• 130 Citaties
20152020

Research output per year

Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Tahsin Faraz actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 15 Soortgelijke profielen

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput

  • 130 Citaties
  • 10 Tijdschriftartikel
  • 1 Conferentiebijdrage
  • 1 Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)

Effect of an electric field during the deposition of silicon dioxide thin films by plasma enhanced atomic layer deposition: an experimental and computational study

Beladiya, V., Becker, M., Faraz, T., Kessels, W. M. M., Schenk, P., Otto, F., Fritz, T., Gruenewald, M., Helbing, C., Jandt, K. D., Tünnermann, A., Sierka, M. & Szeghalmi, A., 21 jan 2020, In : Nanoscale. 12, 3, blz. 2089-2102 14 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

  • 1 Citaat (Scopus)
    1 Downloads (Pure)

    Probing the origin and suppression of vertically oriented nanostructures of 2D WS2 layers

    Balasubramanyam, S., Bloodgood, M., van Ommeren, M., Faraz, T., Vandalon, V., Kessels, W. M. M. E., Verheijen, M. A. & Bol, A. A., 22 jan 2020, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 12, 3, blz. 3873-3885 13 blz.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

    Open Access
    Bestand
  • 7 Downloads (Pure)

    Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties

    Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

  • 11 Citaten (Scopus)
    3 Downloads (Pure)

    Expanding the toolbox of atomic scale processing

    Faraz, T., 14 jun 2019, Eindhoven: Technische Universiteit Eindhoven. 283 blz.

    Onderzoeksoutput: ScriptieDissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)

    Open Access
    Bestand

    Ion energy control during plasma-enhanced atomic layer deposition: enabling materials control and selective processing in the third dimension

    Faraz, T., Knoops, H. & Kessels, E., 11 apr 2019, In : Nevac Blad. 57, 1, blz. 6-10 5 blz.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

    Open Access
    Bestand
  • Prijzen

    John Coburn & Harold Winters Award

    T. Faraz (Ontvanger), 24 okt 2018

    Prijs: AndersWerk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.)Wetenschappelijk

    NEVAC Prize

    Tahsin Faraz (Ontvanger), 17 mei 2019

    Prijs: AndersWerk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.)Wetenschappelijk

    Scriptie

    Nucleation of muc-Si:H thin films on nano-imprint lithography textured substrates

    Auteur: Faraz, T., 31 aug 2014

    Begeleider: Palmans, J. (Afstudeerdocent 1) & Creatore, M. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    The use of substrate biasing during plasma-enhanced atomic layer deposition of TiN for area-selective deposition

    Auteur: Vlaanderen, S., 2019

    Begeleider: Faraz, T. (Afstudeerdocent 1), Merkx, M. J. (Afstudeerdocent 2) & Mackus, A. J. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand