Onderzoeksoutput per jaar
Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Marc J.M. Merkx actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
Netwerk
Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.
Onderzoeksoutput
Mechanism of precursor blocking by acetylacetone inhibitor molecules during area-selective atomic layer deposition of SiO2
Merkx, M. J. M., Sandoval, T. E., Hausmann, D. M., Kessels, W. M. M. E. & Mackus, A. J. M., 12 feb 2020, (Geaccepteerd/In druk) In : Chemistry of Materials.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
From the bottom-up: toward area-selective atomic layer deposition with high selectivity
Mackus, A. J. M., Merkx, M. J. M. & Kessels, W. M. M., 8 jan 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 1, blz. 2-12 11 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
23
Citaten
(Scopus)
266
Downloads
(Pure)
Area-selective atomic layer deposition of SiO2 using acetylacetone as a chemoselective inhibitor in an ABC-type cycle
Mameli, A., Merkx, M. J. M., Karasulu, B., Roozeboom, F., Kessels, W. M. M. & MacKus, A. J. M., 26 sep 2017, In : ACS Nano. 11, 9, blz. 9303-9311 9 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
33
Citaten
(Scopus)
225
Downloads
(Pure)
When and why are streamers attracted to dielectric surfaces?
Trienekens, D. J. M., Nijdam, S., Akkermans, G. R. A., Plompen, I., Merkx, M. J. M., Christen, T. & Ebert, U. M., 8 aug 2016, 2016 IEEE International Conference on Plasma Science (ICOPS) . Piscataway: Institute of Electrical and Electronics Engineers, 1 blz.Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/Congresprocedure › Conferentiebijdrage › Academic › peer review
Scriptie
Area-selective atomic layer deposition of Al2O3
Auteur: Angelidis, A., 2019Begeleider: Merkx, M. J. (Afstudeerdocent 1) & Mameli, A. (Externe coach)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand
Area-selective atomic layer deposition of SiO2: studied by in situ Fourier transform infrared spectroscopy and spectroscopic ellipsometry
Auteur: Merkx, M. J., 2017Begeleider: Mackus, A. (Afstudeerdocent 1)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand
Area-selective atomic layer deposition using inhibitor molecules in multi-step cycles
Auteur: Jongen, R. G., 2018Begeleider: Merkx, M. J. (Afstudeerdocent 1) & Mackus, A. J. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand
Creeping sparks: influences of a dielectric on the propagation of steamer channels
Auteur: Merkx, M., 2015Begeleider: Trienekens, D. (Afstudeerdocent 1) & Nijdam, S. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Bachelor
Bestand
The use of substrate biasing during plasma-enhanced atomic layer deposition of TiN for area-selective deposition
Auteur: Vlaanderen, S., 2019Begeleider: Faraz, T. (Afstudeerdocent 1), Merkx, M. J. (Afstudeerdocent 2) & Mackus, A. J. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand