Uitrustingsdetails
Tekst
Atomic layer deposition (ALD) reactor, both plasma assisted and thermal. Equipped with a loadlock and four precursors-inputs.

×
Vingerafdruk
Verken de onderzoeksgebieden waarvoor deze uitrusting is gebruikt. Deze labels worden gegenereerd op basis van de gerelateerde outputs. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.