Atomic Layer Etching of ZnO on 2D and 3D substrates, using acetylacetone and O2 plasma

A. Mameli (Deelnemer), Verheijen, M. A. (Deelnemer), Karasulu, B. (Deelnemer), Mackus, A. J. M. (Deelnemer), Kessels, W. M. M. (Deelnemer), Roozeboom, F. (Uitgenodigde spreker)

Activiteit: Types gesprekken of presentatiesGenodigd sprekerWetenschappelijk

Periode24 jul 201828 jul 2018
EvenementstypeCongres
LocatieKorea