Onderzoeksoutput per jaar
Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's waar Karsten Arts actief is. Deze onderwerplabels komen voort uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
- 15 Vergelijkbare profielen
atomic layer epitaxy
Fysica en Astronomie
Atomic layer deposition
Engineering en materiaalwetenschappen
Plasmas
Engineering en materiaalwetenschappen
passivity
Fysica en Astronomie
graphene
Fysica en Astronomie
infrared spectroscopy
Fysica en Astronomie
broadband
Fysica en Astronomie
Atoms
Engineering en materiaalwetenschappen
Netwerk
Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.
Onderzoeksoutput 2017 2019
- 42 Citaten
- 7 Tijdschriftartikel
10
Citaties
(Scopus)
3
Downloads
(Pure)
Energetic Ions during plasma-enhanced atomic layer deposition and their role in tailoring material properties
Faraz, T., Arts, K., Karwal, S., Knoops, H. C. M. & Kessels, W. M. M., 28 feb 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 2, 19 blz., 024002.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
atomic layer epitaxy
ions
energy
dosage
energy distribution
Film conformality and extracted recombination probabilities of O atoms during plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2, TiO2, Al2O3, and HfO2
Arts, K., Utriainen, M., Puurunen, R. L., Kessels, E. & Knoops, H., 7 nov 2019, In : Journal of Physical Chemistry C. 123, 44, blz. 27030-27035 6 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Plasmas
Atoms
atoms
11
Citaties
(Scopus)
138
Downloads
(Pure)
Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition
Knoops, H., Faraz, T., Arts, K. & Kessels, E., 1 mei 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 26 blz., 030902.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Plasmas
Plasma deposition
emerging
3
Citaties
(Scopus)
Sticking probabilities of H2O and Al(CH3)3 during atomic layer deposition of Al2O3 extracted from their impact on film conformality
Arts, K., Vandalon, V., Puurunen, R. L., Utriainen, M., Gao, F., Kessels, E. & Knoops, H., 24 apr 2019, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 37, 3, 5 blz., 030908.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
profiles
high aspect ratio
Temperature
3
Citaties
(Scopus)
34
Downloads
(Pure)
Broadband optical response of graphene measured by terahertz time-domain spectroscopy and FTIR spectroscopy
Arts, K., Vervuurt, R. H. J., Bhattacharya, A., Gómez Rivas, J., Oosterbeek, J. W. & Bol, A. A., 21 aug 2018, In : Journal of Applied Physics. 124, 7, 6 blz., 073105.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
graphene
infrared spectroscopy
broadband
spectroscopy
transmittance
Pers/media
Scriptie
Functional analysis of retarding field energy analyzers for ion energy distribution measurements in plasma enhanced atomic layer deposition
Auteur: Buiter, J. W., 2018Begeleider: Arts, K. (Afstudeerdocent 1), Kessels, W. (. (Afstudeerdocent 2) & Knoops, H. C. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand
On the influence of ICP-PECVD deposition parameters and annealing on the properties of a-Si:H passivation layers
Auteur: Arts, K., 2014Begeleider: Macco, B. (Afstudeerdocent 1) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Bachelor
Bestand