Projecten per jaar
Organisatieprofiel
Introductie / missie
We aim to develop advanced atomic layer deposition and etching processes through in-depth understanding of the underlying reaction mechanisms. With this we try to enable future device technologies in nanoelectronics, photonics, photovoltaics and beyond.
Highlighted phrase
Atomic scale processing for future device technologies
Organisatieprofiel
Whether it is in the field of nanoelectronics, photonics, photovoltaics or quantum technology, future device technologies will heavily depend on atomic scale processing techniques such as atomic layer deposition (ALD) and atomic layer etching (ALE). These techniques allow for atomic-scale control and they provide many opportunities for bottom-up processing of the multitude of materials that will make up future devices. With our research we try to develop advanced processes that will enable these future device technologies. Current interests include thermal and plasma-assisted ALD and ALE processes as well as area- and topographically-selective processing. Very importantly, it also involves fundamental studies of the underlying reaction mechanisms through advanced in situ studies coupled to atomistic modelling. Our direct research partners are mostly equipment manufacturers and suppliers of chemicals.
Vingerafdruk
Samenwerkingen en hoofdonderzoeksgebieden uit de afgelopen vijf jaar
Profielen
-
Willem-Jan H. Berghuis, MSc
- Applied Physics and Science Education, Plasma & Materials Processing - Onderzoeker
- Applied Physics and Science Education, Atomic scale processing
- Mechanical Engineering, Group Den Toonder - Onderzoeker
Persoon: Prom. : Promovendus, OWP : Docent / Onderzoeker
-
W.M.M. (Erwin) Kessels
- Applied Physics and Science Education, Atomic scale processing
- Applied Physics and Science Education, Processing of low-dimensional nanomaterials
- Applied Physics and Science Education, Center for Quantum Materials and Technology Eindhoven
- EIRES Research - Hoogleraar
- Applied Physics and Science Education, Plasma & Materials Processing - Hoogleraar
Persoon: HGL : Hoogleraar
-
Harm C.M. Knoops
- Applied Physics and Science Education, Center for Quantum Materials and Technology Eindhoven
- Applied Physics and Science Education, Plasma & Materials Processing - Universitair Docent
- Applied Physics and Science Education, Atomic scale processing
- EIRES Research - Universitair Docent
Persoon: UD : Universitair Docent, UD : Universitair Docent
projecten
- 3 Afgelopen
-
Metal Oxides: Maturing of an Efficient Novel Technology Upgrade for PV-Manufacturing
Kessels, W. M. M. (Project Manager), Koushik, D. (Projectmedewerker) & Theeuwes, R. J. (Projectmedewerker)
1/02/20 → 30/06/22
Project: Onderzoek direct
-
BRIGHT TKI toeslag
Kessels, W. M. M. (Project Manager), Macco, B. (Projectmedewerker), Faraz, T. (Projectmedewerker) & Koushik, D. (Projectmedewerker)
1/08/18 → 31/05/21
Project: Onderzoek direct
-
3DAM
Kessels, W. M. M. (Project Manager), Vandalon, V. (Projectmedewerker), van Bommel, C. (Projectmedewerker), Shirazi, M. (Projectmedewerker), Faraz, T. (Projectmedewerker) & Schulpen, J. J. P. M. (Projectmedewerker)
1/04/16 → 1/04/19
Project: Onderzoek direct
-
Investigation of the atomic layer etching mechanism for Al2O3 using hexafluoroacetylacetone and H2 plasma
Chittock, N., Maas, J. F. W., Tezsevin, I., Merkx, M. J. M., Knoops, H. C. M., Kessels, W. M. M. & Mackus, A. J. M. (Corresponding author), 21 jan. 2025, In: Journal of Materials Chemistry C. 13, 3, blz. 1345-1358 14 blz.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open AccessBestand3 Downloads (Pure) -
Plasma-Enhanced Spatial Atomic Layer Deposition on 2D and 3D Surface Topologies: The Case of Amorphous and Crystalline TiO2
van de Poll, M., Shen, J., Hilfiker, J., Verheijen, M. A., Poodt, P. W. G., van den Bruele, F., Kessels, W. M. M. & Macco, B. (Corresponding author), 31 jan. 2025, (E-publicatie vóór gedrukte publicatie) In: Journal of Physical Chemistry C. XX, XOnderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Open Access -
Plasma Processes for Vertical Niobium Nitride Superconducting Through Silicon Vias
