Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's waar Karsten Arts actief is. Deze onderwerplabels komen voort uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 15 Vergelijkbare profielen
atomic layer epitaxy Fysica en Astronomie
Atomic layer deposition Engineering en materiaalwetenschappen
Plasmas Engineering en materiaalwetenschappen
passivity Fysica en Astronomie
graphene Fysica en Astronomie
infrared spectroscopy Fysica en Astronomie
broadband Fysica en Astronomie
Atoms Engineering en materiaalwetenschappen

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput 2017 2019

  • 42 Citaten
  • 7 Tijdschriftartikel
10 Citaties (Scopus)
3 Downloads (Pure)

Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties

Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

atomic layer epitaxy
ions
energy
dosage
energy distribution
9 Downloads (Pure)

Film conformality and extracted recombination probabilities of O atoms during plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2, TiO2, Al2O3, and HfO2

Arts, K., Utriainen, M., Puurunen, R. L., Kessels, E. & Knoops, H., 7 nov 2019, In : Journal of Physical Chemistry C. 123, 44, blz. 27030-27035 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Plasmas
Atoms
atoms
11 Citaties (Scopus)
138 Downloads (Pure)

Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition

Knoops, H., Faraz, T., Arts, K. & Kessels, E., 1 mei 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 26 blz., 030902.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Plasmas
Plasma deposition
emerging
3 Citaties (Scopus)

Sticking probabilities of H2O and Al(CH3)3 during atomic layer deposition of Al2O3 extracted from their impact on film conformality

Arts, K., Vandalon, V., Puurunen, R. L., Utriainen, M., Gao, F., Kessels, E. & Knoops, H., 24 apr 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 5 blz., 030908.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
profiles
high aspect ratio
Temperature
3 Citaties (Scopus)
34 Downloads (Pure)

Broadband optical response of graphene measured by terahertz time-domain spectroscopy and FTIR spectroscopy

Arts, K., Vervuurt, R. H. J., Bhattacharya, A., Gómez Rivas, J., Oosterbeek, J. W. & Bol, A. A., 21 aug 2018, In : Journal of Applied Physics. 124, 7, 6 blz., 073105.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
graphene
infrared spectroscopy
broadband
spectroscopy
transmittance

Pers/media

Manufacturing Bits: Feb. 18

Karsten Arts

18/02/20

1 item van Media-aandacht

Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar

Scriptie

Functional analysis of retarding field energy analyzers for ion energy distribution measurements in plasma enhanced atomic layer deposition

Auteur: Buiter, J. W., 2018

Begeleider: Arts, K. (Afstudeerdocent 1), Kessels, W. (. (Afstudeerdocent 2) & Knoops, H. C. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Master

Bestand

On the influence of ICP-PECVD deposition parameters and annealing on the properties of a-Si:H passivation layers

Auteur: Arts, K., 2014

Begeleider: Macco, B. (Afstudeerdocent 1) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Bachelor

Bestand