Oxford Instruments FlexAL 1

    Barathi Krishnamoorthy (Manager)
NanoLab@TU/e

Uitrusting/faciliteit: Uitrusting

    Uitrustingsdetails

    Tekst

    Atomic layer deposition (ALD) reactor, both plasma assisted and thermal. Equipped with a loadlock and four precursors-inputs.

    Contactinformatie

    Naam

    Uitrustingshiërarchie

    NanoLab@TU/e
    Oxford Instruments FlexAL 1

    Voorwaarden voor lenen / boeken

    Apparatuur: beschikbaar om te lenen/reserveren - intern en extern

    Vingerafdruk Verken de onderzoeksgebieden waarvoor deze uitrusting is gebruikt. Deze labels worden gegenereerd op basis van de gerelateerde outputs. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.