Onderzoeksoutput zoeken

Zoek in alle inhoud

Filters voor Onderzoeksoutput

Concepten zoeken
Geselecteerde filters

Publicatiejaar

  • 2019
  • 2018
  • 2017
  • 2016
  • 2015
  • 2014
  • 2013
  • 2012
  • 2011

Auteur

  • W.M.M. (Erwin) Kessels
2011

Advanced process technologies : plasma, direct-wire, atmospheric pressure, and roll-to-roll ALD

Kessels, W. M. M. & Putkonen, M., 2011, In : MRS Bulletin. 36, november 2011, blz. 907-913

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
56 Citaten (Scopus)
163 Downloads (Pure)

Aluminum oxide and other ALD materials for Si surface passivation

Dingemans, G. & Kessels, W. M. M., 2011, Atomic Layer Deposition Applications 7. Elam, J., De Gendt, S., Londergan, A., Bent, S. & et al., X. (redactie). blz. 293-301 (ECS Transactions; vol. 41).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

26 Citaten (Scopus)
2 Downloads (Pure)

Atomic layer deposition of Ru from CpRu(CO2)Et using O2 gas and O2 plasma

Leick, N., Verkuijlen, R. O. F., Lamagna, L., Langereis, E., Rushworth, S. A., Roozeboom, F., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 29, 2, blz. 021016-1/7 7 blz., 021016.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
40 Citaten (Scopus)
112 Downloads (Pure)

Controlling the fixed charge and passivation properties of Si(100)Al2O3 interfaces using ultrathin SiO2 interlayers synthesized by atomic layer deposition

Dingemans, G., Terlinden, N. M., Verheijen, M. A., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of Applied Physics. 110, 9, blz. 093715-1/6 6 blz., 093715.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

107 Citaten (Scopus)
4 Downloads (Pure)

Dielectric properties of thermal and plasma-assisted atomic layer deposition Al2O3 thin films

Jinesh, K. B., Hemmen, van, J. L., Sanden, van de, M. C. M., Roozeboom, F., Klootwijk, J. H., Besling, W. F. A. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 2, blz. G21-G26

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
35 Citaten (Scopus)
348 Downloads (Pure)

Effective passivation of Si surfaces by plasma deposited SiOx/a-SiNx:H stacks

Dingemans, G., Mandoc, M. M., Bordhin, S., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Applied Physics Letters. 98, 22, blz. 222102-1/3 3 blz., 222102.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
48 Citaten (Scopus)
231 Downloads (Pure)

Enhancing the wettability of high aspect-ratio through-silicon vias lined with LPCVD silicon nitride or PE-ALD titanium nitride for void-free bottom-up copper electroplating

Saadaoui, M., Zeijl, Van, H., Wien, W. H. A., Pham, H. T. M., Kwakernaak, C., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M., Sanden, van de, M. C. M., Voogt, F. C., Roozeboom, F. & Sarro, P. M., 2011, In : IEEE Transactions on Components and Packaging Technologies. 1, 11, blz. 1728-1738 11 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

7 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Er3+ and Si luminescence of atomic layer deposited Er-doped Al2O3 thin films on Si(100)

Dingemans, G., Clark, A., van Delft, J. A., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of Applied Physics. 109, 11, blz. 113107-1/9 9 blz., 113107.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
18 Citaten (Scopus)
122 Downloads (Pure)

Excellent Si surface passivation by low temperature SiO2 using an ultrathin Al2O3 capping film

Dingemans, G., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Physica Status Solidi : Rapid Research Letters. 1, blz. 22-24

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

59 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

High surface passivation quality and thermal stability of ALD Al2O3 on wet chemical grown ultra-thin SiO2 on silicon

Bordihn, S., Engelhart, P., Mertens, V., Kesser, G., Köhn, D., Dingemans, G., Mandoc, M. M., Müller, J. W. & Kessels, W. M. M., 2011, Proceedings of the SiliconPV 2011 Conference (1st International Conference on Crystalline Silicon Photovoltaics), 17-20 April 2011, Freiburg, Germany. Elsevier, blz. 654-659 (Energy Procedia; vol. 8).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

28 Citaten (Scopus)

Influence of the oxidant on the chemical and field-effect passivation of Si by ALD Al2O3

