Onderzoeksoutput per jaar
Persoonlijk profiel
Research profile
Adriaan J.M. Mackus is Assistant Professor in the Plasma and Materials Processing group within the Applied Physics department at Eindhoven University of Technology (TU/e). His research encompasses thin film deposition and etching for applications in nanoelectronics, with a focus on selective processing for bottom-up fabrication.
Academic background
Adrie Mackus earned his M.Sc. and Ph.D. degrees (both cum laude) in Applied Physics at Eindhoven University of Technology TU/e in 2009 and 2013, respectively. His doctoral thesis work “Atomic Layer Deposition of Platinum: From Surface Reactions to Nanopatterning” was carried out in close collaboration with the company FEI Electron Optics, and included a visit to Purdue University, USA in 2012. Mackus worked as a postdoctoral researcher at the department of Chemical Engineering at Stanford University from 2014 to 2016, for which he received a personal NWO Rubicon grant in 2014. At Stanford, he focused on the study of the atomic layer deposition (ALD) of ternary materials using in-situ techniques. After his postdoc, Mackus returned to TU/e in 2016 as Assistant Professor. Adrie is a founding member of the Early Career Investigator (ECI) network within COST action HERALD and chaired the 2nd Area Selective Deposition workshop (ASD2017) in Eindhoven in 2017.
Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Adrie Mackus actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
- 3 Soortgelijke profielen
Netwerk
Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.
Onderzoeksoutput
From the bottom-up: toward area-selective atomic layer deposition with high selectivity
Mackus, A. J. M., Merkx, M. J. M. & Kessels, W. M. M., 8 jan 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 1, blz. 2-12 11 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
23
Citaten
(Scopus)
262
Downloads
(Pure)
Area-selective atomic layer deposition of SiO2 using acetylacetone as a chemoselective inhibitor in an ABC-type cycle
Mameli, A., Merkx, M. J. M., Karasulu, B., Roozeboom, F., Kessels, W. M. M. & MacKus, A. J. M., 26 sep 2017, In : ACS Nano. 11, 9, blz. 9303-9311 9 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access
Bestand
33
Citaten
(Scopus)
225
Downloads
(Pure)
Synthesis of doped, ternary, and quaternary materials by atomic layer deposition: a review
Mackus, A., Schneider, J. R., MacIsaac, C., Baker, J. G. & Bent, S. F., 26 feb 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 4, blz. 1142-1183 42 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
18
Citaten
(Scopus)
2
Downloads
(Pure)
Mechanism of precursor blocking by acetylacetone inhibitor molecules during area-selective atomic layer deposition of SiO2
Merkx, M. J. M., Sandoval, T. E., Hausmann, D. M., Kessels, W. M. M. E. & Mackus, A. J. M., 12 feb 2020, (Geaccepteerd/In druk) In : Chemistry of Materials.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Synthesis of a hybrid nanostructure of ZnO-decorated MoS2 by atomic layer deposition
Oh, I. K., Kim, W. H., Zeng, L., Singh, J., Bae, D., Mackus, A. J. M., Song, J. G., Seo, S., Shong, B., Kim, H. & Bent, S. F., 25 feb 2020, In : ACS Nano. 14, 2, blz. 1757-1769 13 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Prijzen
Paul H. Holloway Award
Adrie Mackus (Ontvanger), 22 okt 2019
Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk
Activiteiten
New Process Concepts Towards Area-Selective Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching of Zinc Oxide
A. Mameli (Deelnemer), M.A. Verheijen (Deelnemer), B. Karasulu (Deelnemer), A.J.M. Mackus (Deelnemer), W.M.M. Kessels (Deelnemer), F. Roozeboom (Spreker)30 sep 2018 → 4 okt 2018
Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Aangemelde presentatie › Wetenschappelijk
Atomic Layer Etching of ZnO on 2D and 3D substrates, using acetylacetone and O2 plasma
A. Mameli (Deelnemer), M.A. Verheijen (Deelnemer), B. Karasulu (Deelnemer), A.J.M. Mackus (Deelnemer), W.M.M. Kessels (Deelnemer), F. Roozeboom (Uitgenodigde spreker)24 jul 2018 → 28 jul 2018
Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Genodigd spreker › Wetenschappelijk
Overview of approaches for achieving area-selective ALD
A.J.M. Mackus (Uitgenodigde spreker)29 apr 2018 → 1 mei 2018
Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Genodigd spreker › Wetenschappelijk
Cursussen
Impacts
Advanced ALD technologies
M. (Adriana) Creatore (Onderzoeker), W.M.M. (Erwin) Kessels (Onderzoeker), Adrie Mackus (Onderzoeker)
Impact: Research Topic/Theme (at group level)
Future nanoelectronics and nanopatterning
Ageeth A. Bol (Onderzoeker), W.M.M. (Erwin) Kessels (Onderzoeker), Adrie Mackus (Content manager)
Impact: Research Topic/Theme (at group level)
Scriptie
Area-selective atomic layer deposition of SiO2: studied by in situ Fourier transform infrared spectroscopy and spectroscopic ellipsometry
Auteur: Merkx, M. J., 2017Begeleider: Mackus, A. (Afstudeerdocent 1)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand
Area-selective atomic layer deposition using inhibitor molecules in multi-step cycles
Auteur: Jongen, R. G., 2018Begeleider: Merkx, M. J. (Afstudeerdocent 1) & Mackus, A. J. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand
Atomic layer deposition and electron beam induced deposition as nanomanufacturing tools for the fabrication of carbon nanotube contacts
Auteur: Dielissen, S., 31 aug 2011Begeleider: Mackus, A. (Afstudeerdocent 1), Fernández Landaluce, T. (Externe coach) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand
Atomic layer deposition of Pt and its combination with electron beam induced deposition for the fabrication of nanostructures
Auteur: Mackus, A., 30 apr 2009Begeleider: Knoops, H. (Afstudeerdocent 1), Mulders, J. (Externe coach) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand
Direct-write atomic layer deposition for the fabrication of carbon nanotube field-effect transistors
Auteur: Thissen, N., 31 okt 2012Begeleider: Mackus, A. (Afstudeerdocent 1), Bol, A. (Afstudeerdocent 2) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/masterproef: Master
Bestand