• 1893 Citaten
20032014
Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Persoonlijk profiel

Research profile

After my graduation on "New experimental setup for surface studies during silicon-based film growth: radical sources and hydrogen-induced etching experiments" in the Equilibrium and Transport in Plasmas (ETP, 2006 ® renamed to Plasma & materials Processing (PMP)) research group at Eindhoven University of Technology, I currently (t ³ Feb. 2004) work as PhD student in the same group on the topic of "Plasma-assisted atomic layer deposition". I mainly focus on the fundamentals of the film growth by studying the process by in situ spectroscopic ellipsometry and other ex situ analysis. More information on this research area can be found on the PMP internet site http://www.phys.tue.nl/pmp

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's waar Erik Langereis actief is. Deze onderwerplabels komen voort uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 12 Vergelijkbare profielen
atomic layer epitaxy Fysica en Astronomie
Atomic layer deposition Engineering en materiaalwetenschappen
ellipsometry Fysica en Astronomie
Plasmas Engineering en materiaalwetenschappen
cycles Fysica en Astronomie
Spectroscopic ellipsometry Engineering en materiaalwetenschappen
thin films Fysica en Astronomie
ruthenium Fysica en Astronomie

Onderzoeksoutput 2003 2014

3 Citaties (Scopus)
410 Downloads (Pure)

Dielectric material options for integrated capacitors

Ruhl, G., Lehnert, W., Lukosius, M., Wenger, C., Baristiran Kaynak, C., Blomberg, T., Haukka, S., Baumann, P. K., Besling, W. F. A., Roest, A. L., Riou, B., Lhostis, S., Halimaou, A., Roozeboom, F., Langereis, E., Kessels, W. M. M., Zauner, A. & Rushworth, S. A., 2014, In : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 3, 8, blz. N120-N125 6 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
Capacitors
Leakage currents
Capacitance
Current density
Vapor deposition
12 Citaties (Scopus)
97 Downloads (Pure)
Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Plasmas
Reaction products
reaction products
40 Citaties (Scopus)
87 Downloads (Pure)

Atomic layer deposition of Ru from CpRu(CO2)Et using O2 gas and O2 plasma

Leick, N., Verkuijlen, R. O. F., Lamagna, L., Langereis, E., Rushworth, S. A., Roozeboom, F., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 29, 2, blz. 021016-1/7 7 blz., 021016.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
Atomic layer deposition
atomic layer epitaxy
Ruthenium
Gases
Plasmas
30 Citaties (Scopus)
72 Downloads (Pure)

Remote plasma ALD of SrTiO3 using cyclopentadienlyl-based Ti and Sr precursors

Langereis, E., Roijmans, R. F. H., Roozeboom, F., Sanden, van de, M. C. M. & Kessels, W. M. M., 2011, In : Journal of the Electrochemical Society. 158, 2, blz. G34-G38

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
Plasma deposition
Atomic layer deposition
Strontium
Spectroscopic ellipsometry
Amorphous films

3D-integrated all-solid-state capacitors

Roozeboom, F., Langereis, E., Leick, N., Sanden, van de, M. C. M., Kessels, W. M. M., Klootwijk, J. H., Dekkers, W., Tois, E., Tuominen, M., Lamy, Y., Jinesh, K. B., Besling, W. F. A., Roest, A. & Bunel, C., 2010, Invited presentation at Symposium FD on ‘Electrochemical Energy Storage Systems: the Next Evolution’ of the Forum on New Materials, Montcatini Terme, June 13-18, 2010. blz. FD-2:IL05-

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

Activiteiten 2009 2009

  • 1 Aangemelde presentatie

52nd Society of Vacuum Coaters Annual Technical Conference, Santa Clara, USA

Erik Langereis (Spreker)
1 mei 2009

Activiteit: Types gesprekken of presentatiesAangemelde presentatieWetenschappelijk

Scriptie

Atomic layer deposition of metal oxides studied by in situ transmission infrared spectroscopy

Auteur: Bouman, M., 31 dec 2008

Begeleider: Langereis, E. (Afstudeerdocent 1) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Master

Bestand

Atomic layer deposition of Ruthenium thin films using oxygen

Auteur: Verkuijlen, R., 31 dec 2009

Begeleider: Leick-Marius, N. (Afstudeerdocent 1), Langereis, E. (Afstudeerdocent 2) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Master

Bestand

New experimental setup for surface studies during silicon-based film growth: radical sources and hydrogen-induced etching experiments

Auteur: Langereis, E., 31 dec 2003

Begeleider: Hoefnagels, J. (Afstudeerdocent 1), Kessels, W. (Afstudeerdocent 2) & van de Sanden, M. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Master

Bestand

Plasma-assisted atomic layer deposition of Al2O3 studied by infrared transmission spectroscopy

Auteur: Keijmel, J., 29 feb 2008

Begeleider: Langereis, E. (Afstudeerdocent 1), Kessels, W. (Afstudeerdocent 2) & van de Sanden, M. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Master

Bestand

Remote plasma atomic layer deposition of TaNx films

Auteur: Knoops, H., 2007

Begeleider: van de Sanden, M. (Afstudeerdocent 1), Langereis, E. (Afstudeerdocent 2) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Master

Bestand