Best ALD paper Award

Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk

Omschrijving

Innovative remote plasma source for atomic layer deposition for GaN devices featured by H.C.M. Knoops, K. Arts, J.-W. Buiter, L. Matteo Martini, R. Engeln, D.T. Hemakumara, M. Powell1, W.M.M. Kessels, C.J. Hodson, and A. O’Mahony, JVST A 39 062403 (2021)
Datum van toekenning7 jul. 2022

Toegekend op evenement

Evenementstitel21st International Conference on Atomic Layer Deposition
LocatieVirtual MeetingToon op kaart
Periode23 jun. 2021 → 30 jun. 2021

    Vingerafdruk

Gerelateerde inhoud