Oxford Oxide/Nitride PECVD

    Tjibbe de Vries (Manager)

Uitrusting/faciliteit: Uitrusting

    Uitrustingsdetails

    Tekst

    Parallel plate reactor. Deposition of nitride and oxide. Deposition of etching mask layers.

    Vingerafdruk Verken de onderzoeksgebieden waarvoor deze uitrusting is gebruikt. Deze labels worden gegenereerd op basis van de gerelateerde outputs. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.