• 48 Citaties
20172019

Research output per year

Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Karsten Arts actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 14 Soortgelijke profielen

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput

  • 48 Citaties
  • 6 Tijdschriftartikel

Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties

Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

  • 11 Citaten (Scopus)
    3 Downloads (Pure)

    Film conformality and extracted recombination probabilities of O atoms during plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2, TiO2, Al2O3, and HfO2

    Arts, K., Utriainen, M., Puurunen, R. L., Kessels, E. & Knoops, H., 7 nov 2019, In : Journal of Physical Chemistry C. 123, 44, blz. 27030-27035 6 blz.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

    Open Access
    Bestand
  • 11 Downloads (Pure)

    Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition

    Knoops, H., Faraz, T., Arts, K. & Kessels, E., 1 mei 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 26 blz., 030902.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

    Open Access
    Bestand
  • 15 Citaten (Scopus)
    165 Downloads (Pure)

    Sticking probabilities of H2O and Al(CH3)3 during atomic layer deposition of Al2O3 extracted from their impact on film conformality

    Arts, K., Vandalon, V., Puurunen, R. L., Utriainen, M., Gao, F., Kessels, E. & Knoops, H., 24 apr 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 5 blz., 030908.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

  • 4 Citaten (Scopus)

    Broadband optical response of graphene measured by terahertz time-domain spectroscopy and FTIR spectroscopy

    Arts, K., Vervuurt, R. H. J., Bhattacharya, A., Gómez Rivas, J., Oosterbeek, J. W. & Bol, A. A., 21 aug 2018, In : Journal of Applied Physics. 124, 7, 6 blz., 073105.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

    Open Access
    Bestand
  • 3 Citaten (Scopus)
    38 Downloads (Pure)

    Knipsels

    Manufacturing Bits: Feb. 18

    Karsten Arts

    18/02/20

    1 item van Media-aandacht

    Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar

    Scriptie

    Functional analysis of retarding field energy analyzers for ion energy distribution measurements in plasma enhanced atomic layer deposition

    Auteur: Buiter, J. W., 2018

    Begeleider: Arts, K. (Afstudeerdocent 1), Kessels, W. (. (Afstudeerdocent 2) & Knoops, H. C. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand

    Graphene microwave-reflective coatings for diagnostic windows in fusion reactors

    Auteur: Arts, K., 2017

    Begeleider: Oosterbeek, J. (. (Afstudeerdocent 1), Bol, A. A. (Afstudeerdocent 2) & Vervuurt, R. H. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand

    On the influence of ICP-PECVD deposition parameters and annealing on the properties of a-Si:H passivation layers

    Auteur: Arts, K., 2014

    Begeleider: Macco, B. (Afstudeerdocent 1) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Bachelor

    Bestand