Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's waar Alex W. van de Steeg actief is. Deze onderwerplabels komen voort uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 12 Vergelijkbare profielen
Plasmas Chemische stoffen
Methane Chemische stoffen
Surface phenomena Chemische stoffen
methane Fysica en Astronomie
Microwaves Chemische stoffen
Raman scattering Chemische stoffen
Etching Chemische stoffen
microwaves Fysica en Astronomie

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput 2017 2019

  • 10 Citaten
  • 4 Tijdschriftartikel

Absolute CO number densities measured using TALIF in a non-thermal plasma environment

Damen, M. A., Hage, D. A. C. M., van de Steeg, A. W., Martini, L. M. & Engeln, R. A. H., 7 nov 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 11, 115006.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

plasma currents
glow discharges
excitation
temperature
pulsed lasers

Quantifying methane vibrational and rotational temperature with Raman scattering

Butterworth, T. D., Amyay, B., van den Bekerom, D., van de Steeg, A., Minea, T., Gatti, N., Ong, Q., Richard, C., van Kruijsdijk, C., Smits, J. T., van Bavel, A. P., Boudon, V. & van Rooij, G. J., 1 okt 2019, In : Journal of Quantitative Spectroscopy and Radiative Transfer. 236, 14 blz., 106562.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Methane
Raman scattering
methane
Raman spectra
Plasmas

Role of electron–ion dissociative recombination in CH 4 microwave plasma on basis of simulations and measurements of electron energy

Minea, T., van de Steeg, A. W., Wolf, B., da Silva, A. S., Peeters, F. J. J., van den Bekerom, D. C. M., Butterworth, T., Ong, Q., van de Sanden, M. C. M. & van Rooij, G. J., 15 sep 2019, In : Plasma Chemistry and Plasma Processing. 39, 5, blz. 1275-1289 15 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Microwaves
electron energy
methylidyne
Hydrocarbons
Plasmas
10 Citaties (Scopus)

Surface phenomena during plasma-assisted atomic layer etching of SiO2

Gasvoda, R. J., van de Steeg, A. W., Bhowmick, R., Hudson, E. A. & Agarwal, S., 13 sep 2017, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 9, 36, blz. 31067-31075 9 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Surface phenomena
Etching
Plasmas
Ellipsometry
Fluorocarbons

Scriptie

Bestand