 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

114 Citaten (Scopus)
2 Downloads (Pure)

Surface passivation by Al2O3 and a-SiNx: H films deposited on wet-chemically conditioned Si surfaces

Bordihn, S., Mertens, V., Engelhart, P., Kersten, K., Mandoc, M. M., Müller, J. W. & Kessels, W. M. M., 2012, In : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 1, 6, blz. P320-P325

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
4 Citaten (Scopus)
217 Downloads (Pure)

Surface passivation of phosphorus-diffused n+- type emitters by plasma-assisted atomic-layer deposited Al2O3

Hoex, B., Sanden, van de, M. C. M., Schmidt, J., Brendel, R. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Physica Status Solidi : Rapid Research Letters. 6, 1, blz. 4-6

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

66 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Thermal effusion measurements : probing hydrogen in surface passivation schemes

Dingemans, G., Beyer, W. & Kessels, W. M. M., 2012, Proceedings od the 38th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC 38) 3-8 June 2012, Austin, Texas. blz. 1256-1259

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

1 Citaat (Scopus)
1 Downloads (Pure)
2011

Advanced process technologies : plasma, direct-wire, atmospheric pressure, and roll-to-roll ALD

Kessels, W. M. M. & Putkonen, M., 2011, In : MRS Bulletin. 36, november 2011, blz. 907-913

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
56 Citaten (Scopus)
163 Downloads (Pure)

Aluminum oxide and other ALD materials for Si surface passivation

Dingemans, G. & Kessels, W. M. M., 2011, Atomic Layer Deposition Applications 7. Elam, J., De Gendt, S., Londergan, A., Bent, S. & et al., X. (redactie). blz. 293-301 (ECS Transactions; vol. 41).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

26 Citaten (Scopus)
2 Downloads (Pure)