Onderzoeksoutput per jaar
Onderzoeksoutput per jaar
Vingerafdruk
Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Marc J.M. Merkx actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
- 1 Soortgelijke profielen
Netwerk
Recente externe samenwerking op landen-/regioniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken of
-
Dependence of inherent selective atomic layer deposition of FeOxon Pt nanoparticles on the coreactant and temperature
Cai, J., Merkx, M. J. M., Lan, Y., Jing, Y., Cao, K., Wen, Y., Kessels, W. M. M., MacKus, A. J. M. & Chen, R., 1 jan 2021, In: Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 39, 1, 7 blz., 012404.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand14 Downloads (Pure) -
Insight into the removal and reapplication of small inhibitor molecules during area-selective atomic layer deposition of SiO2
Merkx, M. J. M., Jongen, R. G. J., Mameli, A., Lemaire, P. C., Sharma, K., Hausmann, D. M., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M., jan 2021, In: Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 39, 1, 8 blz., 012402.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand1 Citaat (Scopus)13 Downloads (Pure) -
Area-selective atomic layer deposition for bottom-up fabrication of nanoelectronics
Mackus, A. J. M., Merkx, M. J. M. & Li, J., 2 jun 2020, In: Nevac Blad. 58, 2, blz. 32-34Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Populair
Open AccessBestand41 Downloads (Pure) -
Area-Selective Atomic Layer Deposition of TiN Using Aromatic Inhibitor Molecules for Metal/Dielectric Selectivity
Merkx, M. J. M., Vlaanderen, S., Faraz, T., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M. & MacKus, A. J. M., 22 sep 2020, In: Chemistry of Materials. 32, 18, blz. 7788-7795 8 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access12 Citaten (Scopus) -
Area-Selective Atomic Layer Deposition of Two-Dimensional WS2 Nanolayers
Balasubramanyam, S., Merkx, M. J. M., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M., Mackus, A. J. M. & Bol, A. A., 4 mei 2020, In: ACS Materials Letters. 2, 5, blz. 511-518 8 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand17 Citaten (Scopus)17 Downloads (Pure)
Knipsels
-
2D TMD Materials Enabling Future Electronics
Shashank Balasubramanyam, Marc J.M. Merkx, Marcel A. Verheijen, W.M.M. (Erwin) Kessels, Adrie J.M. Mackus & Ageeth A. Bol
27/06/21
1 Mediabijdrage
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
Scriptie
-
Area-selective atomic layer deposition of SiO2: studied by in situ Fourier transform infrared spectroscopy and spectroscopic ellipsometry
Auteur: Merkx, M. J., 2017Begeleider: Mackus, A. (Afstudeerdocent 1)
Scriptie/Masterproef: Master
Bestand -
Creeping sparks: influences of a dielectric on the propagation of steamer channels
Auteur: Merkx, M., 2015Begeleider: Trienekens, D. (Afstudeerdocent 1) & Nijdam, S. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/Masterproef: Bachelor
Bestand