Oxford Instruments OpAL

    J.J.M. Sanders (Manager)

Uitrusting/faciliteit: Uitrusting

    Uitrustingsdetails

    Tekst

    Atomic layer deposition (ALD) reactor, both plasma assisted and thermal. Open-load system for up to 200 mm wafers. Equipped with three precursors-inputs. Process monitoring available with in-situ spectroscopic ellipsometry, mass spectroscopy and optical emission spectroscopy during process. Has been used for instance for ALD of Al2O3, SiO2, ZnO and Al doped ZnO.

    Vingerafdruk Verken de onderzoeksgebieden waarvoor deze uitrusting is gebruikt. Deze labels worden gegenereerd op basis van de gerelateerde outputs. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.