• 151 Citaties
20152020

Onderzoeksresultaten per jaar

Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Onderzoeksoutput

  • 151 Citaties
  • 12 Tijdschriftartikel
  • 1 Conferentiebijdrage
  • 1 Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)
2020

Effect of an electric field during the deposition of silicon dioxide thin films by plasma enhanced atomic layer deposition: an experimental and computational study

Beladiya, V., Becker, M., Faraz, T., Kessels, W. M. M., Schenk, P., Otto, F., Fritz, T., Gruenewald, M., Helbing, C., Jandt, K. D., Tünnermann, A., Sierka, M. & Szeghalmi, A., 21 jan 2020, In : Nanoscale. 12, 3, blz. 2089-2102 14 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

2 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Etching with atomic-level precision: The emerging field of atomic layer etching

Mackus, A. J. M., Faraz, T. & Chittock, N., 2 jun 2020, In : Nevac Blad. 58, special on ALD, blz. 40-42 2.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

Plasma-Assisted ALD of Highly Conductive HfNx: On the Effect of Energetic Ions on Film Microstructure

Karwal, S., Verheijen, M. A., Arts, K., Faraz, T., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 1 mei 2020, In : Plasma Chemistry and Plasma Processing. 40, 3, blz. 697-712 16 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
2 Downloads (Pure)

Probing the origin and suppression of vertically oriented nanostructures of 2D WS2 layers

Balasubramanyam, S., Bloodgood, M., van Ommeren, M., Faraz, T., Vandalon, V., Kessels, W. M. M. E., Verheijen, M. A. & Bol, A. A., 22 jan 2020, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 12, 3, blz. 3873-3885 13 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
1 Citaat (Scopus)
15 Downloads (Pure)
2019

Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties

Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

16 Citaten (Scopus)
3 Downloads (Pure)

Expanding the toolbox of atomic scale processing

Faraz, T., 14 jun 2019, Eindhoven: Technische Universiteit Eindhoven. 283 blz.

Onderzoeksoutput: ScriptieDissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)

Open Access
Bestand
504 Downloads (Pure)

Ion energy control during plasma-enhanced atomic layer deposition: enabling materials control and selective processing in the third dimension

Faraz, T., Knoops, H. & Kessels, E., 11 apr 2019, In : Nevac Blad. 57, 1, blz. 6-10 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

Open Access
Bestand
49 Downloads (Pure)

Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition

Knoops, H., Faraz, T., Arts, K. & Kessels, E., 1 mei 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 26 blz., 030902.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
17 Citaten (Scopus)
267 Downloads (Pure)
2018

Controlling mechanical, structural, and optical properties of Al2O3 thin films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition with substrate biasing

Beladiya, V., Faraz, T., Kessels, W. M. M., Tünnermann, A. & Szeghalmi, A., 1 jan 2018, Advances in Optical Thin Films VI. SPIE, 106910E. (Proceedings of SPIE; vol. 10691).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

1 Downloads (Pure)

Low resistivity HfN: X grown by plasma-assisted ALD with external rf substrate biasing

Karwal, S., Verheijen, M. A., Williams, B. L., Faraz, T., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 21 apr 2018, In : Journal of Materials Chemistry C. 6, 15, blz. 3917-3926 10 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

11 Citaten (Scopus)
7 Downloads (Pure)

Tuning material properties of oxides and nitrides by substrate biasing during plasma-enhanced atomic layer deposition on planar and 3D substrate topographies

Faraz, T., Knoops, H. C. M., Verheijen, M. A., Van Helvoirt, C. A. A., Karwal, S., Sharma, A., Beladiya, V., Szeghalmi, A., Hausmann, D. M., Henri, J., Creatore, M. & Kessels, W. M. M., 18 apr 2018, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 10, 15, blz. 13158-13180 23 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
24 Citaten (Scopus)
94 Downloads (Pure)
2017

Atomic layer deposition of wet-etch resistant silicon nitride using di(sec-butylamino) silane and N2 plasma on planar and 3D substrate topographies

Faraz, T., van Drunen, M., Knoops, H. C. M., Mallikarjunan, A., Buchanan, I., Hausmann, D. M., Henri, J. & Kessels, W. M. M., 18 jan 2017, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 9, 2, blz. 1858-1869 12 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

22 Citaten (Scopus)
7 Downloads (Pure)
2016

Nucleation of microcrystalline silicon : on the effect of the substrate surface nature and nano-imprint topography

Palmans, J., Faraz, T., Verheijen, M., Kessels, E. & Creatore, A., 7 jan 2016, In : Journal of Physics D: Applied Physics. 49, 5, 11 blz., 055205.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

3 Citaten (Scopus)
7 Downloads (Pure)
2015

Atomic layer etching : what can we learn from atomic layer deposition?

Faraz, T., Roozeboom, F., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 2015, In : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 4, 6, blz. NS-023/032

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
55 Citaten (Scopus)
403 Downloads (Pure)