Onderzoeksoutput per jaar
Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Karsten Arts actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
- 14 Soortgelijke profielen
Netwerk
Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.
Onderzoeksoutput
- 48 Citaties
- 6 Tijdschriftartikel
Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties
Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
11
Citaten
(Scopus)
3
Downloads
(Pure)
Film conformality and extracted recombination probabilities of O atoms during plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2, TiO2, Al2O3, and HfO2
Arts, K., Utriainen, M., Puurunen, R. L., Kessels, E. & Knoops, H., 7 nov 2019, In : Journal of Physical Chemistry C. 123, 44, blz. 27030-27035 6 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition
Knoops, H., Faraz, T., Arts, K. & Kessels, E., 1 mei 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 26 blz., 030902.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
15
Citaten
(Scopus)
165
Downloads
(Pure)
Sticking probabilities of H2O and Al(CH3)3 during atomic layer deposition of Al2O3 extracted from their impact on film conformality
Arts, K., Vandalon, V., Puurunen, R. L., Utriainen, M., Gao, F., Kessels, E. & Knoops, H., 24 apr 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 5 blz., 030908.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
4
Citaten
(Scopus)
Broadband optical response of graphene measured by terahertz time-domain spectroscopy and FTIR spectroscopy
Arts, K., Vervuurt, R. H. J., Bhattacharya, A., Gómez Rivas, J., Oosterbeek, J. W. & Bol, A. A., 21 aug 2018, In : Journal of Applied Physics. 124, 7, 6 blz., 073105.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
3
Citaten
(Scopus)
38
Downloads
(Pure)
Knipsels
Scriptie
Functional analysis of retarding field energy analyzers for ion energy distribution measurements in plasma enhanced atomic layer deposition
Auteur: Buiter, J. W., 2018Begeleider: Arts, K. (Afstudeerdocent 1), Kessels, W. (. (Afstudeerdocent 2) & Knoops, H. C. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand
Graphene microwave-reflective coatings for diagnostic windows in fusion reactors
Auteur: Arts, K., 2017Begeleider: Oosterbeek, J. (. (Afstudeerdocent 1), Bol, A. A. (Afstudeerdocent 2) & Vervuurt, R. H. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand
On the influence of ICP-PECVD deposition parameters and annealing on the properties of a-Si:H passivation layers
Auteur: Arts, K., 2014Begeleider: Macco, B. (Afstudeerdocent 1) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Bachelor
Bestand