Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Onderzoeksoutput 2010 2019

  • 196 Citaten
  • 17 Tijdschriftartikel
  • 1 Conferentiebijdrage
  • 1 Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)
Filter
Tijdschriftartikel
2019
4 Citaties (Scopus)
89 Downloads (Pure)

Chemical analysis of the interface between hybrid organic−inorganic perovskite and atomic layer deposited Al2O3

Koushik, D., Hazendonk, L., Zardetto, V., Vandalon, V., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 6 feb 2019, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 11, 5, blz. 5526-5535 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
Perovskite
Atomic layer deposition
Chemical analysis
Infrared radiation
Stretching
1 Citaat (Scopus)
42 Downloads (Pure)
Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
Hydrogen
Plasmas
Electrocatalysts
Temperature

Infrared and optical emission spectroscopy study of atmospheric pressure plasma-enhanced spatial ALD of Al2O3

Mione, M., Engeln, R., Vandalon, V., Kessels, E. & Roozeboom, F., 19 aug 2019, In : Applied Physics Letters. 115, 8, 5 blz., 083101.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

optical emission spectroscopy
atmospheric pressure
atomic layer epitaxy
chemistry
reaction products

Infrared and optical emission spectroscopy study of the surface chemistry in atmospheric-pressure plasma-enhanced spatial ALD of Al2O3

Mione, M., Engeln, R., Vandalon, V., Kessels, E. & Roozeboom, F., 2019, In : ECS Transactions. 92, 3, blz. 35-44 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Optical emission spectroscopy
Surface chemistry
Atmospheric pressure
Infrared radiation
Plasmas
3 Downloads (Pure)

Initial growth study of atomic-layer deposition of Al2O3 by vibrational sum-frequency generation

Vandalon, V. & Kessels, E., 13 aug 2019, In : Langmuir. 35, 32, blz. 10374-10382 9 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
Vibrational spectra
atomic layer epitaxy
cycles
Spectroscopy

Polarized Raman spectroscopy to elucidate the texture of synthesized MoS2

Vandalon, V., Sharma, A., Perrotta, A., Schrode, B., Verheijen, M. & Bol, A., 15 nov 2019, (Geaccepteerd/In druk) In : Nanoscale. 14 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Raman spectroscopy
Textures
Transition metals
Atomic layer deposition
Synchrotrons
2 Citaties (Scopus)

Sticking probabilities of H2O and Al(CH3)3 during atomic layer deposition of Al2O3 extracted from their impact on film conformality

Arts, K., Vandalon, V., Puurunen, R. L., Utriainen, M., Gao, F., Kessels, E. & Knoops, H., 24 apr 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 5 blz., 030908.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
profiles
high aspect ratio
Temperature
2018
17 Citaties (Scopus)

Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of 2-D MoS2: Large area, thickness control and tuneable morphology

Sharma, A., Verheijen, M. A., Wu, L., Karwal, S., Vandalon, V., Knoops, H. C. M., Sundaram, R. S., Hofmann, J. P., Kessels, W. M. M. & Bol, A. A., 14 mei 2018, In : Nanoscale. 10, 18, blz. 8615-8627 13 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Thickness control
Atomic layer deposition
Plasmas
Monolayers
Temperature
7 Citaties (Scopus)
194 Downloads (Pure)
Open Access
Bestand
tungsten oxides
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Oxide films
Tungsten
2017
10 Citaties (Scopus)
114 Downloads (Pure)
Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
Vibrational spectra
atomic layer epitaxy
cycles
cross sections
2 Citaties (Scopus)

Simultaneous scanning tunneling microscopy and synchrotron X-ray measurements in a gas environment

Mom, R. V., Onderwaater, W. G., Rost, M. J., Jankowski, M., Wenzel, S., Jacobse, L., Alkemade, P. F. A., Vandalon, V., van Spronsen, M. A., van Weeren, M., Crama, B., van der Tuijn, P., Felici, R., Kessels, W. M. M., Carlà, F., Frenken, J. W. M. & Groot, I. M. N., 1 nov 2017, In : Ultramicroscopy. 182, blz. 233-242 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Scanning tunneling microscopy
Synchrotrons
scanning tunneling microscopy
synchrotrons
Gases
2016
25 Citaties (Scopus)
356 Downloads (Pure)

What is limiting low-temperature atomic layer deposition of Al2O3? A vibrational sum-frequency generation study

Vandalon, V. & Kessels, W. M. M., 4 jan 2016, In : Applied Physics Letters. 108, 1, blz. 1-5 011607.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
2014
27 Citaties (Scopus)
115 Downloads (Pure)

Influence of the SiO2 interlayer thickness on the density and polarity of charges in Si/SiO2/Al2O3 stacks as studied by optical second-harmonic generation

Terlinden, N. M., Dingemans, G., Vandalon, V., Bosch, R. H. E. C. & Kessels, W. M. M., 2014, In : Journal of Applied Physics. 115, blz. 033708-1/12

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
interlayers
harmonic generations
polarity
switches
tuning
7 Citaties (Scopus)
83 Downloads (Pure)

Interaction between O2 and ZnO films probed by time-dependent second-harmonic generation

Andersen, S. V., Vandalon, V., Loo, van de, B. W. H., Bosch, R. H. E. C., Pedersen, K. & Kessels, W. M. M., 2014, In : Applied Physics Letters. 104, 5 blz., 051602.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
harmonic generations
adsorption
electric fields
thin films
atomic layer epitaxy
3 Citaties (Scopus)
53 Downloads (Pure)
Open Access
Bestand
Silicon
Electric space charge
space charge
Electric fields
Spectroscopy
2012
34 Citaties (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Influence of surface temperature on the mechanism of atomic layer deposition of aluminum oxide using an oxygen plasma and ozone

Rai, V. R., Vandalon, V. & Agarwal, S., 2012, In : Langmuir. 28, 1, blz. 350-357 8 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Atomic layer deposition
Aluminum Oxide
Ozone
oxygen plasma
atomic layer epitaxy
2010
53 Citaties (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Surface reaction mechanisms during ozone and oxygen plasma assisted atomic layer deposition of aluminum oxide

Rai, V. R., Vandalon, V. & Agarwal, S., 7 sep 2010, In : Langmuir. 26, 17, blz. 13732-13735 4 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Atomic layer deposition
Aluminum Oxide
Ozone
Carbonates
oxygen plasma