Dingemans, G., Terlinden, N. M., Pierreux, D., Profijt, H. B., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Electrochemical and Solid-State Letters. 14, 1, blz. H1-H4

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
114 Citaten (Scopus)
284 Downloads (Pure)

Ion and photon surface interaction during remote plasma ALD of metal oxides

Profijt, H. B., Kudlacek, P., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 4, blz. G88-G91

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
54 Citaten (Scopus)
147 Downloads (Pure)

Nanotechnologie is evolutie, geen revolutie

Kessels, W. M. M., 2011, In : Metaal en Techniek. 56, 99, blz. 32-33

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

Open Access
Bestand
46 Downloads (Pure)

Nucleation and growth of Pt atomic layer deposition on Al2O3 substrates using (methylcyclopentadienyl)-trimethyl platinum and O2 plasma

Baker, L., Cavanagh, A. S., Seghete, D., George, S. M., Mackus, A. J. M., Kessels, W. M. M., Liu, Z. Y. & Wagner, F. T., 2011, In : Journal of Applied Physics. 109, 8, blz. 084333-1/10 10 blz., 084333.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
81 Citaten (Scopus)
398 Downloads (Pure)

Plasma-assisted atomic layer deposition: basics, opportunities and challenges

Profijt, H. B., Potts, S. E., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 29, 5, blz. 050801-1/26 26 blz., 050801.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
498 Citaten (Scopus)
706 Downloads (Pure)

Plasma-assisted atomic layer deposition of low temperature SiO2

Dingemans, G., Helvoirt, van, C. A. A., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, Silicon Nitride, Silicon Dioxide, and Emerging Dielectrics 11. Sah, R. (redactie). blz. 191-204 (ECS Transactions; vol. 35).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

41 Citaten (Scopus)

Plasma-assisted atomic layer deposition of SrTiO3 : stoichiometry and crystallization study by spectroscopic ellipsometry

Longo, V., Leick, N., Roozeboom, F. & Kessels, W. M. M., 2011, Proceedings of the 220th ECS meeting and Electrochemical Energy Summit, October 9-14, 2011, Boston, Massachusetts. Gendt, de, A., Londergan, A., Bent, S., Straten, van der, O., Delabie, A. & Roozeboom, F. (redactie). Pennington: ECS, blz. 63-72 (ECS Transactions; vol. 41).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

7 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Plasma atomic layer deposition

Kessels, W. M. M., Profijt, H. B., Potts, S. E. & Sanden, van de, M. C. M., 2011, Atomic layer deposition of nanostructured materials. Pinna, N. & Knez, M. (redactie). Weinheim: Wiley-VCH Verlag, blz. 131-158

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureHoofdstukAcademic

6 Citaten (Scopus)

Plasma-enhanced atomic layer deposition of titania of alumina for its potential use as a hydrogen-selective membrane

Tran, T. H. Y., Haije, W. G., Longo, V., Kessels, W. M. M. & Schoonman, J., 2011, In : Journal of Membrane Science. 378, 1-2, blz. 438-443

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

10 Citaten (Scopus)
2 Downloads (Pure)

Remote plasma ALD of electrochemically active LiCoO2 for application in all-solid-state μbatteries

Donders, M. E., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M. & Notten, P. H. L., 2011, Proceedings of the Electrochemical Society Meeting (220th ECS Meeting), October 9 - 14, 2011, Boston.

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

1 Downloads (Pure)

Remote plasma ALD of SrTiO3 using cyclopentadienlyl-based Ti and Sr precursors

Langereis, E., Roijmans, R. F. H., Roozeboom, F., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 2, blz. G34-G38

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
30 Citaten (Scopus)
93 Downloads (Pure)

Remote plasma atomic layer deposition of Co3O4 thin films

Donders, M. E., Knoops, H. C. M., Sanden, van de, M. C. M., Kessels, W. M. M. & Notten, P. H. L., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 4, blz. G92-G96 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
59 Citaten (Scopus)
307 Downloads (Pure)

Remote plasma atomic layer deposition of thin films of electrochemically active LiCoO2

Donders, M. E., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M. & Notten, P. H. L., 2011, In : ECS Transactions. 41, 2, blz. 321-330 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
18 Citaten (Scopus)
112 Downloads (Pure)

