Onderzoeksoutput per jaar
Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's waar Shashank Balasubramanyam actief is. Deze onderwerplabels komen voort uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
- 16 Vergelijkbare profielen
Atomic layer deposition
Engineering en materiaalwetenschappen
Plasmas
Engineering en materiaalwetenschappen
atomic layer epitaxy
Fysica en Astronomie
water splitting
Fysica en Astronomie
tungsten oxides
Fysica en Astronomie
thin films
Fysica en Astronomie
Oxide films
Engineering en materiaalwetenschappen
Tungsten
Engineering en materiaalwetenschappen
Netwerk
Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.
Onderzoeksoutput 2018 2020
Large Area, Patterned Growth of 2-D MoS2 and Lateral MoS2 - WS2 Heterostructures for Nano- and Opto-electronic Applications
Sharma, A., Mahlouji, R., Wu, L., Verheijen, M. A., Vandalon, V., Balasubramanyam, S., Hofmann, J. P. J. P., Kessels, W. M. M. E. & Bol, A. A., 2020, In : Nanotechnology.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Nanoengineering of two-dimensional WS2 by atomic layer deposition
Balasubramanyam, S., 24 mrt 2020, (Geaccepteerd/In druk) Eindhoven: Technische Universiteit Eindhoven.Onderzoeksoutput: Scriptie › Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)
Probing the origin and suppression of vertically oriented nanostructures of 2D WS2 layers
Balasubramanyam, S., Bloodgood, M., van Ommeren, M., Faraz, T., Vandalon, V., Kessels, W. M. M. E., Verheijen, M. A. & Bol, A. A., 22 jan 2020, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 12, 3, blz. 3873-3885 13 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
Nanostructures
Plasmas
Atomic layer deposition
Transition metals
Nanoelectronics
4
Citaties
(Scopus)
72
Downloads
(Pure)
Edge-site nano-engineering of WS2 by low temperature plasma-enhanced atomic layer deposition for electrocatalytic hydrogen evolution
Balasubramanyam, S., Shirazi, M., Bloodgood, M., Wu, L., Verheijen, M., Vandalon, V., Kessels, E., Hofmann, J. P. & Bol, A. A., 25 jun 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 14, blz. 5104-5115 12 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
Hydrogen
Plasmas
Electrocatalysts
Temperature
7
Citaties
(Scopus)
1
Downloads
(Pure)
Physical and chemical defects in WO3 thin films and their impact on photoelectrochemical water splitting
Zhao, Y., Balasubramanyam, S., Sinha, R., Lavrijsen, R., Verheijen, M. A., Bol, A. A. & Bieberle-Hütter, A., 26 nov 2018, In : ACS Applied Energy Materials. 1, 11, blz. 5887–5895 9 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
water splitting
defects
thin films
atomic layer epitaxy
photocurrents
Prijzen
James Harper Award
Shashank Balasubramanyam (Ontvanger), 21 okt 2019
Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk