Adrie J.M. Mackus

Persoonlijk profiel

Research profile

Adriaan J.M. Mackus is Assistant Professor in the Plasma and Materials Processing group within the Applied Physics department at Eindhoven University of Technology (TU/e). His research encompasses thin film deposition and etching for applications in nanoelectronics, with a focus on selective processing for bottom-up fabrication.

Academic background

Adrie Mackus earned his M.Sc. and Ph.D. degrees (both cum laude) in Applied Physics at Eindhoven University of Technology TU/e in 2009 and 2013, respectively. His doctoral thesis work “Atomic Layer Deposition of Platinum: From Surface Reactions to Nanopatterning” was carried out in close collaboration with the company FEI Electron Optics, and included a visit to Purdue University, USA in 2012.  Mackus worked as a postdoctoral researcher at the department of Chemical Engineering at Stanford University from 2014 to 2016, for which he received a personal NWO Rubicon grant in 2014. At Stanford, he focused on the study of the atomic layer deposition (ALD) of ternary materials using in-situ techniques. After his postdoc, Mackus returned to TU/e in 2016 as Assistant Professor. Adrie is a founding member of the Early Career Investigator (ECI) network within COST action HERALD and chaired the 2nd Area Selective Deposition workshop (ASD2017) in Eindhoven in 2017.

Vingerafdruk Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Adrie J.M. Mackus actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van deze persoon. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

5 Soortgelijke profielen

Netwerk Recente externe samenwerking op landenniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken.

Onderzoeksoutput

1526 Citaties
47 Tijdschriftartikel
8 Conferentiebijdrage
1 Meeting Abstract
1 Octrooi-publicatie
1 Meer
- 1 Dissertatie 1 (Onderzoek TU/e / Promotie TU/e)

From the bottom-up: toward area-selective atomic layer deposition with high selectivity

Mackus, A. J. M., Merkx, M. J. M. & Kessels, W. M. M., 8 jan 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 1, blz. 2-12 11 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

Open Access

Bestand

31 Citaten (Scopus)

305 Downloads (Pure)

Area-selective atomic layer deposition of SiO₂ using acetylacetone as a chemoselective inhibitor in an ABC-type cycle

Mameli, A., Merkx, M. J. M., Karasulu, B., Roozeboom, F., Kessels, W. M. M. & MacKus, A. J. M., 26 sep 2017, In : ACS Nano. 11, 9, blz. 9303-9311 9 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

Open Access

Bestand

40 Citaten (Scopus)

232 Downloads (Pure)

Synthesis of doped, ternary, and quaternary materials by atomic layer deposition: a review

Mackus, A., Schneider, J. R., MacIsaac, C., Baker, J. G. & Bent, S. F., 26 feb 2019, In : Chemistry of Materials. 31, 4, blz. 1142-1183 42 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

30 Citaten (Scopus)

2 Downloads (Pure)

Area-selective atomic layer deposition for bottom-up fabrication of nanoelectronics

Mackus, A. J. M., Merkx, M. J. M. & Li, J., 2 jun 2020, In : Nevac Blad. 58, special on ALD, blz. 32-34 2.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Populair

Area-Selective Atomic Layer Deposition of Two-Dimensional WS2 Nanolayers

Balasubramanyam, S., Merkx, M. J. M., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M., Mackus, A. J. M. & Bol, A. A., 4 mei 2020, In : ACS Materials Letters. 2, 5, blz. 511-518 8 blz.

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

Open Access

1 Citaat (Scopus)

Prijzen

Paul H. Holloway Award

Adrie Mackus (Ontvanger), 22 okt 2019

Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk

Activiteiten

2 Genodigd spreker
1 Aangemelde presentatie

New Process Concepts Towards Area-Selective Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching of Zinc Oxide

A. Mameli (Deelnemer), M.A. Verheijen (Deelnemer), B. Karasulu (Deelnemer), A.J.M. Mackus (Deelnemer), W.M.M. Kessels (Deelnemer), F. Roozeboom (Spreker)

30 sep 2018 → 4 okt 2018

Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Aangemelde presentatie › Wetenschappelijk

Atomic Layer Etching of ZnO on 2D and 3D substrates, using acetylacetone and O2 plasma

A. Mameli (Deelnemer), M.A. Verheijen (Deelnemer), B. Karasulu (Deelnemer), A.J.M. Mackus (Deelnemer), W.M.M. Kessels (Deelnemer), F. Roozeboom (Uitgenodigde spreker)

24 jul 2018 → 28 jul 2018

Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Genodigd spreker › Wetenschappelijk

Overview of approaches for achieving area-selective ALD

A.J.M. Mackus (Uitgenodigde spreker)

29 apr 2018 → 1 mei 2018

Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Genodigd spreker › Wetenschappelijk

Cursussen

Applied natural sciences formal

1/09/12 → …

Cursus

Plasma processing science and technology

1/09/17 → …

Cursus

Impacts

Advanced ALD technologies

M. (Adriana) Creatore (Onderzoeker), W.M.M. (Erwin) Kessels (Onderzoeker), Adrie J.M. Mackus (Onderzoeker)

Impact: Research Topic/Theme (at group level)

Future nanoelectronics and nanopatterning

Begeleider: Mackus, A. (Afstudeerdocent 1), Bol, A. (Afstudeerdocent 2) & Kessels, W. (Afstudeerdocent 2)

Scriptie/masterproef: Master

Bestand