van de Kerkhof, M.,
Shefer, D., Nikipelov, A., Sbrizzai, F., Kvon, V.,
Bouwmans, S.,
Beckers, J. &
Banine, V.,
10 apr. 2024,
Optical and EUV Nanolithography XXXVII. Burkhardt, M. & van Lare, C. (uitgave).
SPIE,
10 blz. 129530E. (Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering; vol. 12953).
Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/Congresprocedure › Conferentiebijdrage › Academic › peer review