Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's waar Tahsin Faraz actief is. Deze onderwerplabels komen voort uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 9 Vergelijkbare profielen
Atomic layer deposition Chemische stoffen
atomic layer epitaxy Fysica en Astronomie
Plasmas Chemische stoffen
Substrates Chemische stoffen
Topography Chemische stoffen
Materials properties Chemische stoffen
Silanes Chemische stoffen
plasma control Fysica en Astronomie

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput 2015 2019

  • 109 Citaten
  • 9 Tijdschriftartikel
  • 1 Conferentiebijdrage
  • 1 Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)
6 Citaties (Scopus)
2 Downloads (Pure)

Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties

Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

atomic layer epitaxy
ions
energy
dosage
energy distribution

Expanding the toolbox of atomic scale processing

Faraz, T., 14 jun 2019, Eindhoven: Technische Universiteit Eindhoven. 283 blz.

Onderzoeksoutput: ScriptieDissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)

Open Access
Bestand

Ion energy control during plasma-enhanced atomic layer deposition: enabling materials control and selective processing in the third dimension

Faraz, T., Knoops, H. & Kessels, E., 11 apr 2019, In : Nevac Blad. 57, 1, blz. 6-10 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

Open Access
Bestand
plasma control
atomic layer epitaxy
ions
energy
versatility

Probing the origin and suppression of vertically oriented nanostructures of 2D WS2 layers

Balasubramanyam, S., Bloodgood, M., van Ommeren, M., Faraz, T., Vandalon, V., Kessels, W. M. M. E., Verheijen, M. A. & Bol, A. A., 27 dec 2019, (Geaccepteerd/In druk) In : ACS Applied Materials & Interfaces. 25 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Nanostructures
Plasmas
Atomic layer deposition
Transition metals
Nanoelectronics
10 Citaties (Scopus)
119 Downloads (Pure)

Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition

Knoops, H., Faraz, T., Arts, K. & Kessels, E., 1 mei 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 26 blz., 030902.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Plasmas
Plasma deposition
emerging

Prijzen

John Coburn & Harold Winters Award

T. Faraz (Ontvanger), 24 okt 2018

Prijs: AndersWerk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.)Wetenschappelijk

NEVAC Prize

Tahsin Faraz (Ontvanger), 17 mei 2019

Prijs: AndersWerk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.)Wetenschappelijk

Scriptie

Nucleation of muc-Si:H thin films on nano-imprint lithography textured substrates

Auteur: Faraz, T., 31 aug 2014

Begeleider: Palmans, J. (Afstudeerdocent 1) & Creatore, M. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Master