Atomic Layer Etching of ZnO on 2D and 3D substrates, using acetylacetone and O2 plasma
- A. Mameli (Deelnemer)
- Verheijen, M. A. (Deelnemer)
- B. Karasulu (Deelnemer)
- Mackus, A. J. M. (Deelnemer)
- Kessels, W. M. M. (Deelnemer)
- F. Roozeboom (Uitgenodigde spreker)
Activiteit: Types gesprekken of presentaties › Genodigd spreker › Wetenschappelijk