Projecten per jaar
Persoonlijk profiel
Research profile
Adriaan J.M. Mackus is Associate Professor in the Plasma and Materials Processing group within the Applied Physics department at Eindhoven University of Technology (TU/e). His research encompasses thin film deposition and etching for applications in nanoelectronics, with a focus on selective processing for bottom-up fabrication.
Academic background
Adrie Mackus earned his M.Sc. and Ph.D. degrees (both with highest honors) in Applied Physics from TU/e in 2009 and 2013, respectively. Adrie worked as a postdoc at the department of Chemical Engineering at Stanford University in 2014-2016. He returned to TU/e in 2016, where he received tenure in 2019. His current research encompasses atomic layer deposition (ALD) and etching (ALE) for applications in nanoelectronics, with a focus on selective processing for bottom-up fabrication. This involves application-oriented projects funded by industrial partners, as well as fundamental studies of the underlying mechanisms using in-situ techniques. Adrie chaired the 2nd Area Selective Deposition workshop (ASD2017) in Eindhoven in 2017. In 2020 he was awarded a VIDI grant from the Netherlands Organization of Scientific Research (NWO) and a Starting Grant from the European Research Council (ERC).
Expertise gerelateerd aan duurzame ontwikkelingsdoelstellingen van de VN
In 2015 stemden de VN-lidstaten in met 17 wereldwijde duurzame ontwikkelingsdoelstellingen (Sustainable Development Goals, SDG's) om armoede te beëindigen, de planeet te beschermen en voor iedereen welvaart te garanderen. Het werk van deze persoon draagt bij aan de volgende duurzame ontwikkelingsdoelstelling(en):
Vingerafdruk
- 1 Soortgelijke profielen
Samenwerkingen en hoofdonderzoeksgebieden uit de afgelopen vijf jaar
Projecten
- 2 Actief
-
TKI-HTSM/24.0176 - ASPEA: Atomic-Scale Processing Equipment for the Ångstrom Era
Mackus, A. J. M. (Project Manager), Macco, B. (Projectmedewerker), Kessels, W. M. M. (Projectmedewerker), Lam, C. H. X. (Projectmedewerker), Vacancy PD (Projectmedewerker), van Gurp, M. C. (Projectmedewerker), KG Krieger, G. (Projectmedewerker) & Vacancy PHD (Projectmedewerker)
1/01/24 → 31/12/29
Project: Third tier
-
TKI HTSM/23.0534 - ESPRO: Patterning of 2D materials by EUV and area-selective processing
Mackus, A. J. M. (Project Manager) & D'Acunto, G. (Projectmedewerker)
1/01/23 → 16/04/29
Project: Third tier
Onderzoeksoutput
-
From the bottom-up: toward area-selective atomic layer deposition with high selectivity
Mackus, A. J. M. (Corresponding author), Merkx, M. J. M. & Kessels, W. M. M., 8 jan. 2019, In: Chemistry of Materials. 31, 1, blz. 2-12 11 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand316 Citaten (Scopus)975 Downloads (Pure) -
Area-selective atomic layer deposition of SiO2 using acetylacetone as a chemoselective inhibitor in an ABC-type cycle
Mameli, A., Merkx, M. J. M., Karasulu, B., Roozeboom, F., Kessels, W. M. M. & MacKus, A. J. M., 26 sep. 2017, In: ACS Nano. 11, 9, blz. 9303-9311 9 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand164 Citaten (Scopus)642 Downloads (Pure) -
Synthesis of doped, ternary, and quaternary materials by atomic layer deposition: a review
Mackus, A., Schneider, J. R., MacIsaac, C., Baker, J. G. & Bent, S. F. (Corresponding author), 26 feb. 2019, In: Chemistry of Materials. 31, 4, blz. 1142-1183 42 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
229 Citaten (Scopus)2 Downloads (Pure) -
Investigation of the atomic layer etching mechanism for Al2O3 using hexafluoroacetylacetone and H2 plasma
