Thermal CVD

  • J.J.M. Sanders (Manager)
Plasma & Materials Processing

Uitrusting/faciliteit: Uitrusting

    Uitrustingsdetails

    Tekst

    One of the two thermal CVD systems available in the PMP group. These systems are used for the growth of graphene and carbon nanotubes. The ovens can be heated up to 1200°C and the systems can be operated at atmospheric pressure and low pressure (down to 0.1 mbar). The following gases are available in the systems: hydrogen, argon, methane and ethanol.

    Contactinformatie

    Uitrustingshiërarchie

    Plasma and Materials Processing (PMP labs)
    Thermal CVD

    Vingerafdruk

    Verken de onderzoeksgebieden waarvoor deze uitrusting is gebruikt. Deze labels worden gegenereerd op basis van de gerelateerde outputs. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
    Volledige vingerafdruk bekijken