Jeroen Bolk

ing.

  • 786 Citaties
20102020

Research output per year

Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Jeroen Bolk actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 19 Soortgelijke profielen

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput

  • 786 Citaties
  • 30 Conferentiebijdrage
  • 16 Tijdschriftartikel
  • 2 Poster
  • 1 Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)

ArF scanner lithography for InP photonic integrated circuit fabrication

Bolk, J., 12 mei 2020, (Geaccepteerd/In druk) Eindhoven: Technische Universiteit Eindhoven.

Onderzoeksoutput: ScriptieDissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)

Indium phosphide membrane nanophotonic integrated circuits on silicon

Jiao, Y., van der Tol, J., Pogoretskii, V., van Engelen, J., Kashi, A. A., Reniers, S., Wang, Y., Zhao, X., Yao, W., Liu, T., Pagliano, F., Fiore, A., Zhang, X., Cao, Z., Kumar, R. R., Tsang, H. K., van Veldhoven, R., de Vries, T., Geluk, E. J., Bolk, J. & 3 anderen, Ambrosius, H., Smit, M. & Williams, K., 1 feb 2020, In : Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science. 217, 3, 12 blz., 1900606.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
  • 16 Downloads (Pure)

    Application of optical proximity correction for 193 nm deep UV enabled InP photonic integrated circuits

    Bolk, J., Ambrosius, H., Latkowski, S., Unal, N., Ritter, D. & Williams, K., 25 apr 2019, blz. 1-3. 3 blz.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan congresPoster

    Bestand
  • Low loss InP membrane photonic integrated circuits enabled by 193-nm deep UV lithography

    van Engelen, J., Reniers, S., Bolk, J., Williams, K., van der Tol, J. & Jiao, Y., 19 mei 2019, 2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019 - Proceedings. Piscataway: Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2 blz. 8819069

    Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

    Open Access
    Bestand
  • 2 Citaten (Scopus)
    15 Downloads (Pure)

    Deep UV lithography process in generic InP integration for arrayed waveguide gratings

    Bolk, J., Ambrosius, H., Stabile, R., Latkowski, S., Leijtens, X., Bitincka, E., Augustin, L., Marsan, D., Darracq, J. & Williams, K., 1 jul 2018, In : IEEE Photonics Technology Letters. 30, 13, blz. 1222-1225 4 blz.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

    Open Access
    Bestand
  • 5 Citaten (Scopus)
    12 Downloads (Pure)