• 57 Citaties
20172020

Research output per year

Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Onderzoeksoutput

  • 57 Citaties
  • 7 Tijdschriftartikel

Broadband optical response of graphene measured by terahertz time-domain spectroscopy and FTIR spectroscopy

Arts, K., Vervuurt, R. H. J., Bhattacharya, A., Gómez Rivas, J., Oosterbeek, J. W. & Bol, A. A., 21 aug 2018, In : Journal of Applied Physics. 124, 7, 6 blz., 073105.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
3 Citaten (Scopus)
41 Downloads (Pure)

Correlating the silicon surface passivation to the nanostructure of low-temperature a-Si:H after rapid thermal annealing

Macco, B., Melskens, J., Podraza, N. J., Arts, K., Pugh, C., Thomas, O. & Kessels, W. M. M., 20 jul 2017, In : Journal of Applied Physics. 122, 3, 7 blz., 035302.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
16 Citaten (Scopus)
91 Downloads (Pure)

Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties

Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

16 Citaten (Scopus)
3 Downloads (Pure)

Film conformality and extracted recombination probabilities of O atoms during plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2, TiO2, Al2O3, and HfO2

Arts, K., Utriainen, M., Puurunen, R. L., Kessels, E. & Knoops, H., 7 nov 2019, In : Journal of Physical Chemistry C. 123, 44, blz. 27030-27035 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
1 Citaat (Scopus)
14 Downloads (Pure)

Plasma-Assisted ALD of Highly Conductive HfNx: On the Effect of Energetic Ions on Film Microstructure

Karwal, S., Verheijen, M. A., Arts, K., Faraz, T., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 1 mei 2020, In : Plasma Chemistry and Plasma Processing. 40, 3, blz. 697-712 16 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
1 Downloads (Pure)

Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition

Knoops, H., Faraz, T., Arts, K. & Kessels, E., 1 mei 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 26 blz., 030902.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
17 Citaten (Scopus)
226 Downloads (Pure)

Sticking probabilities of H2O and Al(CH3)3 during atomic layer deposition of Al2O3 extracted from their impact on film conformality

Arts, K., Vandalon, V., Puurunen, R. L., Utriainen, M., Gao, F., Kessels, E. & Knoops, H., 24 apr 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 5 blz., 030908.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
4 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)