Jeroen Bolk

ing.

  • 760 Citaten
20102020
Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's waar Jeroen Bolk actief is. Deze onderwerplabels komen voort uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 28 Vergelijkbare profielen
ring lasers Fysica en Astronomie
semiconductor lasers Fysica en Astronomie
wavelengths Fysica en Astronomie
waveguides Fysica en Astronomie
Photonics Engineering en materiaalwetenschappen
light amplifiers Fysica en Astronomie
photonics Fysica en Astronomie
chips Fysica en Astronomie

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput 2010 2020

  • 760 Citaten
  • 30 Conferentiebijdrage
  • 16 Tijdschriftartikel
  • 2 Poster

Indium phosphide membrane nanophotonic integrated circuits on silicon

Jiao, Y., van der Tol, J., Pogoretskii, V., van Engelen, J., Kashi, A. A., Reniers, S., Wang, Y., Zhao, X., Yao, W., Liu, T., Pagliano, F., Fiore, A., Zhang, X., Cao, Z., Kumar, R. R., Tsang, H. K., van Veldhoven, R., de Vries, T., Geluk, E. J., Bolk, J. & 3 anderen, Ambrosius, H., Smit, M. & Williams, K., jan 2020, (Geaccepteerd/In druk) In : Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science. 1900606.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Indium phosphide
Nanophotonics
indium phosphides
Silicon
Photonics

Application of optical proximity correction for 193 nm deep UV enabled InP photonic integrated circuits

Bolk, J., Ambrosius, H., Latkowski, S., Unal, N., Ritter, D. & Williams, K., 25 apr 2019, blz. 1-3. 3 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan congresPosterAcademic

Bestand
integrated circuits
proximity
lithography
photonics
simulation
2 Citaties (Scopus)
7 Downloads (Pure)

Low loss InP membrane photonic integrated circuits enabled by 193-nm deep UV lithography

van Engelen, J., Reniers, S., Bolk, J., Williams, K., van der Tol, J. & Jiao, Y., 19 mei 2019, 2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019 - Proceedings. Piscataway: Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2 blz. 8819069

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Open Access
Bestand
Mach-Zehnder interferometers
integrated circuits
Q factors
lithography
resonators
5 Citaties (Scopus)
6 Downloads (Pure)

Deep UV lithography process in generic InP integration for arrayed waveguide gratings

Bolk, J., Ambrosius, H., Stabile, R., Latkowski, S., Leijtens, X., Bitincka, E., Augustin, L., Marsan, D., Darracq, J. & Williams, K., 24 mei 2018, In : IEEE Photonics Technology Letters. 30, 3, blz. 1222-1225 4 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Arrayed waveguide gratings
Lithography
lithography
gratings
waveguides

Reflow of deep UV resist for line edge roughness reduction in InP membrane waveguides

van Engelen, J. P., Bolk, J., Smit, M. K., Williams, K. A., van der Tol, J. J. G. M. & Jiao, Y., 2018, Proceedings of the 23rd Annual Symposium of the IEEE Photonics Society Benelux Chapter. blz. 165-168 4 blz.

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

roughness
membranes
waveguides
phase error
photoresists