Projecten per jaar
Organisatieprofiel
Introductie / missie
We focus on discovering how nanometer- to micrometer-scale particles interact with plasmas on the most fundamental level. These researched plasmas include electrically generated discharges and plasmas induced by highly energetic photons and electrons.
Vingerafdruk
Verdiep u in de onderzoeksgebieden waarop Complex Ionized Media actief is. Deze onderwerplabels komen uit het werk van de leden van deze organisatie. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
Netwerk
Recente externe samenwerking op landen-/regioniveau. Duik in de details door op de stippen te klikken of
Profielen
-
Job Beckers
- Applied Physics, Complex Ionized Media
- Applied Physics, Elementary Processes in Gas Discharges - Universitair Hoofddocent
Persoon: UHD : Universitair Hoofddocent
-
Tim J.M. Donders
- Applied Physics, Complex Ionized Media
- Applied Physics, Elementary Processes in Gas Discharges - Promovendus
Persoon: Prom. : Promovendus
-
Saman Hasani
- Applied Physics, Complex Ionized Media
- Applied Physics, Elementary Processes in Gas Discharges - Promovendus
Persoon: Prom. : Promovendus
projecten
- 2 Actief
-
Particle Charging and Release under EUV conditions
Beckers, J., Shefer, D. & Platier, B.
30/11/18 → 13/07/22
Project: Onderzoek direct
-
Plasma driving industrial developments on the nanoscale
Kroesen, G. M. W., Staps, T. J. A., Kroesen, G. M. W., Meijaard, P., Beckers, J. & Beckers, J.
1/02/17 → 21/12/21
Project: Onderzoek direct
Onderzoeksoutput
-
An atomic hydrogen etching sensor for H2 plasma diagnostics
van Leuken, D. P. J., de Meijere, C. A., van der Horst, R., Banine, V. Y., Osorio, E. A. & Beckers, J., 1 jun 2021, In: Review of Scientific Instruments. 92, 6, 10 blz., 063518.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand22 Downloads (Pure) -
Charge neutralisation of microparticles by pulsing a low-pressure shielded spatial plasma afterglow
van Minderhout, B., van Huijstee, J. C. A., Peijnenburg, A. T. A., Blom, P., Kroesen, G. M. W. & Beckers, J., apr 2021, In: Plasma Sources Science and Technology. 30, 4, 10 blz., 045016.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access3 Citaten (Scopus) -
Charge of clustered microparticles measured in spatial plasma afterglows follows the smallest enclosing sphere model
van Minderhout, B., van Huijstee, J. C. A., Rompelberg, R. M. H., Post, A., Peijnenburg, A. T. A., Blom, P. & Beckers, J., 3 aug 2021, In: Nature Communications. 12, 1, 7 blz., 4692.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand1 Downloads (Pure)
Knipsels
-
US Patent Issued to Technische Universiteit Eindhoven on Dec. 29 for "Plasma-assisted odour-free regulation of gas pressure inside stoma bag" (Dutch Inventors)
4/01/21
1 item van Media-aandacht
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
-
Seven new members at Eindhoven Young Academy of Engineering
Daniël Lakens, Frank P.T. Baaijens, Sandra Loerakker, Job Beckers, Patricia Y.W. Dankers, Yoeri B. van de Burgt, Bob Walrave, Danqing Liu, Johanna I. Höffken, S. Hofmann, J.P. (Jan Philipp) Hofmann, Federica Eduati, Roy van der Meel & Antoni Forner Cuenca
16/10/20
2 items van Media-aandacht
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
Scripties/Masterproeven
-
A carbon-coated QCM-based atomic hydrogen sensor for in-situ plasma diagnostics
Auteur: van Mil, J., dec 2020Begeleider: Beckers, J. (Afstudeerdocent 1) & van der Horst, R. M. (Externe coach)
Scriptie/Masterproef: Master
Bestand -
Analysis of Microparticle Trajectories in a Rarefied Argon Gas
Auteur: Post, A., 2018Begeleider: Beckers, J. (Afstudeerdocent 1) & van Minderhout, B. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/Masterproef: Bachelor
Bestand -
A physical analysis of a plasma vacuum seal
Auteur: Kamycki, V. A., nov 2020Begeleider: Blom, P. P. (Afstudeerdocent 1) & Beckers, J. (Afstudeerdocent 2)
Scriptie/Masterproef: Master
Bestand