Chittock, N., Maas, J. F. W., Tezsevin, I., Merkx, M. J. M., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M. (Corresponding author), 21 jan. 2025, In: Journal of Materials Chemistry C. 13, 3, blz. 1345-1358 14 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand1 Citaat (Scopus)33 Downloads (Pure) -
Topographically selective atomic layer deposition within trenches enabled by an amorphous carbon inhibition layer
Janssen, T., Vossen, L. J. P., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M. (Corresponding author), 10 feb. 2025, In: Applied Physics Letters. 126, 6, 6 blz., 063505.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand25 Downloads (Pure)
Datasets
-
Data underlying the publication: Blocking mechanisms in area-selective ALD by small molecule inhibitors of different sizes: Steric shielding versus chemical passivation
Yu, P. (Ontwerper), Merkx, M. J. M. (Ontwerper), Tezsevin, I. (Ontwerper), Lemaire, P. C. (Ontwerper), Hausmann, D. M. (Ontwerper), Sandoval, T. E. (Ontwerper), Kessels, W. M. M. (Ontwerper) & Mackus, A. J. M. (Ontwerper), 4TU.Centre for Research Data, 2 mei 2024
DOI: 10.4121/c357264b-f395-4409-bedc-328f45f6e6ac, https://data.4tu.nl/datasets/c357264b-f395-4409-bedc-328f45f6e6ac en 2 meer links, https://data.4tu.nl/datasets/c357264b-f395-4409-bedc-328f45f6e6ac/1, https://data.4tu.nl/datasets/c357264b-f395-4409-bedc-328f45f6e6ac/2 (minder tonen)
Dataset
-
Supporting information
Merkx, M. J. M. (Ontwerper), Tezsevin, I. (Ontwerper), Yu, P. (Ontwerper), Janssen, T. (Ontwerper), Heinemans, R. H. G. M. (Ontwerper), Lengers, R. J. (Ontwerper), Chen, J.-R. (Ontwerper), Jezewski, C. J. (Ontwerper), Clendenning, S. B. (Ontwerper), Kessels, W. M. M. (Ontwerper), Sandoval, T. E. (Ontwerper) & Mackus, A. J. M. (Ontwerper), AIP Publishing, 22 mei 2024
DOI: 10.60893/figshare.jcp.25743183, https://aip.figshare.com/articles/dataset/Supporting_information/25743183 en nog één link, https://aip.figshare.com/articles/dataset/Supporting_information/25743183/1 (minder tonen)
Dataset
-
Data underlying the publication: Isotropic atomic layer etching of GaN using SF6 plasma and Al(CH3)3
Chittock, N. J. (Ontwerper), Mackus, A. J. M. (Ontwerper), Shu, Y. (Ontwerper), Elliott, S. D. (Ontwerper), Knoops, H. C. M. (Ontwerper) & Kessels, W. M. M. (Ontwerper), 4TU.Centre for Research Data, 21 aug. 2023
DOI: 10.4121/b7383943-2ae0-4339-8cbf-657765023fd6, https://data.4tu.nl/datasets/b7383943-2ae0-4339-8cbf-657765023fd6 en nog één link, https://data.4tu.nl/datasets/b7383943-2ae0-4339-8cbf-657765023fd6/1 (minder tonen)
Dataset
-
Data underlying the publication: Computational Investigation of Precursor Blocking during Area-Selective Atomic Layer Deposition Using Aniline as a Small-Molecule Inhibitor
Tezsevin, I. (Ontwerper), Maas, J. F. W. (Bijdrager), Merkx, M. J. M. (Ontwerper), Lengers, R. J. (Ontwerper), Kessels, W. M. M. (Ontwerper), Sandoval, T. E. (Ontwerper) & Mackus, A. J. M. (Ontwerper), 4TU.Centre for Research Data, 7 aug. 2023
DOI: 10.4121/0bb03d8b-d1ac-49bc-8010-a498a981cf3e.v1, https://data.4tu.nl/datasets/0bb03d8b-d1ac-49bc-8010-a498a981cf3e/1 en nog één link, https://data.4tu.nl/datasets/0bb03d8b-d1ac-49bc-8010-a498a981cf3e (minder tonen)
Dataset
-
Data underlying the publication: Packing of inhibitor molecules during area-selective atomic layer deposition studied using random sequential adsorption simulations
Li, J. (Ontwerper), Tezsevin, I. (Ontwerper), Merkx, M. J. M. (Ontwerper), Maas, J. F. W. (Ontwerper), Kessels, W. M. M. (Ontwerper), Sandoval, T. E. (Ontwerper) & Mackus, A. J. M. (Ontwerper), 4TU.Centre for Research Data, 7 aug. 2023