Ren, Z. (Corresponding author), Shu, Y., Lennon, C. T., Knoops, H., Renzas, R., Hadfield, R. H. & Cooke, M., feb. 2025, In: IEEE Electron Device Letters. 46, 2, blz. 175-178 4 blz., 10813412.Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
Datasets
-
Universal Platform for Scalable Semiconductor-Superconductor Nanowire Networks
Jung, J. (Bijdrager), Op het Veld, R. L. M. (Bijdrager), Benoist, R. (Bijdrager), Verheijen, M. A. (Bijdrager), Manders, C. (Bijdrager) & Bakkers, E. P. A. M. (Bijdrager), Zenodo, 13 mei 2021
DOI: 10.5281/zenodo.4758551, https://zenodo.org/record/4758551
Dataset
-
Dataset for "Unveiling Planar Defects in Hexagonal Group IV Materials "
Fadaly, E. (Ontwerper), Marzegalli, A. (Ontwerper), Ren, Y. (Ontwerper), Dijkstra, A. (Ontwerper), De Matteis, D. (Bijdrager), Scalise, E. (Ontwerper), Sarikov, A. (Ontwerper), De Luca, M. (Ontwerper), Rurali, R. (Ontwerper), Zardo, I. (Ontwerper), Haverkort, J. E. M. (Ontwerper), Botti, S. (Ontwerper), Miglio, L. (Ontwerper), Bakkers, E. P. A. M. (Ontwerper) & Verheijen, M. A. (Ontwerper), 4TU.Centre for Research Data, 30 jun. 2021
DOI: 10.4121/14846988, https://data.4tu.nl/articles/_/14846988
Dataset
-
Data underlying the publication: Computational Investigation of Precursor Blocking during Area-Selective Atomic Layer Deposition Using Aniline as a Small-Molecule Inhibitor
Tezsevin, I. (Ontwerper), Maas, J. F. W. (Bijdrager), Merkx, M. J. M. (Ontwerper), Lengers, R. J. (Ontwerper), Kessels, W. M. M. (Ontwerper), Sandoval, T. E. (Ontwerper) & Mackus, A. J. M. (Ontwerper), 4TU.Centre for Research Data, 7 aug. 2023
DOI: 10.4121/0bb03d8b-d1ac-49bc-8010-a498a981cf3e.v1, https://data.4tu.nl/datasets/0bb03d8b-d1ac-49bc-8010-a498a981cf3e/1 en nog één link, https://data.4tu.nl/datasets/0bb03d8b-d1ac-49bc-8010-a498a981cf3e (minder tonen)
Dataset
Prijzen
-
Best ALD paper Award
Knoops, H. (Ontvanger), 7 jul. 2022
Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk
-
Best Oral Presentation Award of the EN01 Silicon for Photovoltaics symposium
Theeuwes, R. J. (Ontvanger), 9 mei 2022
Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk
-
SiliconPV Award
Theeuwes, R. J. (Ontvanger), 30 mrt. 2022
Prijs: Anders › Werk, activiteit of publicatie gerelateerde prijzen (lifetime, best paper, poster etc.) › Wetenschappelijk
Activiteiten
-
POx/Al2O3 stacks for surface passivation of Si and InP
Theeuwes, R. J. (Spreker)
10 mei 2022Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Aangemelde presentatie › Wetenschappelijk
-
Excellent Surface Passivation of n+-doped Silicon by POx/Al2O3 Stacks with High Positive Fixed Charge Density
Theeuwes, R. J. (Spreker)
9 mei 2022Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Aangemelde presentatie › Wetenschappelijk
-
2022 MRS Spring Meeting & Exhibit, May 8-13, 2022, Honolulu, Hawai'i, May 23-25, 2022, Virtual
Theeuwes, R. J. (Deelnemer)
8 mei 2022 → 13 mei 2022Activiteit: Types deelname aan of organisatie van een evenement › Congres › Wetenschappelijk
Knipsels
-
Technische Universiteit Eindhoven gaat ‘twee keer zoveel studenten opleiden’ voor de chipsector
27/07/24
1 Mediabijdrage
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
-
Nearfield eist vanuit Rotterdam zijn plaats in de wereldwijde chipmarkt op
30/06/24
1 Mediabijdrage
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
-
Einde aan de panelenhonger: heeft zonne-energie nog toekomst in Nederland?
1/06/24
1 Mediabijdrage
Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar
Scripties/Masterproeven
-
Area-Selective Deposition of Ruthenium by Atomic Layer Deposition and Etching
Chen, H. (Auteur), Mackus, A. J. M. (Afstudeerdocent 1), Verheijen, M. A. (Afstudeerdocent 2) & Vos, M. F. J. (Afstudeerdocent 1), jun. 2020Scriptie/Masterproef: Master
Bestand -
Atomic layer deposition of thin film NbxTiyN for quantum applications
Nelissen, L. E. W. H. M. (Auteur), Peeters, S. A. (Afstudeerdocent 1) & Knoops, H. C. M. (Afstudeerdocent 2), 26 jan. 2024Scriptie/Masterproef: Master
Bestand -
Characterization of Intrinsic and Aluminum-doped ZnO Deposited by Spatial ALD
Broekema, T. M. P. (Auteur), Macco, B. (Afstudeerdocent 1), van de Loo, B. W. H. (Externe coach) & Kessels, W. M. M. (Afstudeerdocent 2), 22 sep. 2021Scriptie/Masterproef: Master
Bestand