Uitrustingsdetails
Tekst
Reactive Ion Etching reactor for etching Polymer based materials like: Photo Resist, Polyimide and BCB using timed etch steps without endpoint detection.
×
![]()
Vingerafdruk
Verken de onderzoeksgebieden waarvoor deze uitrusting is gebruikt. Deze labels worden gegenereerd op basis van de gerelateerde outputs. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.