Oxford Oxide/Nitride ICP PECVD

    Tjibbe de Vries (Manager)

Uitrusting/faciliteit: Uitrusting

    Uitrustingsdetails

    Tekst

    PE-CVD reactor in which the plasma is generated by an ICP-source. The system is equipped with a loadlock.

    Vingerafdruk Verken de onderzoeksgebieden waarvoor deze uitrusting is gebruikt. Deze labels worden gegenereerd op basis van de gerelateerde outputs. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.