• 20 Citaties
20172020

Onderzoeksresultaten per jaar

Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Alex W. van de Steeg actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 13 Soortgelijke profielen

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput

  • 20 Citaties
  • 5 Tijdschriftartikel

Mode resolved heating dynamics in pulsed microwave CO2 plasma from laser Raman scattering

van den Bekerom, D. C. M., van de Steeg, A., van de Sanden, M. C. M. & van Rooij, G. J., 30 jan 2020, In : Journal of Physics D: Applied Physics. 53, 5, 11 blz., 054002.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

  • 2 Citaten (Scopus)

    Absolute CO number densities measured using TALIF in a non-thermal plasma environment

    Damen, M. A., Hage, D. A. C. M., van de Steeg, A. W., Martini, L. M. & Engeln, R. A. H., 7 nov 2019, In : Plasma Sources Science and Technology. 28, 11, 115006.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

  • 2 Citaten (Scopus)
    1 Downloads (Pure)

    Quantifying methane vibrational and rotational temperature with Raman scattering

    Butterworth, T. D., Amyay, B., van den Bekerom, D., van de Steeg, A., Minea, T., Gatti, N., Ong, Q., Richard, C., van Kruijsdijk, C., Smits, J. T., van Bavel, A. P., Boudon, V. & van Rooij, G. J., 1 okt 2019, In : Journal of Quantitative Spectroscopy and Radiative Transfer. 236, 14 blz., 106562.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

  • 3 Citaten (Scopus)

    Role of electron–ion dissociative recombination in CH 4 microwave plasma on basis of simulations and measurements of electron energy

    Minea, T., van de Steeg, A. W., Wolf, B., da Silva, A. S., Peeters, F. J. J., van den Bekerom, D. C. M., Butterworth, T., Ong, Q., van de Sanden, M. C. M. & van Rooij, G. J., 15 sep 2019, In : Plasma Chemistry and Plasma Processing. 39, 5, blz. 1275-1289 15 blz.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

  • Surface phenomena during plasma-assisted atomic layer etching of SiO2

    Gasvoda, R. J., van de Steeg, A. W., Bhowmick, R., Hudson, E. A. & Agarwal, S., 13 sep 2017, In : ACS Applied Materials & Interfaces. 9, 36, blz. 31067-31075 9 blz.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

  • 13 Citaten (Scopus)

    Scriptie

    Bestand
    Bestand