Marc J.M. Merkx, MSc

Promovendus, Department of Applied Physics, Plasma & Materials Processing

E-mailm.j.m.merkx@tue.nl

Bron: Scopus

Onderzoeksresultaten per jaar

Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk

Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Marc J.M. Merkx actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

6 Soortgelijke profielen

Netwerk

Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

117 Citaties
8 Tijdschriftartikel
1 Conferentiebijdrage

Insight into the removal and reapplication of small inhibitor molecules during area-selective atomic layer deposition of SiO2
Merkx, M. J. M., Jongen, R. G. J., Mameli, A., Lemaire, P. C., Sharma, K., Hausmann, D. M., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M., jan 2021, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 39, 1, 8 blz., 012402.
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Area-selective atomic layer deposition for bottom-up fabrication of nanoelectronics
Mackus, A. J. M., Merkx, M. J. M. & Li, J., 2 jun 2020, In : Nevac Blad. 58, special on ALD, blz. 32-34 2.
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Populair
10 Downloads (Pure)
Area-Selective Atomic Layer Deposition of TiN Using Aromatic Inhibitor Molecules for Metal/Dielectric Selectivity
Merkx, M. J. M., Vlaanderen, S., Faraz, T., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M. & MacKus, A. J. M., 22 sep 2020, In : Chemistry of Materials. 32, 18, blz. 7788-7795 8 blz.
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

Open Access
1 Citaat (Scopus)
Area-Selective Atomic Layer Deposition of Two-Dimensional WS2 Nanolayers
Balasubramanyam, S., Merkx, M. J. M., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M., Mackus, A. J. M. & Bol, A. A., 4 mei 2020, In : ACS Materials Letters. 2, 5, blz. 511-518 8 blz.
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

Open Access

4 Citaten (Scopus)
Mechanism of precursor blocking by acetylacetone inhibitor molecules during area-selective atomic layer deposition of SiO2
Merkx, M. J. M., Sandoval, T. E., Hausmann, D. M., Kessels, W. M. M. E. & Mackus, A. J. M., 28 apr 2020, In : Chemistry of Materials. 32, 8, blz. 3335-3345
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

Area-selective atomic layer deposition of SiO2: studied by in situ Fourier transform infrared spectroscopy and spectroscopic ellipsometry
Auteur: Merkx, M. J., 2017
Begeleider: Mackus, A. (Afstudeerdocent 1)
Scriptie/Masterproef: Master

Bestand
Creeping sparks: influences of a dielectric on the propagation of steamer channels
Auteur: Merkx, M., 2015
Begeleider: Trienekens, D. (Afstudeerdocent 1) & Nijdam, S. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/Masterproef: Bachelor

Bestand

Insight into the removal and reapplication of small inhibitor molecules during area-selective atomic layer deposition of SiO2

Area-selective atomic layer deposition for bottom-up fabrication of nanoelectronics

Area-Selective Atomic Layer Deposition of TiN Using Aromatic Inhibitor Molecules for Metal/Dielectric Selectivity

Area-Selective Atomic Layer Deposition of Two-Dimensional WS2 Nanolayers

Mechanism of precursor blocking by acetylacetone inhibitor molecules during area-selective atomic layer deposition of SiO2

Area-selective atomic layer deposition of SiO2: studied by in situ Fourier transform infrared spectroscopy and spectroscopic ellipsometry

Creeping sparks: influences of a dielectric on the propagation of steamer channels