MBE Createc II/IV/VI

  • P.J. (René) van Veldhoven (Manager)
NanoLab@TU/e

Uitrusting/faciliteit: Faciliteit

    Uitrustingsdetails

    Tekst

    Molecular Beam Epitaxy (MBE) reactor to grow epitaxial layers, Nano-wires for II/IV/VI materials with Closed UHV system with load lock in Glovebox

    Contactinformatie

    Uitrustingshiërarchie

    NanoLab@TU/e
    MBE Createc II/IV/VI

    Voorwaarden voor lenen / boeken

    Apparatuur: beschikbaar om te lenen/reserveren - intern en extern

    Vingerafdruk

    Verken de onderzoeksgebieden waarvoor deze uitrusting is gebruikt. Deze labels worden gegenereerd op basis van de gerelateerde outputs. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.
    Volledige vingerafdruk bekijken