Onderzoeksoutput per jaar
Onderzoeksoutput per jaar
Vingerafdruk
Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Karsten Arts actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
- 1 Soortgelijke profielen
Netwerk
Recente externe samenwerking op landen-/regioniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken of
Onderzoeksoutput
-
Conformality of atomic layer deposition in microchannels: impact of process parameters on the simulated thickness profile
Yim, J., Verkama, E., Velasco, J. A., Arts, K. & Puurunen, R. L., 21 apr. 2022, In: Physical Chemistry Chemical Physics. 24, 15, blz. 8645–8660 16 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand1 Downloads (Pure) -
Conformality and the role of ions during plasma-assisted atomic layer deposition
Arts, K., 15 sep. 2021, Eindhoven: Eindhoven University of Technology. 187 blz.Onderzoeksoutput: Scriptie › Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)
Open AccessBestand22 Downloads (Pure) -
Impact of Ions on Film Conformality and Crystallinity during Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of TiO2
Arts, K., Thepass, H., Verheijen, M. A., Puurunen, R. L., Kessels, W. M. M. & Knoops, H. C. M., 13 jul. 2021, In: Chemistry of Materials. 33, 13, blz. 5002-5009 8 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand3 Citaten (Scopus)14 Downloads (Pure) -
Innovative remote plasma source for atomic layer deposition for GaN devices
Knoops, H., Arts, K., Buiter, J. W., Martini, L. M., Engeln, R. A. H., Hemakumara, D. T., Powell, M., Kessels, W. M. M., Hodson, C. J. & O'Mahony, A., 21 sep. 2021, In: Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 39, 6, 9 blz., 062403.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand33 Downloads (Pure) -
Oxygen Recombination Probability Data for Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of SiO2 and TiO2
Arts, K., Deijkers, J. H., Puurunen, R. L., Kessels, W. M. M. & Knoops, H. C. M., 8 apr. 2021, In: Journal of Physical Chemistry C. 125, 15, blz. 8244–8252 9 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access2 Citaten (Scopus)
Knipsels
Scriptie
-
Graphene microwave-reflective coatings for diagnostic windows in fusion reactors
Auteur: Arts, K., 2017Begeleider: Oosterbeek, J. W. (Afstudeerdocent 1), Bol, A. A. (Afstudeerdocent 2) & Vervuurt, R. H. J. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/Masterproef: Master
Bestand -
On the influence of ICP-PECVD deposition parameters and annealing on the properties of a-Si:H passivation layers
Auteur: Arts, K., 2014Begeleider: Macco, B. (Afstudeerdocent 1) & Kessels, W. M. M. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/Masterproef: Bachelor
Bestand