Onderzoeksoutput per jaar
Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Tahsin Faraz actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
- 12 Soortgelijke profielen
Netwerk
Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.
Onderzoeksoutput
Effect of an electric field during the deposition of silicon dioxide thin films by plasma enhanced atomic layer deposition: an experimental and computational study
Beladiya, V., Becker, M., Faraz, T., Kessels, W. M. M., Schenk, P., Otto, F., Fritz, T., Gruenewald, M., Helbing, C., Jandt, K. D., Tünnermann, A., Sierka, M. & Szeghalmi, A., 21 jan 2020, In : Nanoscale. 12, 3, blz. 2089-2102 14 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
2
Citaten
(Scopus)
1
Downloads
(Pure)
Etching with atomic-level precision: The emerging field of atomic layer etching
Mackus, A. J. M., Faraz, T. & Chittock, N., 2 jun 2020, In : Nevac Blad. 58, special on ALD, blz. 40-42 2.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Populair
Plasma-Assisted ALD of Highly Conductive HfNx: On the Effect of Energetic Ions on Film Microstructure
Karwal, S., Verheijen, M. A., Arts, K., Faraz, T., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 1 mei 2020, In : Plasma Chemistry and Plasma Processing. 40, 3, blz. 697-712 16 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
Probing the origin and suppression of vertically oriented nanostructures of 2D WS2 layers
Balasubramanyam, S., Bloodgood, M., van Ommeren, M., Faraz, T., Vandalon, V., Kessels, W. M. M. E., Verheijen, M. A. & Bol, A. A., 22 jan 2020, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 12, 3, blz. 3873-3885 13 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
1
Citaat
(Scopus)
13
Downloads
(Pure)
Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties
Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
16
Citaten
(Scopus)
3
Downloads
(Pure)
Prijzen
John Coburn & Harold Winters Award
T. Faraz (Ontvanger), 24 okt 2018
Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk
NEVAC Prize
Tahsin Faraz (Ontvanger), 17 mei 2019
Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk
Scriptie
Nucleation of muc-Si:H thin films on nano-imprint lithography textured substrates
Auteur: Faraz, T., 31 aug 2014Begeleider: Palmans, J. (Afstudeerdocent 1) & Creatore, M. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
The use of substrate biasing during plasma-enhanced atomic layer deposition of TiN for area-selective deposition
Auteur: Vlaanderen, S., 2019Begeleider: Faraz, T. (Afstudeerdocent 1), Merkx, M. J. (Afstudeerdocent 2) & Mackus, A. J. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand