Projecten per jaar
Organisatieprofiel
Introductie / missie
Driven by Moore’s scaling law and the transition to a sustainable society there is an enormous push to develop nanomaterials for novel device architectures and for device concepts with new functionalities. In order to study new nanomaterials systematically and later implement them into devices, new synthesis processes and techniques need to be investigated and developed, that are reliable, reproducible and scalable with ultimate control at the nanoscale.
Highlighted phrase
Synthesis and integration of 2-D nanomaterials
Organisatieprofiel
In our group we pioneer atomic layer deposition (ALD) for 2D nanomaterials synthesis. ALD is a scalable, low temperature preparation method for thin films which offers precise thickness control down to the sub-monolayer and can therefore be instrumental for the large area synthesis of 2D materials. The current focus of the group is on ALD of 2D transition metal dichalcogenides (2D-TMDs) for (opto)electronics and catalysis. We use plasma chemistry (plasma-enhanced ALD, PEALD) to control functionalities of the 2D-TMDs, such as morphology, materials phase and stoichiometry. Furthermore, by doping, alloying and by the formation of heterostructures we tune the electrical properties of the 2D TMDs, such as the charge carrier concentration and band gap.
Our process development goes hand-in-hand with obtaining understanding of the ALD reaction mechanisms at play using for example high-resolution transmission electron microscopy and DFT simulations.
Vingerafdruk
Samenwerkingen en hoofdonderzoeksgebieden uit de afgelopen vijf jaar
Profielen
-
W.M.M. (Erwin) Kessels
- Applied Physics and Science Education, Atomic scale processing
- Applied Physics and Science Education, Processing of low-dimensional nanomaterials
- Applied Physics and Science Education, Center for Quantum Materials and Technology Eindhoven
- EIRES Research - Hoogleraar
- Applied Physics and Science Education, Plasma & Materials Processing - Hoogleraar
Persoon: HGL : Hoogleraar
projecten
- 1 Afgelopen
-
3DAM
Kessels, W. M. M. (Project Manager), Vandalon, V. (Projectmedewerker), van Bommel, C. (Projectmedewerker), Shirazi, M. (Projectmedewerker), Faraz, T. (Projectmedewerker) & Schulpen, J. J. P. M. (Projectmedewerker)
1/04/16 → 1/04/19
Project: Onderzoek direct
Onderzoeksoutput
-
Investigation of the atomic layer etching mechanism for Al2O3 using hexafluoroacetylacetone and H2 plasma
Chittock, N., Maas, J. F. W., Tezsevin, I., Merkx, M. J. M., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M. (Corresponding author), 21 jan. 2025, In: Journal of Materials Chemistry C. 13, 3, blz. 1345-1358 14 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand1 Citaat (Scopus)31 Downloads (Pure) -
Leaders of the LTP Community: Career Profiles: Richard van de Sanden
van de Sanden, M. C. M. (Bijdrager), Creatore, M., Kessels, W. M. M. & Tsampas, M., 21 mrt. 2025, In: ILTPC Newsletter. 48, blz. 4-5 2 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Professioneel
-
New cleanroom to be given prominent place on campus
Kessels, W. M. M. (Bijdrager), 25 mrt. 2025, In: Cursor. 2025, week 4Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Populair
Open Access
Datasets
-
Supporting information
Merkx, M. J. M. (Ontwerper), Tezsevin, I. (Ontwerper), Yu, P. (Ontwerper), Janssen, T. (Ontwerper), Heinemans, R. H. G. M. (Ontwerper), Lengers, R. J. (Ontwerper), Chen, J.-R. (Ontwerper), Jezewski, C. J. (Ontwerper), Clendenning, S. B. (Ontwerper), Kessels, W. M. M. (Ontwerper), Sandoval, T. E. (Ontwerper) & Mackus, A. J. M. (Ontwerper), AIP Publishing, 22 mei 2024
DOI: 10.60893/figshare.jcp.25743183, https://aip.figshare.com/articles/dataset/Supporting_information/25743183 en nog één link, https://aip.figshare.com/articles/dataset/Supporting_information/25743183/1 (minder tonen)
Dataset
-
Data underlying the publication: Blocking mechanisms in area-selective ALD by small molecule inhibitors of different sizes: Steric shielding versus chemical passivation
Yu, P. (Ontwerper), Merkx, M. J. M. (Ontwerper), Tezsevin, I. (Ontwerper), Lemaire, P. C. (Ontwerper), Hausmann, D. M. (Ontwerper), Sandoval, T. E. (Ontwerper), Kessels, W. M. M. (Ontwerper) & Mackus, A. J. M. (Ontwerper), 4TU.Centre for Research Data, 2 mei 2024
DOI: 10.4121/c357264b-f395-4409-bedc-328f45f6e6ac, https://data.4tu.nl/datasets/c357264b-f395-4409-bedc-328f45f6e6ac en 2 meer links, https://data.4tu.nl/datasets/c357264b-f395-4409-bedc-328f45f6e6ac/1, https://data.4tu.nl/datasets/c357264b-f395-4409-bedc-328f45f6e6ac/2 (minder tonen)
Dataset
-
Data underlying the publication: Computational Investigation of Precursor Blocking during Area-Selective Atomic Layer Deposition Using Aniline as a Small-Molecule Inhibitor
Tezsevin, I. (Ontwerper), Maas, J. F. W. (Bijdrager), Merkx, M. J. M. (Ontwerper), Lengers, R. J. (Ontwerper), Kessels, W. M. M. (Ontwerper), Sandoval, T. E. (Ontwerper) & Mackus, A. J. M. (Ontwerper), 4TU.Centre for Research Data, 7 aug. 2023
DOI: 10.4121/0bb03d8b-d1ac-49bc-8010-a498a981cf3e.v1, https://data.4tu.nl/datasets/0bb03d8b-d1ac-49bc-8010-a498a981cf3e/1 en nog één link, https://data.4tu.nl/datasets/0bb03d8b-d1ac-49bc-8010-a498a981cf3e (minder tonen)
Dataset
Activiteiten
-
Plasma-assisted atomic layer deposition: from basics to applications
Kessels, W. M. M. (Spreker)
10 feb. 2021Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Keynote spreker › Wetenschappelijk
-
SALD (Externe organisatie)
Kessels, W. M. M. (Voorzitter)
17 sep. 2020 → 31 dec. 2023Activiteit: Types lidmaatschap › Lidmaatschap van bestuur › Professioneel
-
New Process Concepts Towards Area-Selective Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching of Zinc Oxide
Mameli, A. (Deelnemer), Verheijen, M. A. (Deelnemer), Karasulu, B. (Deelnemer), Mackus, A. J. M. (Deelnemer), Kessels, W. M. M. (Deelnemer) & Roozeboom, F. (Spreker)
30 sep. 2018 → 4 okt. 2018Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Aangemelde presentatie › Wetenschappelijk
Knipsels
-
Bedrijf van Matthijs (29) haalt 20 miljoen binnen voor maken van supercomputer: 'Gaat wereld veranderen'
6/03/25
1 Mediabijdrage
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
-
Technische Universiteit Eindhoven gaat ‘twee keer zoveel studenten opleiden’ voor de chipsector
27/07/24
1 Mediabijdrage
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
-
Nearfield eist vanuit Rotterdam zijn plaats in de wereldwijde chipmarkt op
30/06/24
1 Mediabijdrage
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
Scripties/Masterproeven
-
Characterization of Intrinsic and Aluminum-doped ZnO Deposited by Spatial ALD
Broekema, T. M. P. (Auteur), Macco, B. (Afstudeerdocent 1), van de Loo, B. W. H. (Externe coach) & Kessels, W. M. M. (Afstudeerdocent 2), 22 sep. 2021Scriptie/Masterproef: Master
Bestand -
Development and implementation of advanced plasma diagnostics to study plasma–surface interactions in H2 plasmas
van Gurp, M. C. (Auteur), Kessels, W. M. M. (Afstudeerdocent 1), Morgan, T. W. (Afstudeerdocent 2), Salden, T. P. W. (Afstudeerdocent 2) & van den Biggelaar, T. (Afstudeerdocent 2), 16 jul. 2024Scriptie/Masterproef: Master
Bestand -
Enhancing the Electrical Properties of Atomic Layer Deposited WS2 by Ar or H2 Plasma Exposure
van Ommeren, M. (Auteur), Balasubramanyam, S. (Afstudeerdocent 1) & Bol, A. A. (Afstudeerdocent 2), sep. 2018Scriptie/Masterproef: Master
Bestand