Selective in-situ atomic layer deposition on structures created with EBID

Mackus, A. J. M., Kessels, W. M. M. & Mulders, J. J. L., 2011, In : Microscopy and Analysis. 25, 4, blz. 5-8

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

4 Downloads (Pure)

Surface loss in ozone-based atomic layer deposition processes

Knoops, H. C. M., Elam, J. W., Libera, J. A. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Chemistry of Materials. 23, 9, blz. 2381-2387

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

51 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Ultra-thin aluminium oxide films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition for corrosion protection

Potts, S. E., Schmalz, L., Fenker, M., Díaz, B., Swiatowska, J., Maurice, V., Seyeux, A., Marcus, P., Radnóczi, G., Tóth, L. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 5, blz. C132-C138 7 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
72 Citaten (Scopus)
535 Downloads (Pure)
2012

Analysis of blister formation in spatial ALD Al2O3 for silicon surface passivation

Hennen, L., Granneman, E. H. A. & Kessels, W. M. M., 26 nov 2012, Program - 38th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, PVSC 2012. blz. 1049-1054 6 blz. 6317783

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

20 Citaten (Scopus)

A new concept for spatially divided Deep Reactive Ion Etching with ALD-based passivation

Roozeboom, F., Kniknie, B. J., Lankhorst, A. M., Winands, G. J. J., Knaapen, R., Smets, M., Poodt, P., Dingemans, G., Keuning, W. & Kessels, W. M. M., 2012, Proceedings of the E-MRS 2012 Spring meeting, symposium M : more than Moore : novel materials approaches for functionalised silicon based microelectronics, 14-18 May 2012, Strassbourg, France. Institute of Physics, blz. 012001- (IOP Conference Series: Material Science and Engineering; vol. 41).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Open Access
Bestand
8 Citaten (Scopus)
187 Downloads (Pure)

Atomic layer deposition for nanostructured Li-ion batteries

Knoops, H. C. M., Donders, M. E., Sanden, van de, M. C. M., Notten, P. H. L. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 30, 1, blz. 010801-1/10 10 blz., 010801.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
81 Citaten (Scopus)
186 Downloads (Pure)

Atomic layer deposition for photovoltaics : applications and prospects for solar cell manufacturing

van Delft, J. A., Garcia-Alonso Garcia, D. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Semiconductor Science and Technology. 27, 7, blz. 1-13 074002.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

139 Citaten (Scopus)
5 Downloads (Pure)

Catalytic combustion and dehydrogenation reactions during atomic layer deposition of platinum

Mackus, A. J. M., Leick, N., Baker, L. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Chemistry of Materials. 24, 10, blz. 1752-1761

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

83 Citaten (Scopus)
7 Downloads (Pure)

Cathode encapsulation of organic light emitting diodes by atomic layer deposited Al2O3 films and Al2O3/a-SiNx: H stacks

Keuning, W., Weijer, van de, P., Lifka, H., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 2012, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 30, 1, blz. 01A131-1/6 6 blz., 01A131.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
40 Citaten (Scopus)
213 Downloads (Pure)

CO3O4 as anode material for thin film micro-batteries prepared by remote plasma atomic layer deposition

Donders, M. E., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M. & Notten, P. H. L., 2012, In : Journal of Power Sources. 203, blz. 72-77 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

41 Citaten (Scopus)
2 Downloads (Pure)

Concept of spatially-divided deep reactive ion etching of si using oxide atomic layer deposition in the passivation cycle

Roozeboom, F., Kniknie, B., Knaapen, R., Smets, M., Illiberi, A., Poodt, P., Dingemans, G., Keuning, W. & Kessels, W. M. M., 1 jan 2012, 2012 4th Electronic System-Integration Technology Conference, ESTC 2012. IEEE Computer Society, 6542052

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Crystallization study by transmission electron microscopy of SrTiO3 thin films prepared by plasma-assisted ALD

Longo, V., Roozeboom, F., Kessels, W. M. M. & Verheijen, M. A., 2012, Pacific RIM meeting on electrochemical and solid-state science, (PRIME), October 7-12 2012, Honolulu Hawaii. blz. 69-77 (ECS Transactions; vol. 50).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

2 Citaten (Scopus)

Dehydrogenation reactions during atomic layer deposition of Ru using O2

Leick, N., Agarwal, S., Mackus, A. J. M. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Chemistry of Materials. 24, blz. 3696-3700

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

19 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

De invloed van ionen tijdens plasma-geassisteerde atoomlaagdepositie

Profijt, H. B., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Nevac Blad. 50, 3, blz. 21-27

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

De kunst van het maken

Kessels, W. M. M., 2012, Eindhoven: Technische Universiteit Eindhoven. 32 blz.

