Oxford Instruments FlexAL 2

    J.J.M. Sanders (Manager)

Uitrusting/faciliteit: Uitrusting

    Uitrustingsdetails

    Tekst

    Atomic layer deposition (ALD) reactor, both plasma assisted and thermal for up to 200 mm wafers. Equipped with a loadlock and three precursors-inputs. Automatic pressure control and turbo pump. Process monitoring available with in-situ spectroscopic ellipsometry, mass spectroscopy and optical emission spectroscopy during process. Has been used for instance for ALD of 2D-TMDs (two-dimensional transititon metal dichalcogenides) like TuS, MoS and more in the future.

    Vingerafdruk Verken de onderzoeksgebieden waarvoor deze uitrusting is gebruikt. Deze labels worden gegenereerd op basis van de gerelateerde outputs. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.