• 1945 Citaties
20032014

Onderzoeksresultaten per jaar

Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Persoonlijk profiel

Research profile

After my graduation on "New experimental setup for surface studies during silicon-based film growth: radical sources and hydrogen-induced etching experiments" in the Equilibrium and Transport in Plasmas (ETP, 2006 ® renamed to Plasma & materials Processing (PMP)) research group at Eindhoven University of Technology, I currently (t ³ Feb. 2004) work as PhD student in the same group on the topic of "Plasma-assisted atomic layer deposition". I mainly focus on the fundamentals of the film growth by studying the process by in situ spectroscopic ellipsometry and other ex situ analysis. More information on this research area can be found on the PMP internet site http://www.phys.tue.nl/pmp

Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Erik Langereis actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 11 Soortgelijke profielen

Onderzoeksoutput

Dielectric material options for integrated capacitors

Ruhl, G., Lehnert, W., Lukosius, M., Wenger, C., Baristiran Kaynak, C., Blomberg, T., Haukka, S., Baumann, P. K., Besling, W. F. A., Roest, A. L., Riou, B., Lhostis, S., Halimaou, A., Roozeboom, F., Langereis, E., Kessels, W. M. M., Zauner, A. & Rushworth, S. A., 2014, In : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 3, 8, blz. N120-N125 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
  • 3 Citaten (Scopus)
    473 Downloads (Pure)
    Open Access
    Bestand
  • 14 Citaten (Scopus)
    108 Downloads (Pure)

    Atomic layer deposition of Ru from CpRu(CO2)Et using O2 gas and O2 plasma

    Leick, N., Verkuijlen, R. O. F., Lamagna, L., Langereis, E., Rushworth, S. A., Roozeboom, F., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 29, 2, blz. 021016-1/7 7 blz., 021016.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

    Open Access
    Bestand
  • 40 Citaten (Scopus)
    104 Downloads (Pure)

    Remote plasma ALD of SrTiO3 using cyclopentadienlyl-based Ti and Sr precursors

    Langereis, E., Roijmans, R. F. H., Roozeboom, F., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 2, blz. G34-G38

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

    Open Access
    Bestand
  • 30 Citaten (Scopus)
    81 Downloads (Pure)

    3D-integrated all-solid-state capacitors

    Roozeboom, F., Langereis, E., Leick, N., Sanden, van de, M. C. M., Kessels, W. M. M., Klootwijk, J. H., Dekkers, W., Tois, E., Tuominen, M., Lamy, Y., Jinesh, K. B., Besling, W. F. A., Roest, A. & Bunel, C., 2010, Invited presentation at Symposium FD on ‘Electrochemical Energy Storage Systems: the Next Evolution’ of the Forum on New Materials, Montcatini Terme, June 13-18, 2010. blz. FD-2:IL05-

    Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

    1 Downloads (Pure)

    Activiteiten

    • 1 Aangemelde presentatie

    52nd Society of Vacuum Coaters Annual Technical Conference, Santa Clara, USA

    Erik Langereis (Spreker)
    1 mei 2009

    Activiteit: Types gesprekken of presentatiesAangemelde presentatieWetenschappelijk

    Scriptie

    Atomic layer deposition of metal oxides studied by in situ transmission infrared spectroscopy

    Auteur: Bouman, M., 31 dec 2008

    Begeleider: Langereis, E. (Afstudeerdocent 1) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand

    Atomic layer deposition of Ruthenium thin films using oxygen

    Auteur: Verkuijlen, R., 31 dec 2009

    Begeleider: Leick-Marius, N. (Afstudeerdocent 1), Langereis, E. (Afstudeerdocent 2) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand

    New experimental setup for surface studies during silicon-based film growth: radical sources and hydrogen-induced etching experiments

    Auteur: Langereis, E., 31 dec 2003

    Begeleider: Hoefnagels, J. (Afstudeerdocent 1), Kessels, W. (Afstudeerdocent 2) & van de Sanden, M. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand

    Plasma-assisted atomic layer deposition of Al2O3 studied by infrared transmission spectroscopy

    Auteur: Keijmel, J., 29 feb 2008

    Begeleider: Langereis, E. (Afstudeerdocent 1), Kessels, W. (Afstudeerdocent 2) & van de Sanden, M. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand

    Remote plasma atomic layer deposition of TaNx films

    Auteur: Knoops, H., 2007

    Begeleider: van de Sanden, M. (Afstudeerdocent 1), Langereis, E. (Afstudeerdocent 2) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand