• 1526 Citaties
20072020

Onderzoeksresultaten per jaar

Als u wijzigingen in Pure hebt gemaakt, zullen deze hier binnenkort zichtbaar zijn.

Persoonlijk profiel

Research profile

Adriaan J.M. Mackus is Assistant Professor in the Plasma and Materials Processing group within the Applied Physics department at Eindhoven University of Technology (TU/e). His research encompasses thin film deposition and etching for applications in nanoelectronics, with a focus on selective processing for bottom-up fabrication.  

Academic background

Adrie Mackus earned his M.Sc. and Ph.D. degrees (both cum laude) in Applied Physics at Eindhoven University of Technology TU/e in 2009 and 2013, respectively. His doctoral thesis work “Atomic Layer Deposition of Platinum: From Surface Reactions to Nanopatterning” was carried out in close collaboration with the company FEI Electron Optics, and included a visit to Purdue University, USA in 2012.  Mackus worked as a postdoctoral researcher at the department of Chemical Engineering at Stanford University from 2014 to 2016, for which he received a personal NWO Rubicon grant in 2014. At Stanford, he focused on the study of the atomic layer deposition (ALD) of ternary materials using in-situ techniques. After his postdoc, Mackus returned to TU/e in 2016 as Assistant Professor. Adrie is a founding member of the Early Career Investigator (ECI) network within COST action HERALD and chaired the 2nd Area Selective Deposition workshop (ASD2017) in Eindhoven in 2017.

Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Adrie J.M. Mackus actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • 5 Soortgelijke profielen

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput

From the bottom-up: toward area-selective atomic layer deposition with high selectivity

Mackus, A. J. M., Merkx, M. J. M. & Kessels, W. M. M., 8 jan 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 1, blz. 2-12 11 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Open Access
Bestand
  • 31 Citaten (Scopus)
    305 Downloads (Pure)

    Area-selective atomic layer deposition of SiO2 using acetylacetone as a chemoselective inhibitor in an ABC-type cycle

    Mameli, A., Merkx, M. J. M., Karasulu, B., Roozeboom, F., Kessels, W. M. M. & MacKus, A. J. M., 26 sep 2017, In : ACS Nano. 11, 9, blz. 9303-9311 9 blz.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

    Open Access
    Bestand
  • 40 Citaten (Scopus)
    232 Downloads (Pure)

    Synthesis of doped, ternary, and quaternary materials by atomic layer deposition: a review

    Mackus, A., Schneider, J. R., MacIsaac, C., Baker, J. G. & Bent, S. F., 26 feb 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 4, blz. 1142-1183 42 blz.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

  • 30 Citaten (Scopus)
    2 Downloads (Pure)

    Area-selective atomic layer deposition for bottom-up fabrication of nanoelectronics

    Mackus, A. J. M., Merkx, M. J. M. & Li, J., 2 jun 2020, In : Nevac Blad. 58, special on ALD, blz. 32-34 2.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

  • Area-Selective Atomic Layer Deposition of Two-Dimensional WS2 Nanolayers

    Balasubramanyam, S., Merkx, M. J. M., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M., Mackus, A. J. M. & Bol, A. A., 4 mei 2020, In : ACS Materials Letters. 2, 5, blz. 511-518 8 blz.

    Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

    Open Access
    1 Citaat (Scopus)

    Prijzen

    Paul H. Holloway Award

    Adrie Mackus (Ontvanger), 22 okt 2019

    Prijs: AndersWerk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.)Wetenschappelijk

    Activiteiten

    • 2 Genodigd spreker
    • 1 Aangemelde presentatie

    New Process Concepts Towards Area-Selective Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching of Zinc Oxide

    A. Mameli (Deelnemer), M.A. Verheijen (Deelnemer), B. Karasulu (Deelnemer), A.J.M. Mackus (Deelnemer), W.M.M. Kessels (Deelnemer), F. Roozeboom (Spreker)
    30 sep 20184 okt 2018

    Activiteit: Types gesprekken of presentatiesAangemelde presentatieWetenschappelijk

    Atomic Layer Etching of ZnO on 2D and 3D substrates, using acetylacetone and O2 plasma

    A. Mameli (Deelnemer), M.A. Verheijen (Deelnemer), B. Karasulu (Deelnemer), A.J.M. Mackus (Deelnemer), W.M.M. Kessels (Deelnemer), F. Roozeboom (Uitgenodigde spreker)
    24 jul 201828 jul 2018

    Activiteit: Types gesprekken of presentatiesGenodigd sprekerWetenschappelijk

    Overview of approaches for achieving area-selective ALD

    A.J.M. Mackus (Uitgenodigde spreker)
    29 apr 20181 mei 2018

    Activiteit: Types gesprekken of presentatiesGenodigd sprekerWetenschappelijk

    Cursussen

    Impacts

    Advanced ALD technologies

    M. (Adriana) Creatore (Onderzoeker), W.M.M. (Erwin) Kessels (Onderzoeker), Adrie J.M. Mackus (Onderzoeker)

    Impact: Research Topic/Theme (at group level)

    Future nanoelectronics and nanopatterning

    Ageeth A. Bol (Onderzoeker), W.M.M. (Erwin) Kessels (Onderzoeker), Adrie J.M. Mackus (Content manager)

    Impact: Research Topic/Theme (at group level)

    Scriptie

    Area-selective atomic layer deposition using inhibitor molecules in multi-step cycles

    Auteur: Jongen, R. G., 2018

    Begeleider: Merkx, M. J. (Afstudeerdocent 1) & Mackus, A. J. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand

    Atomic layer deposition and electron beam induced deposition as nanomanufacturing tools for the fabrication of carbon nanotube contacts

    Auteur: Dielissen, S., 31 aug 2011

    Begeleider: Mackus, A. (Afstudeerdocent 1), Fernández Landaluce, T. (Externe coach) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand

    Atomic layer deposition of Pt and its combination with electron beam induced deposition for the fabrication of nanostructures

    Auteur: Mackus, A., 30 apr 2009

    Begeleider: Knoops, H. (Afstudeerdocent 1), Mulders, J. (Externe coach) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand

    Direct-write atomic layer deposition for the fabrication of carbon nanotube field-effect transistors

    Auteur: Thissen, N., 31 okt 2012

    Begeleider: Mackus, A. (Afstudeerdocent 1), Bol, A. (Afstudeerdocent 2) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

    Scriptie/masterproef: Master

    Bestand