Onderzoeksoutput: Boek/rapportInaugurale redeAcademic

Open Access
Bestand
100 Downloads (Pure)

Impact of the deposition and annealing temperature on the silicon surface passivation of ALD Al2O3 films

Bordihn, S., Kiesow, I., Mertens, V., Engelhart, P., Müller, J. W. & Kessels, W. M. M., 1 jan 2012, In : Energy Procedia. 27, blz. 396-401 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftCongresartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
4 Citaten (Scopus)
42 Downloads (Pure)

Influence of annealing and Al2O3 properties on the hydrogen-induced passivation of the Si/SiO2 interface

Dingemans, G., Einsele, F., Beyer, W., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Journal of Applied Physics. 111, 9, blz. 1-9 093713.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

93 Citaten (Scopus)
4 Downloads (Pure)

Ion bombardment during plasma-assisted atomic layer deposition

Profijt, H. B. & Kessels, W. M. M., 2012, Pacific RIM meeting on electrochemical and solid-state science, (PRIME), October 7-12 2012, Honolulu Hawaii. blz. 23-34 (ECS Transactions; vol. 50).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

12 Citaten (Scopus)
3 Downloads (Pure)

Jaarringen

Mackus, A. J. M., Garcia-Alonso Garcia, D. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Nederlands Tijdschrift voor Natuurkunde. 78, 8, blz. 379-379

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

Latest advances in plasma techniques used for atomic layer deposition

Kessels, W. M. M., 2012

Onderzoeksoutput: Niet-tekstuele vormWeb publicatie / siteProfessioneel

Mass spectrometry study of the temperature dependence of Pt film growth by atomic layer deposition

Erkens, I. J. M., Mackus, A. J. M., Knoops, H. C. M., Smits, P., Ven, van de, T. H. M., Roozeboom, F. & Kessels, W. M. M., 2012, In : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 1, 6, blz. 255-262 8 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
26 Citaten (Scopus)
142 Downloads (Pure)

Nanocontacten schrijven met atoomlaagdepositie

Mackus, A. J. M., Dielissen, S. A. F., Mulders, J. J. L. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Nederlands Tijdschrift voor Natuurkunde. 78, 7, blz. 290-293 4 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelProfessioneel

1 Downloads (Pure)

Nanopattering by direct-write atomic layer deposition

Mackus, A. J. M., Dielissen, S. A. F., Mulders, J. J. L. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Special Publication - Royal Society of Chemistry. 4, 15, blz. 4477-4480 4 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

47 Citaten (Scopus)
5 Downloads (Pure)

Plaatsopgeloste depositie van Pt nanostructuren door het combineren van elektronenbundel geïnduceerde depositie en atoomlaagdepositie

Dielissen, S. A. F., Mackus, A. J. M., Mulders, J. J. L. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Nevac Blad. 50, 2, blz. 7-9

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

Plasma-assisted ALD for the conformal deposition of SiO2 : process, material and electronic properties

Dingemans, G., Helvoirt, van, C. A. A., Pierreux, D., Keuning, W. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Journal of the Electrochemical Society. 159, 3, blz. H277-H285 9 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
88 Citaten (Scopus)
537 Downloads (Pure)

Plasma-enhanced and thermal atomic layer deposition of Al2O3 using dimethylaluminum isopropoxide , [Al(CH3)2(µ-OiPr)]2, as an alternative aluminum precursor

Potts, S. E., Dingemans, G., Lachaud, C. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 30, 2, blz. 021505-1/15 15 blz., 021505.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
42 Citaten (Scopus)
263 Downloads (Pure)

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of aluminum oxide using ultrashort precursor injection pulses

Dingemans, G., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2012, In : Plasma Processes and Polymers. 9, 8, blz. 761-771

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

12 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)