Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Onderzoeksoutput 2001 2020

2004
21 Citaties (Scopus)

Expanding thermal plasma for low-k dielectrics : engineering the film chemistry by means of specific dissociation paths in the plasma

Creatore, M., Kessels, W. M. M., Barrell, Y., Benedikt, J. & Sanden, van de, M. C. M., 2004, In : Materials Science in Semiconductor Processing. 7, 4-6, blz. 283-288

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Plasma Gases
thermal plasmas
engineering
dissociation
chemistry
2 Downloads (Pure)

High rate plasma deposition of thin films for solar cell applications

Sanden, van der, M. C. M., Volintiru, I., Creatore, M., Linden, J. L., Hoex, B., Oever, van den, P. J., Bosch, R. C. M., Erven, van, R., Bijker, M. D., Evers, M. & Kessels, W. M. M., 2004, International symposium on inorganic and environmental materials 2004 : October 18-21, 2004, Eindhoven, The Netherlands : abstracts. blz. 111-

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

Industrial implementation of plasma deposition using the expanding thermal plasma technique

Sanden, van de, M. C. M., Oever, van den, P. J., Creatore, M., Schaepkens, M., Miebach, T., Iacovangelo, C. D., Bosch, R. C. M., Bijker, M. D., Evers, M. F. J., Schram, D. C. & Kessels, W. M. M., 2004, 47th annual technical conference proceedings / Society of Vacuum Coaters : April 24 - 29, 2004, Dallas, Texas, USA. Albuquerque, NM: Society of Vacuum Coaters, blz. 447-454

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

thermal plasmas
silicones
polycarbonates
silicon nitrides
passivity
2003
20 Citaties (Scopus)

Ellipsometric characterization of expanding thermal plasma deposited SiO2-like films

Creatore, M., Kilic, M., O'Brien, K., Groenen, R. & Sanden, van de, M. C. M., 2003, In : Thin Solid Films. 427, 1-2, blz. 137-141

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Plasma Gases
thermal plasmas
Plasmas
ellipsometry
Plasma deposition
1 Citaat (Scopus)

Expanding thermal plasma for low-k dielectrics deposition

Creatore, M., Barrell, Y., Kessels, W. M. M. & van de Sanden, M. C. M., 1 dec 2003, Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-k Dielectrics - 2003. Warrendale: Materials Research Society, blz. 339-344 6 blz. (Materials Research Society Symposium - Proceedings).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Plasma Gases
Plasmas
Argon
Silicon Dioxide
Electric properties
5 Citaties (Scopus)

Remote nitridation of silicon surface by Ar/N2-fed expanding thermal plasma

Dinescu, G., Creatore, M. & Sanden, van de, M. C. M., 2003, In : Surface and Coatings Technology. 174-175, blz. 370-374

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Plasma Gases
Nitridation
thermal plasmas
Silicon
oxynitrides
2002
60 Citaties (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Deposition of SiOx : films from hexamehtyldisiloxane/oxygen radiofrequency glow discharges: process optimization by plasma diagnostics

Creatore, M., Palumbo, F. & Agostino, d', R., 2002, In : Plasmas and Polymers. 7, 3, blz. 291-310

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

plasma diagnostics
glow discharges
optimization
oxygen
food
40 Citaties (Scopus)

Diagnostics and insights on PECVD for gas-barrier coatings

Creatore, M., Palumbo, F. & Agostino, d', R., 2002, In : Pure and Applied Chemistry. 74, 3, blz. 407-411

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Plasma enhanced chemical vapor deposition
Gases
Plasmas
Coatings
Infrared absorption
7 Citaties (Scopus)

Expanding thermal plasma deposition of silicon dioxide-like films for microelectronic devices

Creatore, M., van Hest, M. F. A. M., Benedikt, J. & van de Sanden, M. C. M., 2002, Amorphous and heterogeneous silicon-based films, 2002 : symposium held [at the 2002 MRS spring meeting] April 2 - 5, 2002, San Francisco, California, U.S.A. blz. 101-107 A19.3. (Materials Research Society Symposium Proceedings; vol. 715).

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

thermal plasmas
microelectronics
silicon dioxide
chemical properties
spectral resolution
2001
21 Citaties (Scopus)

NH3 plasma treatment of PET for enhancing aluminium adhesion

Creatore, M., Favia, P., Tenuto, G., Valentini, A. & Agostino, d', R., 2001, In : Plasmas and Polymers. 5, 3-4, blz. 201-218

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Aluminum
Adhesion
Plasmas
Polymers
Metals