DOI: 10.4121/33df3424-ed9b-49cb-910e-64a6d37aa6b0, https://data.4tu.nl/datasets/33df3424-ed9b-49cb-910e-64a6d37aa6b0 en nog één link, https://data.4tu.nl/datasets/33df3424-ed9b-49cb-910e-64a6d37aa6b0/1 (minder tonen)
Dataset
Prijzen
-
Paul H. Holloway Award
Mackus, A. (Ontvanger), 22 okt. 2019
Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk
-
From the bottom-up: a physico-chemical approach towards 3D nanostructures with atomic-scale control
Mackus, A. J. M. (Ontvanger), 1 jan. 2020
Prijs: ERC › Starting › Wetenschappelijk
-
Towards bottom-up fabrication of nanoelectronics: understanding and advancing area-selective atomic layer deposition
Mackus, A. J. M. (Ontvanger), 1 jan. 2020
Prijs: NWO › Vidi › Wetenschappelijk
-
New Process Concepts Towards Area-Selective Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching of Zinc Oxide
Mameli, A. (Deelnemer), Verheijen, M. A. (Deelnemer), Karasulu, B. (Deelnemer), Mackus, A. J. M. (Deelnemer), Kessels, W. M. M. (Deelnemer) & Roozeboom, F. (Spreker)
30 sep. 2018 → 4 okt. 2018Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Aangemelde presentatie › Wetenschappelijk
-
Atomic Layer Etching of ZnO on 2D and 3D substrates, using acetylacetone and O2 plasma
Mameli, A. (Deelnemer), Verheijen, M. A. (Deelnemer), Karasulu, B. (Deelnemer), Mackus, A. J. M. (Deelnemer), Kessels, W. M. M. (Deelnemer) & Roozeboom, F. (Uitgenodigde spreker)
24 jul. 2018 → 28 jul. 2018Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Genodigd spreker › Wetenschappelijk
-
Overview of approaches for achieving area-selective ALD
Mackus, A. J. M. (Uitgenodigde spreker)
29 apr. 2018 → 1 mei 2018Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Genodigd spreker › Wetenschappelijk
Cursussen
Knipsels
-
Investigators at Eindhoven University of Technology Discuss Findings in Applied Physics [Isotropic Atomic Layer Etching of Gan Using Sf6 Plasma and Al(Ch3)(3)]
Knoops, H. C. M. & Mackus, A. J. M.
22/09/23
1 item van Media-aandacht
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
-
Recent Studies from Eindhoven University of Technology Add New Data to Atomic Layer Deposition (Mos2 Synthesized By Atomic Layer Deposition As Cu Diffusion Barrier)
Mackus, A. J. M., Verheijen, M. A., Schulpen, J. J. P. M., Mattinen, M., de Jong, A. A. & Deijkers, J. H.
28/04/23
1 item van Media-aandacht
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
-
Investigators from Eindhoven University of Technology Release New Data on Atomic Layer Deposition (Surface Smoothing By Atomic Layer Deposition and Etching for the Fabrication of Nanodevices)
Knoops, H. C. M., Mackus, A. J. M. & Verheijen, M. A.
3/01/23
1 item van Media-aandacht
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
-
2D TMD Materials Enabling Future Electronics
Balasubramanyam, S., Merkx, M. J. M., Verheijen, M. A., Kessels, W. M. M., Mackus, A. J. M. & Bol, A. A.
27/06/21
1 Mediabijdrage
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
Impacts
-
Advanced ALD technologies
Creatore, M. (Onderzoeker), Kessels, W. M. M. (Onderzoeker) & Mackus, A. J. M. (Onderzoeker)
Impact: Research Topic/Theme (at group level)
-
Future nanoelectronics and nanopatterning
Bol, A. A. (Onderzoeker), Kessels, W. M. M. (Onderzoeker) & Mackus, A. J. M. (Content manager)
Impact: Research Topic/Theme (at group level)
Scriptie
-
Atomic layer deposition of Pt and its combination with electron beam induced deposition for the fabrication of nanostructures
Mackus, A. J. M. (Auteur), Knoops, H. C. M. (Afstudeerdocent 1), Mulders, J. J. L. (Externe coach) & Kessels, W. M. M. (Afstudeerdocent 2), 30 apr. 2009Scriptie/Masterproef: Master
Bestand