Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's waar Martijn F.J. Vos actief is. Deze onderwerplabels komen voort uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 22 Vergelijkbare profielen
atomic layer epitaxy Fysica en Astronomie
Atomic layer deposition Chemische stoffen
Molybdenum oxide Chemische stoffen
molybdenum oxides Fysica en Astronomie
Plasmas Engineering en materiaalwetenschappen
Silicon Chemische stoffen
Solar cells Chemische stoffen
aluminum fluorides Fysica en Astronomie

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput 2015 2019

  • 111 Citaten
  • 8 Tijdschriftartikel
  • 1 Conferentiebijdrage
  • 1 Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)
1 Citaat (Scopus)
57 Downloads (Pure)

Area-selective deposition of Ruthenium by combining atomic layer deposition and selective etching

Vos, M. F. J., Chopra, S. N., Verheijen, M. A., Ekerdt, J. G., Agarwal, S., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M., 22 mei 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 11, blz. 3878-3882 5 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand

Development and understanding of advanced atomic layer deposition processes: AlF3, Co, and Ru

Vos, M. F. J., 21 nov 2019, Eindhoven: Technische Universiteit Eindhoven. 207 blz.

Onderzoeksoutput: ScriptieDissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)

9 Citaties (Scopus)
133 Downloads (Pure)
Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Cobalt
cobalt
Plasmas
9 Citaties (Scopus)
133 Downloads (Pure)

Atomic layer deposition of cobalt using H2-, N2-, and NH3-based plasmas: on the role of the Co-reactant

Vos, M. F. J., van Straaten, G., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M., 5 sep 2018, In : Journal of Physical Chemistry C. 122, 39, blz. 22519-22529 11 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Cobalt
cobalt
Plasmas
5 Citaties (Scopus)
118 Downloads (Pure)

Atomic layer deposition of aluminum fluoride using Al(CH3)3 and SF6 plasma

Vos, M. F. J., Knoops, H. C. M., Synowicki, R. A., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M., 11 sep 2017, In : Applied Physics Letters. 111, 11, 5 blz., 113105.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
aluminum fluorides
atomic layer epitaxy
metal fluorides
refractivity
cycles

Prijzen

ALD Best Student Paper Award

Martijn Vos (Ontvanger), 23 jul 2019

Prijs: AndersWerk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.)Wetenschappelijk

NEVAC-prijs 2016

Martijn Vos (Ontvanger), 27 mei 2016

Prijs: AndersWerk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.)Wetenschappelijk

Bestand

Scriptie

Atomic layer deposition of molybdenum oxide: for silicon heterojunction solar cells

Auteur: Vos, M., 31 aug 2015

Begeleider: Macco, B. (Afstudeerdocent 1) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Master

Bestand

Nucleation behavior of atomic layer deposition of platinum on zinc oxide

Auteur: Vos, M., 2012

Begeleider: Erkens, I. (Afstudeerdocent 1), Fernández Landaluce, T. (Afstudeerdocent 2) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Bachelor

Bestand