Uitrustingsdetails
Tekst
Atomic layer deposition (ALD) reactor, both plasma assisted and thermal. Open load system equipped three precursors-inputs plus a separate H2O precursor input.
×
![]()
Vingerafdruk
Verken de onderzoeksgebieden waarvoor deze uitrusting is gebruikt. Deze labels worden gegenereerd op basis van de gerelateerde outputs. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.