Karsten Arts, MSc

ir.

Promovendus, Department of Applied Physics, Plasma & Materials Processing

https://orcid.org/0000-0003-4266-6559

E-mailk.arts@tue.nl

Bron: Scopus

Onderzoeksresultaten per jaar

Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk

Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Karsten Arts actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

6 Soortgelijke profielen

Netwerk

Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

107 Citaties
8 Tijdschriftartikel
1 Rapport

Evidence for low-energy ions influencing plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2: Impact on the growth per cycle and wet etch rate
Arts, K., Deijkers, J. H., Faraz, T., Puurunen, R. L., Kessels, W. M. M. & Knoops, H. C. M., 20 jul 2020, In : Applied Physics Letters. 117, 3, 5 blz., 031602.
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Evidence for low-energy ions influencing plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2 as measured with Impedans' Quantum System: Application note [QC03]
Arts, K., Deijkers, J. H., Faraz, T., Puurunen, R. L., Kessels, W. M. M. & Knoops, H. C. M., aug 2020, Impedans Plasma Measurement. 2 blz.
Onderzoeksoutput: Boek/rapport › Rapport › Academic

Open Access
Bestand

18 Downloads (Pure)
Plasma-Assisted ALD of Highly Conductive HfNx: On the Effect of Energetic Ions on Film Microstructure
Karwal, S., Verheijen, M. A., Arts, K., Faraz, T., Kessels, W. M. M. & Creatore, M., 1 mei 2020, In : Plasma Chemistry and Plasma Processing. 40, 3, blz. 697-712 16 blz.
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

Open Access
Bestand

3 Citaten (Scopus)

18 Downloads (Pure)
Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties
Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
24 Citaten (Scopus)

3 Downloads (Pure)
Film conformality and extracted recombination probabilities of O atoms during plasma-assisted atomic layer deposition of SiO₂, TiO₂, Al2O₃, and HfO₂
Arts, K., Utriainen, M., Puurunen, R. L., Kessels, E. & Knoops, H., 7 nov 2019, In : Journal of Physical Chemistry C. 123, 44, blz. 27030-27035 6 blz.
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

Open Access
Bestand
8 Citaten (Scopus)

45 Downloads (Pure)

Manufacturing Bits: Feb. 18
Karsten Arts
18/02/20
1 item van Media-aandacht
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar

Graphene microwave-reflective coatings for diagnostic windows in fusion reactors
Auteur: Arts, K., 2017
Begeleider: Oosterbeek, J. (. (Afstudeerdocent 1), Bol, A. A. (Afstudeerdocent 2) & Vervuurt, R. H. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/Masterproef: Master

Bestand
On the influence of ICP-PECVD deposition parameters and annealing on the properties of a-Si:H passivation layers
Auteur: Arts, K., 2014
Begeleider: Macco, B. (Afstudeerdocent 1) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/Masterproef: Bachelor

Bestand