2D dopant profiling of advanced CMOS technologies by preferential etching, comparison with 2D process simulations

C.J..J. Dachs, M. A. Verheijen, M. Kaiser, P. A. Stolk, Y. V. Ponomarev

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

1 Citaat (Scopus)

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van '2D dopant profiling of advanced CMOS technologies by preferential etching, comparison with 2D process simulations'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Engineering

Material Science

Chemical Engineering