Onderzoeksoutput per jaar
Onderzoeksoutput per jaar
Vingerafdruk
Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Marc J.M. Merkx actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
- 1 Soortgelijke profielen
Netwerk
Recente externe samenwerking op landen-/regioniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken of
Onderzoeksoutput
-
Computational investigation of precursor blocking during area-selective atomic layer deposition using aniline as a small molecule inhibitor
Tezsevin, I., Maas, J. F. W., Merkx, M. J. M., Lengers, R., Kessels, W. M. M., Sandoval, T. E. & Mackus, A. J. M., 15 mrt. 2023, (E-publicatie vóór gedrukte publicatie) In: Langmuir. XX, XOnderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access -
Area-selective atomic layer deposition using small molecule inhibitors
Merkx, M. J. M., 22 feb. 2022, Eindhoven: Eindhoven University of Technology. 234 blz.Onderzoeksoutput: Scriptie › Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)
Open AccessBestand30 Downloads (Pure) -
Packing of inhibitor molecules during area-selective atomic layer deposition studied using random sequential adsorption simulations
Li, J., Tezsevin, I., Merkx, M. J. M., Maas, J. W. J., Kessels, W. M. M., Sandoval, T. E. & Mackus, A. J. M., dec. 2022, In: Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 40, 6, 15 blz., 062409.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
-
Relation between Reactive Surface Sites and Precursor Choice for Area-Selective Atomic Layer Deposition Using Small Molecule Inhibitors
Merkx, M. J. M., Angelidis, A., Mameli, A., Li, J., Lemaire, P. C., Sharma, K., Hausmann, D. M., Kessels, W. M. M., Sandoval, T. E. & Mackus, A. J. M., 17 mrt. 2022, In: Journal of Physical Chemistry C. 126, 10, blz. 4845-4853 9 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand5 Citaten (Scopus)57 Downloads (Pure) -
Dependence of inherent selective atomic layer deposition of FeOxon Pt nanoparticles on the coreactant and temperature
Cai, J., Merkx, M. J. M., Lan, Y., Jing, Y., Cao, K., Wen, Y., Kessels, W. M. M., MacKus, A. J. M. & Chen, R., 1 jan. 2021, In: Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 39, 1, 7 blz., 012404.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand1 Citaat (Scopus)55 Downloads (Pure)
Knipsels
-
2D TMD Materials Enabling Future Electronics
Shashank Balasubramanyam, Marc J.M. Merkx, Marcel A. Verheijen, W.M.M. (Erwin) Kessels, Adrie J.M. Mackus & Ageeth A. Bol
27/06/21
1 Mediabijdrage
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
Scriptie
-
Area-selective atomic layer deposition of SiO2: studied by in situ Fourier transform infrared spectroscopy and spectroscopic ellipsometry
Auteur: Merkx, M. J. M., 2017Begeleider: Mackus, A. (Afstudeerdocent 1)
Scriptie/Masterproef: Master
Bestand -
Creeping sparks: influences of a dielectric on the propagation of steamer channels
Auteur: Merkx, M. J. M., 2015Begeleider: Trienekens, D. J. M. (Afstudeerdocent 1) & Nijdam, S. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/Masterproef: Bachelor
Bestand