Onderzoeksoutput per jaar
Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's waar Tahsin Faraz actief is. Deze onderwerplabels komen voort uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
- 9 Vergelijkbare profielen
Atomic layer deposition
Chemische stoffen
atomic layer epitaxy
Fysica en Astronomie
Plasmas
Chemische stoffen
Substrates
Chemische stoffen
Topography
Chemische stoffen
Materials properties
Chemische stoffen
Silanes
Chemische stoffen
plasma control
Fysica en Astronomie
Netwerk
Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.
Onderzoeksoutput 2015 2019
6
Citaties
(Scopus)
2
Downloads
(Pure)
Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties
Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
atomic layer epitaxy
ions
energy
dosage
energy distribution
Expanding the toolbox of atomic scale processing
Faraz, T., 14 jun 2019, Eindhoven: Technische Universiteit Eindhoven. 283 blz.Onderzoeksoutput: Scriptie › Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)
Open Access
Bestand
Ion energy control during plasma-enhanced atomic layer deposition: enabling materials control and selective processing in the third dimension
Faraz, T., Knoops, H. & Kessels, E., 11 apr 2019, In : Nevac Blad. 57, 1, blz. 6-10 5 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Populair
Open Access
Bestand
plasma control
atomic layer epitaxy
ions
energy
versatility
Probing the origin and suppression of vertically oriented nanostructures of 2D WS2 layers
Balasubramanyam, S., Bloodgood, M., van Ommeren, M., Faraz, T., Vandalon, V., Kessels, W. M. M. E., Verheijen, M. A. & Bol, A. A., 27 dec 2019, (Geaccepteerd/In druk) In : ACS Applied Materials & Interfaces. 25 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Nanostructures
Plasmas
Atomic layer deposition
Transition metals
Nanoelectronics
10
Citaties
(Scopus)
119
Downloads
(Pure)
Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition
Knoops, H., Faraz, T., Arts, K. & Kessels, E., 1 mei 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 26 blz., 030902.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Plasmas
Plasma deposition
emerging
Prijzen
John Coburn & Harold Winters Award
T. Faraz (Ontvanger), 24 okt 2018
Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk
NEVAC Prize
Tahsin Faraz (Ontvanger), 17 mei 2019
Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk
Scriptie
Nucleation of muc-Si:H thin films on nano-imprint lithography textured substrates
Auteur: Faraz, T., 31 aug 2014Begeleider: Palmans, J. (Afstudeerdocent 1) & Creatore, M. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master