US Patent Issued to Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO on Dec. 8 for "Method of and system for determining an overlay or alignment error between a first and a second device layer of a multilayer semiconductor devic

Pers / media: Vakinhoudelijk commentaar

Periode9 dec. 2020

Media-aandacht

1

Media-aandacht

  • TitelUS Patent Issued to Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO on Dec. 8 for "Method of and system for determining an overlay or alignment error between a first and a second device layer of a multilayer semiconductor devic
    Media naam/outletUS Fed News
    Land/RegioVerenigde Staten van Amerika
    Release datum9/12/20
    PersonenHamed Sadeghian Marnani